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CRF诚峰低温等离子发生器去除光学器件表面微观污染物

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发布时间:

2022-05-03

CRF诚峰低温等离子发生器去除光学器件表面微观污染物:
       光学元件低温等离子发生器技术的终极目标是清除粘附的有机化学污染物质,恢复元器件的光电特性和表层样式,不减低其抗污染性。
       crf诚峰低温等离子发生器主要是基于等离子放电形成的大量特异性颗粒物。在相应环境下,这一些特异性颗粒物会与被清洁物品的表层污染物质形成响应,实现清洁功效。

        低温等离子发生器主要分为两个响应历程。在化学变化历程中,特异性粒子与有机分子结合,形成新的不稳定官能团,终极分解为挥发物CO2和水;在物理反应历程中,特异性粒子以相应的速度和能量冲击清洁物品表层,克服分子与表层的结合,分解或脱落表层污染物质分子,实现清洁的目标。
       低温等离子发生器一般在真空环境中进行,在低压环境下,电子、中性粒子和离子几乎没有碰撞和能量损失,增加颗粒物碰撞前的距离,增加特异性颗粒物碰撞表层和污染物质的可能性,同时由于真空腔方向不强,有利于清洁表层有松散的多孔结构涂层光学元件。
       在低温等离子发生器有机化学污染物质的微观响应历程中,形成含有C=O键的不稳定中间物质,通过一定时间的响应,等离子可以完全分解有机化学污染物质。
       低压低温等离子发生器能有效恢复光学元件的选择特性和抗激光损伤特性;能有效清除粘附在光学元件表层的有机化学污染物质,无二次污染;能有效恢复光学元件的表层样式,实现光学元件的综合恢复功效。
       低压等离子清洁不会改变光学元件的增透膜成分,响应历程中会形成表层羟基,提高元器件的表层自由能和极性重量,显著提高元器件的表层湿度;不会损坏光学元件,提高元器件的抗有机污染能力。
       与湿法清洁工艺相比,等离子清洁不需要强酸、强碱等溶液,不需要后期干燥工艺,也不需要废水处理要求,是一种简单、高效、经济、环保、无二次污染的清洁方法。

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