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喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-R&D-RXX
11旋转式

喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-R&D-RXX

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浏览量:
1000
型号:
CRF-APO-R&D-RXX
所属分类
喷射型系列
数量
-
+
库存:
0
11旋转式
产品概述
参数
设备参数
产品特点:
常压等离子表面处理机可选配多种类型等离子喷枪和喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;
设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间;
可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本;
使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制。
 
应用范围:
等离子体清洗仪清洗机主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
 
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名称(Name)

喷射型AP等离子处理系统(Jet type plasma processing system)

等离子电源型号(Plasma power   model)

CRF-APO-R&D-XXXD

旋转喷式等离子喷枪型号(Direct jet type plasma spray gun modet)

旋喷式:RXX(Option:20mm-80mm)

电源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率(Power)

1000W/25KHz(Option)

功率因素(Power factor)

0.8

处理高度(Processing   height)

5-15mm

处理宽幅(Processing width)

旋喷式:20-80mm(Option)

内部控制模式(Internal control mode)

数字控制(Digital control)

外部控制模式(External conteol mode)

启停I/O(ON/OFF I/O)

工作气体(Gas)

Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)

电源重量(Power weight)

8kg

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