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4D智能集成等离子处理系统CRF-APO-IP-XXHD-DXX
4D 直喷

4D智能集成等离子处理系统CRF-APO-IP-XXHD-DXX

零售价
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市场价
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浏览量:
1000
型号:
CRF-APO-IP-XXHD-DXX
所属分类
喷射型系列
数量
-
+
库存:
0
4D 直喷
产品概述
参数
设备参数
产品概述
单个处理系统可携带2-4个各种类型等离子喷枪,全网络匹配、智能集成一体化;
具有更节省空间、更多种类型的应用;
具有RS485/RS232、启停I/O控制模式、方便快捷、降低成本;
使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境。
 
产品特点
可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本;使用寿命长,保养维修成本低。
 
应用范围
主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
 
除气体分子、离子和电子外,智能集成等离子处理系统等离子体中也有受能量激起的电中性原子或原子团(也称之为自由基),以及由等离子体传出的光。其光波长短,能使紫外线在等离子体与化学物质表层相互影响中起着关键功效。下列各自详细介绍它们的功效。

原子团等氧自由基在物件表层产生功效:
由于这些自由基全是中性电荷平衡的,存在时间长,而且在等离子体中比离子多,因此自由基在等离子体中起着关键作用。智能集成等离子处理系统在化学反应过程中,自由基的作用具体表现用能量传送的“活化”功效,在激发情况下,自由基的能量较高,因而非常容易与物件表层的分子结合,造成新的氧自由基,新产生的自由基也处在不稳定的高能量情况下,有可能产生分解反应,在变为小分子同时另外造成新的自由基,这一过程还很有可能再次发生,将其溶解为水、二氧化碳等简易分子,在其他的状况下,自由基与物件表层分子结合时,还会继续造成很多的结合能,这一能量也是引起新的表面反应的驱动力,从而引起物件表层的化学物质产生化学反应而被消除。

电子与物体表层:
物体表层的撞击,一方面促进吸咐在表层的气体分子分解或吸咐,另一方面很多的电子撞击则有益于引起化学反应。由于电子质量十分小,因此比离子挪动得迅速。等离子体处理时,电子会比离子较早地抵达物体的表层,进而使物体表层含有负电荷,进而有益于引起进一步的反应。
 
离子与物体表面的作用:
一般所说的是带正电荷的阳离子的作用,它们会加快奔向带负电荷的表层,在这个时候,物体表层会得到非常大的动能,足够撞击表层粘附的颗粒物性物质,大家称作溅射现象。另外,因为离子的冲击能够进一步提高物体表层产生化学反应的概率。
 
紫外线对物体表面的反应:
紫外线具备较强的光能,能使粘附在物体表面的物质的分子键破裂而分解,而且紫外线有较强的透过能力,能越过物体的表层,并能越过数微米深处产生作用。
 
总而言之,智能集成等离子处理系统等离子清洗机是运用等离子体中各种各样较高能物质的活性功效,将吸咐在物件表层的污渍彻底脱离和去除。广泛运用于包装、橡塑制品、通信、汽车、家用电器、光学、纺织品、半导体材料及精密机械制造等领域。
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名称(Name)

4D智能集成等离子处理系统

型号(Model)

CRF-APO-IP-XXHD-DXX

电源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率(Power)

800W*4set/25KHz

功率因素(Power factor)

0.98

等离子喷枪数量(Number of plasma   guns)

4(Max)

处理高度(Processing   height)

5-15mm

内部控制模式(Internal control   mode)

数字控制(Digital control)

外部控制模式(External control   mode)

RS485/RS232、模拟通讯口、启停IO(RS485/RS232、Analog communication port、ON/OFF I/O)

工作气体(Gas)

Compressed Air(0.4mpa)/N2(0.2mpa)

 

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