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crf等离子表面处理仪工作时发生了哪些物理作用？

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发布时间：

2023-05-01

       crf等离子表面处理仪在处理产品时会出现物理和化学反应，包含多种物理成效，物理效果也是影响等离子体清洗机处理成效的关键因素，今天我们将解释等离子体清洗机在处理产品时的物理成效。
1、粘附和解吸附作用
       粘附通常来自于入射分子与表面之间的吸引力，可分为物理吸附和化学吸附。物理吸附来自于分子与表面之间的弱相互作用。这个过程是放热的，但它与表面的结合可能很弱，粘附后会迅速从表面扩散。化学吸附是粘附原子或分子，与表面原子形成化学键，过程中会有强放热。
       解吸附作用发生在等离子体与产品表面接触的界面上。电子、离子、光子和中性粒子将能量传递给吸附在产品表面的原子或分子，使这些原子或分子克服吸附力，离开固体表面。在这个过程中，通常有离子解吸、电子解吸、中性粒子解吸和光解吸。
2、溅射作用
       溅射的物理机制是动量的转移过程。当高能离子或中性粒子与产品发生作用时，能量可以传递给材料中的原子或分子，使材料中的原子或分子获得高于组合能的动能，并从表面溅出。
3、注入作用
      产品表面通过具有一定能量的离子或中性粒子进行轰击，可引起结构变化，增加表面分子量，损坏晶格，造成缺陷或非晶体。此外，使用等离子体将离子注入金属表面可以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。注入最大的特点是控制注入能量和剂量，达到理想的表面改性成效。
4、刻蚀作用
       crf等离子表面处理仪的蚀刻作用是将等离子体中的颗粒与材料表面的原子或分子结合，产生挥发性物质，实现固体表面的蚀刻。
5、复合作用
       在物体碰撞中，正负带电颗粒碰撞复合，第三体为固体壁或固体表面，其中固体壁加速了复合过程。
6、激发和电离作用
       在crf等离子表面处理仪对产品表面的处理过程中，表面被束缚在原子或分子量子能级上的电子也会受到光子或入射电子的轰击，光电子的内部能量会随着能级的不同而形成光电子谱。