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CRF-VPO-GT2633-B

  真空腔体动态旋转 ,确保样品能全⽅位处理;⽤于⽤于粉状粉末 ,颗粒状材料的表⾯清洗、 刻蚀、 活化、 接枝处 理 ,增加表⾯张⼒, 增强亲⽔性能。效果均匀 , ⽆死⾓ , 是微⼩颗粒及粉末样品表⾯处理的利器。

设备介绍

设备参数

应用领域

产品特点:

滚筒式真空等离子处理系统

真空腔体动态旋转 ,确保样品能全⽅位处理;

效果均匀 , ⽆死⾓ , 是微⼩颗粒及粉末样品表⾯处理的利器。

应⽤范围

适⽤于⽤于粉状粉末 ,颗粒状材料的表⾯清洗、 刻蚀、 活化、 接枝处 理 ,增加表⾯张⼒, 增强亲⽔性能。

    • 商品名称: CRF-VPO-GT2633-B

      真空腔体动态旋转 ,确保样品能全⽅位处理;⽤于⽤于粉状粉末 ,颗粒状材料的表⾯清洗、 刻蚀、 活化、 接枝处 理 ,增加表⾯张⼒, 增强亲⽔性能。效果均匀 , ⽆死⾓ , 是微⼩颗粒及粉末样品表⾯处理的利器。

    产品特点:

    滚筒式真空等离子处理系统

    真空腔体动态旋转 ,确保样品能全⽅位处理;

    效果均匀 , ⽆死⾓ , 是微⼩颗粒及粉末样品表⾯处理的利器。

    应⽤范围

    适⽤于⽤于粉状粉末 ,颗粒状材料的表⾯清洗、 刻蚀、 活化、 接枝处 理 ,增加表⾯张⼒, 增强亲⽔性能。

    • 商品名称: CRF-VPO-GT2633-B

      真空腔体动态旋转 ,确保样品能全⽅位处理;⽤于⽤于粉状粉末 ,颗粒状材料的表⾯清洗、 刻蚀、 活化、 接枝处 理 ,增加表⾯张⼒, 增强亲⽔性能。效果均匀 , ⽆死⾓ , 是微⼩颗粒及粉末样品表⾯处理的利器。

    产品特点:

    滚筒式真空等离子处理系统

    真空腔体动态旋转 ,确保样品能全⽅位处理;

    效果均匀 , ⽆死⾓ , 是微⼩颗粒及粉末样品表⾯处理的利器。

    应⽤范围

    适⽤于⽤于粉状粉末 ,颗粒状材料的表⾯清洗、 刻蚀、 活化、 接枝处 理 ,增加表⾯张⼒, 增强亲⽔性能。


我们的合作伙伴

深圳市诚峰智造有限公司是一家专业致力于提供等离子设备及工艺流程解决方案的高新技术企业,作为一家等离子清洗机厂家,使用等离子体表面处理技术为客户解决产品表面处理问题。

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荣誉证书

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