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射频等离子设备通常情况下用的是什么电源

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发布时间:

2021-08-24

       常用的射频等离子设备有三种刺激頻率:刺激頻率为40kHz的等离子技术为超声波等离子技术,13.56兆赫兹的等离子技术为射频等离子技术,2.45GHz的等离子技术为微波等离子技术。由于超声波等离子技术产生的自偏压不同,超声波等离子技术的自偏压约为1千伏,射频等离子技术的自偏压约为250伏,微波等离子技术的自偏压极低,三种等离子技术的机理也不同。
射频等离子设备       超声射频等离子设备技术的反應是物理反应,射频等离子技术设备的反應是物理和化学反应,而微波等离子技术的反應是化学反应。超声等离子清洗对清洗表面影响很大,所以在实际的半导体生产应用中,多选用射频等离子设备和微波等离子清洗。超声等离子技术对等离子技术表面进行物理清洗,除胶、毛刺磨光等,具有很好的物理清洗(效)果,典型的RF等离子技术设备是在反應室中加入AR用作輔助处置的等离子技术清洗,而AR自身是稀有气体,等离子技术AR不与表面反应,而是通过离子体轰击来清洗表面。
       射频等离子设备技术选用RF电源,也就是说,我们的射频等离子设备和RF等离子设备的区别在于它们所使用的匹配电源。RF是高频交流变化电磁波的射频电流量。低頻率电流量被称作1秒一千次的交流电压,超过一万次的称之为高频电流量,射频就是这种高频电流量。这样区分这两种设备就很容易了。

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