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设备参数
应用领域
产品特点：
等离子体化学密度更大，化学反应更高，粒子活性更高，无需电极，装置寿命更长。
等离子体不带电，不会对精密电路造成损害，固态源适应不同工艺或更高的处理速度。
对不耐高温材料适应性强，如VR眼镜片、柔性屏幕的清洗温度低，无损伤材料风险。
应用范围：
大气直喷式微波等离子清洗设备广泛应用于汽车电子、LCD显示玻璃、VR眼镜片、柔性屏幕、半导体材料、光通讯、针对半导体芯片粘接前处理、塑封前处理、光刻胶去除、金属键合前处理等行业。液晶(LCD)制造行业:LCD基板镀ITO膜前清洗;LCD基片刻蚀，灌注液晶的前道，后道工序清洗。
设备参数：
-
- 商品名称: CRF-MA-MW200
大气直喷式微波等离子清洗设备广泛应用于汽车电子、LCD显示玻璃、VR眼镜片、柔性屏幕、半导体材料、光通讯、针对半导体芯片粘接前处理、塑封前处理、光刻胶去除、金属键合前处理等行业。液晶(LCD)制造行业:LCD基板镀ITO膜前清洗;LCD基片刻蚀，灌注液晶的前道，后道工序清洗。
产品特点：
等离子体化学密度更大，化学反应更高，粒子活性更高，无需电极，装置寿命更长。
等离子体不带电，不会对精密电路造成损害，固态源适应不同工艺或更高的处理速度。
对不耐高温材料适应性强，如VR眼镜片、柔性屏幕的清洗温度低，无损伤材料风险。
应用范围：
大气直喷式微波等离子清洗设备广泛应用于汽车电子、LCD显示玻璃、VR眼镜片、柔性屏幕、半导体材料、光通讯、针对半导体芯片粘接前处理、塑封前处理、光刻胶去除、金属键合前处理等行业。液晶(LCD)制造行业:LCD基板镀ITO膜前清洗;LCD基片刻蚀，灌注液晶的前道，后道工序清洗。
设备参数：
-
-
- 商品名称: CRF-MA-MW200
大气直喷式微波等离子清洗设备广泛应用于汽车电子、LCD显示玻璃、VR眼镜片、柔性屏幕、半导体材料、光通讯、针对半导体芯片粘接前处理、塑封前处理、光刻胶去除、金属键合前处理等行业。液晶(LCD)制造行业:LCD基板镀ITO膜前清洗;LCD基片刻蚀，灌注液晶的前道，后道工序清洗。
产品特点：
等离子体化学密度更大，化学反应更高，粒子活性更高，无需电极，装置寿命更长。
等离子体不带电，不会对精密电路造成损害，固态源适应不同工艺或更高的处理速度。
对不耐高温材料适应性强，如VR眼镜片、柔性屏幕的清洗温度低，无损伤材料风险。
应用范围：
大气直喷式微波等离子清洗设备广泛应用于汽车电子、LCD显示玻璃、VR眼镜片、柔性屏幕、半导体材料、光通讯、针对半导体芯片粘接前处理、塑封前处理、光刻胶去除、金属键合前处理等行业。液晶(LCD)制造行业:LCD基板镀ITO膜前清洗;LCD基片刻蚀，灌注液晶的前道，后道工序清洗。
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