低温等离子体为什么能用于清洗:        低温等离子体听上去很复杂，实际上这是物质存在的1种状态，大多数时候物质都是以这3种我们所熟悉的状态：固态、气态、液态存在的，但是除了这3种状态，还有第四种特殊状态存在，这是在一种特殊的情况下，例如地球的大气层中电离层中的物质就是这第四种状态。         在真空低温等离子清洗机的真空腔内，等离子体是在射频电源的一定压力情况下产生的，而被清洗的产品的表面在这种无序高能量的等离子轰击，能够达到清洗的目的。        低温等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。        等离子清洗机中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。        如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。        诚峰智造有限公司专注于低温等离子体的研发与生产，如果您对等离子有什么疑问，欢迎前来咨询。

国产品牌CRF等离子设备的崛起你知道？       随着科技水平的提高，工业类产品更是发展迅速，国内的工业市场在经历了竞争阶段后正在逐步走向成熟，在技术已经成熟的等离子清洗设备行业，各个厂家都在不断的追求技术和功能的创新，很多高科技设备技术已经可以达到和国外接轨的水平了，随着对于等离子技术的科普以及不断的推广，目前国内企业已不再盲目追求一些国外品牌的等离子清洗设备，因为相较于国外设备，国内品牌具有以下3项优势。 第一：性价比高。不同于其他批量生产的设备，等离子清洗机需要根据客户需求去定制设备，价格并不低且无法缩减成本，但是国内品牌价格普遍低于国外品牌，并且在技术层面和产品服务，国内品牌并不逊色； 第二：贴近市场需求。相比较于进口品牌，国内品牌更加能应对客户的需求，并根据需求及时调整，解决更多的实际问题； 第三：售后服务。CRF等离子设备是高值的耐用品，虽然科技发展的很快，但是一台等离子清洗机使用周期并不短，在这种情况下，售后的维护和保修就显得尤为重要，国内品牌在出现问题的响应速度具有优势，并且可以提供使用以及上门售后，在最短的时间内解决客户的需求，真正做到免除买家后顾之忧。        综上所述，国内品牌对于国外品牌具有绝对优势，经过市场的竞争淘汰反复洗礼，国内品牌的质量越来越好，性价比越来越高，这是有目共睹的，国内制造业正处于加速攻关突破的阶段，我们将不留余力的进行技术探索，诚峰智造专注CRF等离子设备，为各行各业提供科学合理的清洗方式。  

关于plasma清洗的误区，来看看你有没有中招:        作为近几年崛起的新型高科技清洗工艺，plasma清洗机为许多生产制造企业提供了许多有效无污染的解决方案，但是大部分人对于plasma清洗都没有过接触，甚至闻所未闻，其实等离子清洗是属于1种干式清洗，时常是清洗的最后一道工艺，使用等离子设备，将气体激活变成plasma清洗，能去除表面的有机物和杂质，就可满足清洗效果。        那么，再清洗过程中，我们会接触到一些工业气体，还会接触到热辐射和紫外线等等，听起来这些词汇很可怕，那么就会有人问了，这是不是对人体有危害？那么诚峰智造今天就带大家走进这三个误区。        先说说这个工业气体，其实去处理材料用到等离子的时候，使用的气体主要是氩气氮气和氧气，本身这些气体是处于常温下，并且没有高于浓度，本身是不存在毒性的，再加上plasma清洗设备在使用的时候等离子体会进行结合与碰撞，在这种情况下气体也会发生改性，设备当中产生的高能量会解离电离子，也能将有害气体分子分解变成单质原子或者无害分子。并且运作的过程中有害气体会自动分解，消散在空气中，不存在毒性这种说法。        然后就是令人闻之色变的热辐射，其实设备在运转过程中，多少都会有一些热辐射，但是这些辐射非常小，甚至可以称之为微不足道，和我们日常使用手机的辐射差不多，而稍微有些频率较高的型号设备，会带有防电磁辐射的屏蔽罩，对于人体不会产生任何的影响， 在使用等离子清洗机的时候，会含有一些紫外线，但是无须担心，这种紫外线甚至低于正午太阳所产生的紫外线水平，相对而言，对于人体细胞是很安全的。        所以说，诚峰plasma清洗的应用面非常的广泛，除了对污染物的的多种清洗作用，还兼具了安全高效率的特点，只要操作得当，按照规定进行操作，可以说这是一种安全系数极高的清洗工艺。  

