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CRF微波等离子清洗机是工业半导体生产中必不可少的设备

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发布时间:

2022-09-10

CRF微波等离子清洗机是工业半导体生产中必不可少的设备:
       crf微波等离子清洗机是频率为2.45GHZ清洗半导体制造中的晶片.去胶和等离子体前处理,微波等离子体清洗.去胶活性高,对设备无离子损伤。CRF微波等离子清洗机是微波等离子处理技术的新产品,成本低,尺寸适中,性能先进,特别适合工业生产和科研机构。
       微波等离子体清洗机气体接触电子区域形成等离子体,产生的离子化气体和释放的高能电子形成气体等离子体。除非它们通过电场加速,否则离子化气体原子的动能相对较小。当加速时,它们释放出足够的力,与表面驱动紧密结合,附着在材料或蚀刻表面。等离子体效应转化为材料蚀刻过程,分子级使用活性气体也会产生化学反应。

微波等离子清洗机半导体微波等离子体去胶机的优点:
1.快速彻底地脱胶。
2.样本不受损坏。
3.运行简单.安全。
4.设计简洁.美观。
5.产品性价比高。
       微波等离子清洗机是半导体行业不可缺少的设备,从事微加工工艺研究,主要用于半导体等膜加工工艺,干燥去除各种光刻胶.基片清洗.电子元件的开封等。研究方向:等离子体表面改性、有机物表面等离子体清洁、等离子体蚀刻、等离子体灰化、增强或减弱渗透性等。
       crf微波等离子体清洗机外观简单,系统高度集成,采用模块化设计,适用于半导体、生物技术、材料等领域。优越的性能可以提供优秀的工业控制.故障报警系统和数据采集软件。能满足科研要求。.严格控制生产等

 

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