新闻资讯

NEWS

公司动态

业界动态

技术支持

诚峰智造浅谈等离子清洗机的3种清洗形式

关键词：

发布时间：

2023-05-25

CRF等离子清洗机干洗方式分成化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。根据不同的清洗产品可挑选O2、H2和Ar等工艺气体进行短暂的表面处理。
一、以化学作用为主导的清洁
使用PLASMA里的高活性官能团与工件表面的有机物等做化学作用。采用O2进行清洁，使非挥发性的有机物变成易挥发的形状，生成CO2、CO和H20。化学清洗速率高、挑选性好和对清洗有机污染物较为有效，主要缺点是生成的氧化物可能会在工件表面再次产生。在引线键合工艺中，氧化物是不希望有的，这些缺陷可以通过恰当挑选工艺参数进行预防。
等离子清洗机二、以物理反应为主导的清洁
使用等离子体里的离子做纯物理的轰击，把材料表面附着的原子打掉。采用氩气进行清洁，氩离子以足够的能量轰击器件表面，碰击力足以去除任何尘垢。聚合物中的大分子化学键别离成小分子而汽化，通过真空泵排出。一同通过氩等离子清洗后，能够改动工件表面的微观形状，使材料在分子级范围内变得更加“粗糙”，可大幅改进表面活性，前进表面的粘结性能。氩等离子的利益是收拾工件表面不会留下任何氧化物。缺点是可能产生过量腐蚀或污染物颗粒重新积累在其他不希望的区域，但是这些缺陷可通过细调工艺参数得到操控。
三、物理化学反应一同存在的清洁
反应中物理反应与化学作用均起着至关重要的作用的清洁。如采用Ar和O2的混合气体进行在线式等离子清洗过程时，反应速率比单独使用Ar或O2都要快。氩离子被加快后，产生的动能又能前进氧离子的反应才干，因而用物理化学办法可去除污染较为严峻的工件表面。