采用在SEMI领域真空等离子设备腔体的大小都可以满足客户的要求：        在SEMI领域接线键合前的处理。一个半导体通常有多个引脚，其中一个引脚不合格，这意味着整个半导体将被报废。氧化物的存在严重影响了引脚的质量。采用SEM真空等离子设备可以有用地清除键合区域的有机污染物，增加材料表面的张力，增强键合的拉力，大大提高半导体包装的合格率。       SEMI包装填充。半导体基材需要在填充前进行处理，避免分层，大大提高焊接面的活性，有用避免空焊，减少高填充材料的边缘高度和包容性，增强包装的机械强度，减少不一样原料的导热系数，增强产品的稳定性和寿命。         SEMI清洗机必须采用真空等离子体清洗机，由于SEMI领域真空等离子设备工艺控制良好，温度低，清洗也很全面，这些是常压等离子体清洗机无法做到的。只不过，半导体行业的等离子体清洗机有2种设计理念。         一种是在线真空等离子体清洗机，同时进入几个框架，清洗后自动送出。这种真空等离子体清洗机的设计理念具有清洗效果完全全面的优点，因为它是能力有限，真空等离子体清洗设备，如果生产能力大，成本增加一倍。         另一个是空腔室，空腔可以大或小，小3~5升可以做，大1000升也可以做，根据客户要求自由制作各种尺寸。很明显，清洁效果不像在线类型那么彻底，但生产能力很大。在实际情况下，SEMI行业一般采用空腔真空等离子体清洗机。只有少数行业对清洁要求特别高，但产能较低，将采用在线真空机，清洁铅框架。一般来说，只要调整过程，空腔SEMI领域真空等离子设备清洁过程就能完全满足SEMI行业的清洁要求。

CRF等离子清洗机活化后，led/oled/lcd等材料的性能评估？         在LED行业中，crf等离子清洗机有3个方面的场景应用。首先，基材在环氧树脂包填前应进行处理，以免断层；另外，基材在布线和点银胶前应进行处理，以清洗上述氧化物，提高其亲水性和粘度。          LED包装不仅需要保护灯芯，还需要透光。因此，LED包装对包装材料有特殊要求。在微电子包装的生产过程中，包括有机物、环氧树脂、光阻剂和焊接材料、金属盐等在内的各种指纹、焊剂、交叉污染、天然氧化、设备和材料，都会形成各种表面污染。这些污渍会对包装的生产工艺和质量产生重大影响。使用crf等离子清洗机机，确保工件表面与原子的密切接触，有效提高粘接强度，提高晶片键合质量，降低泄漏率，提高包装性能，生产和部件的可靠性。        由于其自发光、高亮度、高视角等优点，OLED(OLED)在显示和照明领域受到青睐，应用前景广阔。氧化锆锡（ITO）导电膜具有良好的导电性，透光率高，广泛应用于光电领域，常用作OLED阳极材料。在OLED中，ITO的表面特征，如表面有机污染物的含量、表面电阻器、表面粗糙度和功率等，对所有设备的性能起着关键作用，因为ITO可以立即接触到有机薄膜。现阶段解决ITO的关键方法分为物理和化学物理。解决CRF等离子清洗机的关键是解决方案。化学物理方法的关键包括酸碱解决方案、氧化剂解决方案和在ITO表面添加有机化合物和无机化合物。

MH-Ni丙纶电池处理前后crf等离子活化机改性相比较：         聚丙烯腈纤维有着较高的化学可靠性和较好的物理性能，占比和电阻值小，透气效果好，价格便宜，耗能低，无污染，是1种理想的电池隔膜基材。然而，因为聚丙烯腈纤维结构中没有润湿性官能团，结晶度高，纤维截面圆，结构致密，缺乏微孔和缝隙，其润湿性能极差。        为了能增强丙烯酸纤维隔膜对电解液的浸润特性，可选用浸润法和表面改性法处理。亲水基团在浸润法中，无法固定在隔膜材料表面的化学结合状况，因而寿命较短。等离子体表面改性主要是通过引入功能性亲水基团或沉积式亲水聚合膜，在丙烯酸纤维电池隔膜表面增强润湿性能，进而实现隔膜吸碱性能的增强。现阶段，大多数选用低温等离子体放电直接的处理。然而，因为其浓度低、处理效率低、表面污染和热应力等缺点，传统的低温plasma直接的放电处理方式 受限制。         射频放电等离子体浓度，可增加1个数量级，获得较高的聚合速率。同时，plasma是将实验样品放置在远离crf等离子活化机处理区的位置。活性粒子在远程区域的能量适中。等离子聚合反应有着反应温和、副作用小、可控性强、易于控制的聚合接枝膜结构等优点。        crf等离子活化机改性处理碱性二次电池一MH-ni电池用隔膜，crf等离子活化机处理条件对聚丙烯膜膜膜的特性影响。膜膜吸碱量高，可有效减少电极反应的电化学极化和浓度差极化，充分减少电池充放电过程的内阻，使放电反应更充分、更完整，增强了活性物质的利用率。