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从微观上解析低温等离子体表面处理的主要形式

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发布时间：

2023-07-04

从微观上解析低温等离子体表面处理的主要形式：
等离子体表面处理是一种基于等离子体中产生的电子、离子、活性微粒和紫外线等和处理材料的表面相互作用，对处理材料表面进行灭菌、清洗、接枝和功能化等性能达到提高为目的方法。低温等离子体表面处理具有效率高、速度快、功能多、可大面积工业化运行等特点。目前不论在航空航天、微电子行业、显示器、半导体工业等高端产业，在印刷、包装、纺织等和日常生活紧密相关的领域，等离子体改性在越来越多被应用。采用低温等离子体表面处理可以在较低的温度下实现基体的高表面能、高附着力、高附加值。
低温等离子体表面处理是低气压放电（电晕、高频和微波等）产生的电离气体，在电场的作用下，气体中的自由电子从电场获得能量成为高能量电子。这些高能量电子与气体中的分子、原子碰撞，如果电子的能量大于分子或原子的激发能就会产生激发分子或激发原子自由基、离子和具有不同能量的辐射线，低温等离子体中的活性微粒（可以是化学活性气体、惰性气体或金属元素气体）具有的能量一般都接近或超过Ｃ－Ｃ键或其他含Ｃ键的键能。我们通过离子轰击或注入聚合物，气体产生断键或引入官能团，使表面活性化以达到改性的目的。