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诚峰智造厂CRF研发的等离子体发生器可增强IV封装的品质

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发布时间：

2022-04-10

诚峰智造厂CRF研发的等离子体发生器可增强IV封装的品质：
诚峰智造厂CRF研发的等离子体发生器主要用于清洁液晶面板的活化气体是氧等离子体。等离子体清洁以清除油污和有机污染物颗粒，因为氧等离子体可以氧化有机物并形成气体排放。增强偏光板粘贴的成品率，大大提高电极与导电膜的附着力，提高产品质量和稳定性。
等离子体发生器事实上是1种精度高的干式清洁设备。等离子体处理设备的清洁范围为纳米级有机和无机污染物。低压气体光等离子体主要用于等离子体发生器的处理和应用。一些非聚合物无机气体（Ar.N2.H2.O2等）受到高频和低压的刺激，产生各种活性粒子，如离子、激发态分子和自由基。
等离子体发生器的处理可分为两类：一种是稀有气体的等离子体（如Ar.N2等）；另一类是反应性气体的等离子体（如O2.H2等）。这些活性粒子可以与表面材料发生反应，并刺激态分子清洁活化表面。等离子体产生的原理如下：对一组电极施加射频电压（频率约为几十兆赫兹），在交变电场的冲击下，在电极之间形成高频交变电场区域内的气体产生等离子体。活性等离子体对被清洁物体进行表面物理轰击和化学反应，使被清洁物体的表面物质变成颗粒和气体物质，通过抽真空排出达到清洁的目的。随着LCD工艺水平的快速发展，LCD制造技术的极限不断受到挑战，并发展成为代表制造技术的前沿技术。在清洁行业，清洁的要求也越来越高，常规清洁不能满足要求，等离子体发生器更理想地解决了这些精密清洁的要求，满足了当今的环境保护情况。
集成电路包装的质量对微电子设备的可靠性有决定性的影响。键合区域必须无污染物，并具有良好的键合特性。氧化物、有机残留物等污染物的存在会严重削弱导线键合的张力值。传统的湿清洁不能清除或不能清除键合区域的污染物，等离子体发生