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单晶圆等离子体发生器为何在半导体产业中影响力会提(升)？

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发布时间：

2021-09-09

就世界范围内的市场份额而言，2008年以来，单晶圆清洁设备已经超过了自动清洗机成为主要的等离子发生器，而这一年是业界引入四十五nm连接点的时候。按照ITRS的说法，2007年实现的是四十五nm工序连接点的量产。松下、英特尔、IBM、三星等。在这段时间開始批量生产加工四十五nm。2008年底，中芯国(际)获得了IBM批量生产加工四十五纳(米)工序的授(权)，成为中国首(家)向四十五nm迈进的中国半导体公司。
此外，在2008年前后两个阶段，市场份额较高的等离子体发生器趋势与半导体行业销售趋势一致，体现了清洁设备需求的稳定性；单晶圆清洁设备主导市场后，占总销售额的比例明显增加（显著），体现了单晶圆清洁设备和清洗工序在半导体材料产业发展中的影响力。这种市场份额的变化是工序连接点缩小的必然结果。
根据市场对半导体材料估计，就每月生产10万片晶圆的20nm的DARM厂来说，产量下降1％将导致每年利润减少30致50百万美元，而逻辑芯片厂商的损失更高。此外，产量的降(低)还将增加厂商原本已经十(分)高昂的资本支出。因而，工序的优化和控制是半导体材料生产制程的重中之重，厂商对于半导体行业的需求也变得越来越高，清洗流程尤为如此。对于20nm以上的区域，清洗流程的数量超过所有工序流程的30%。从16/14nm连接点开始，由3D晶体管结构、前端和后端更复杂的集成、EUV光刻等因素驱动，工序流程的数量明显增加，对清洗工序和流程的需求也明显增加。
工序连接点缩小挤压良率，推动等离子体发生器需求提(升)。鉴于工序连接点持续缩小，需求半导体公司在清洁生产工艺上持续突破，提高对等离子发生器参数的需求。对正在寻求先进工艺连接点芯片生产方案的制造商而言，有效的非破坏性清洗将是一项重大挑战，特别是10nm、7nm更小的芯片。要扩展摩尔定律，芯片制造商必须能够从平坦的晶片表面去除较小的随机缺陷，而且还必须能够适应更复杂、更精细的3D芯片结构，以避免损坏或材料损失而降低(低)产量和利润。单晶圆等离子体发生器为何在半导体产业中影响力会提(升)？
就世界范围内的市场份额而言，2008年以来，单晶圆清洁设备已经超过了自动清洗机成为主要的等离子发生器，而这一年是业界引入四十五nm连接点的时候。按照ITRS的说法，2007年实现的是四十五nm工序连接点的量产。松下、英特尔、IBM、三星等。在这段时间開始批量生产加工四十五nm。2008年底，中芯国(际)获得了IBM批量生产加工四十五纳(米)工序的授(权)，成为中国首(家)向四十五nm迈进的中国半导体公司。
此外，在2008年前后两个阶段，市场份额较高的等离子体发生器趋势与半导体行业销售趋势一致，体现了清洁设备需求的稳定性；单晶圆清洁设备主导市场后，占总销售额的比例明显增加（显著），体现了单晶圆清洁设备和清洗工序在半导体材料产业发展中的影响力。这种市场份额的变化是工序连接点缩小的必然结果。
根据市场对半导体材料估计，就每月生产10万片晶圆的20nm的DARM厂来说，产量下降1％将导致每年利润减少30致50百万美元，而逻辑芯片厂商的损失更高。此外，产量的降(低)还将增加厂商原本已经十(分)高昂的资本支出。因而，工序的优化和控制是半导体材料生产制程的重中之重，厂商对于半导体行业的需求也变得越来越高，清洗流程尤为如此。对于20nm以上的区域，清洗流程的数量超过所有工序流程的30%。从16/14nm连接点开始，由3D晶体管结构、前端和后端更复杂的集成、EUV光刻等因素驱动，工序流程的数量明显增加，对清洗工序和流程的需求也明显增加。
工序连接点缩小挤压良率，推动等离子体发生器需求提(升)。鉴于工序连接点持续缩小，需求半导体公司在清洁生产工艺上持续突破，提高对等离子发生器参数的需求。对正在寻求先进工艺连接点芯片生产方案的制造商而言，有效的非破坏性清洗将是一项重大挑战，特别是10nm、7nm更小的芯片。要扩展摩尔定律，芯片制造商必须能够从平坦的晶片表面去除较小的随机缺陷，而且还必须能够适应更复杂、更精细的3D芯片结构，以避免损坏或材料损失而降低(低)产量和利润。