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诚峰智造真空等离子机为您介绍等离子体处理腔体类型和结构

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发布时间:

2021-03-12

诚峰智造真空等离子机为您介绍等离子体处理腔体类型和结构:
        之前介绍了PEF等离子体处理装置的基本原理、典型模型及影响因素等内容,并指出PEF等离子体的性能对处理效果有很大影响。接着,重点介绍了PEF真空等离子机腔体的主要类型和结构。从目前的处理室类型来看,常用的处理室有平板、同轴和同场三种。

诚峰智造真空等离子机
        前期的真空等离子机腔体主要采用平板式处理室,常用于间歇操作,将样品预先放入处理室,然后进行PEF等离子处理,这种处理方式一般主要用于对少量昂贵样品的理论研究,后期的处理室逐渐发展为流动处理,即处理样品经进料泵进入处理室,再进行PEF等离子脉冲处理,然后流出处理室;在处理过程中,将处理样品进出处理室和PEF等离子化处理一步到位。该方法主要用于PEF真空等离子机等离子体的工业化应用,也是现阶段研究所采用的主要处理方法。
        对于PEF真空等离子机处理腔体的结构,通常采用防腐蚀不锈钢电极和聚四氟乙烯外壳,还有碳电极和陶瓷外壳,但是它们的防腐蚀性能还不清楚;其次,处理室的设计也必须满足高压绝缘的要求。另外,处理室结构设计要充分考虑电场分布情况,还应考虑样品流体场、温度场的分布。
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