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OLED显示器用大气常压等离子清洗设备应用

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发布时间：

2023-05-15

OLED显示器用大气常压等离子清洗设备应用：
O2主要运用于反应有机物质的plasma气体、Ar和等。在这当中，氩气plasma的清洗方法通常是表面物理溅射。Ar离子在电场获得足够的能量轰击表面，去除表面分子和原子，去除表面污染物，提高表面粘附功能，改变表面粗糖度。鉴于Ar是惰性气体，不和材料表面反应，可以处理一些易氧化物质的表面。但是也有对表面造成极大的损伤和热效应。
O2等离子体和H2等离子体具有活性化学性质，是等离子体清洗中典型的化学反应清洗。常压等离子清洗设备能有效去除有机物，中性氧原子具有非常活性的化学性质，能迅速与有机污染反应，产生挥发性气体（CO、CO2和H2O与物体表面分离，但该方法不适用于处理易氧化材料。H2等离子体通过活性H原子的还原，可以轻松去除金属表面的氧化层，也可以与有机碳氧化合物反应产生挥发性物质，如CH4。化学清洗的特点是速度快，选择性好。
在包装过程中，设备和材料表面的各种污染会明显影响包装生产和产品质量，常压等离子清洗设备清洗技术，不受真空条件的限制，容易去除生产过程中形成的分子水平污染，显著提高包装的可靠性和产品成品率。它可以集成到自动生产线上，以清洁高一代和大尺寸的基板。
在生产过程中，光刻技术占很大比例。为了在基板上形成图形化，需要使用大量的光刻胶。当光刻胶沉积在机器设备上时，不仅会影响设备的运行，还会加速设备的老化，需要定期清洗。常规清洗需要拆卸和组装设备，非常不方便。常压等离子喷枪的等离子射流可以很容易地处理一些难以到达的间隙。
常压等离子清洗设备在OLED生产过程中起着非常重要的作用，但传统的等离子体清洗机受到真空条件和腔容量的限制，不能处理大型基板和不规则部件。常压等离子清洗设备突破了真空的限制，具有广阔的发展前景。