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在相应的压力条件下，真空等离子设备装配射频电源可以产生较高的能量

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发布时间：

2021-08-12

在相应的压力条件下，真空等离子设备装配射频电源可以产生较高的能量
一、真空等离子清洗的基本原理
等离子是物质的一种状态，通常有三种状态，但在某些特殊情况下，有第四种状态，如闪电、荧光灯、日冕等。电浆状态下有高速运动的电子、中性原子、分子、活化状态的原子团(自由基)离子化原子、分子未反应的分子、原子等，但物质整个的上仍保持电中性。
產品外层受等离子体跃迁，在相应的压力下产生高能无序等离子体，用等离子体跃迁真空腔清洁產品外层。
二、真空等离子设备清洗6大特点
作为材料外层改性的重要手段，真空等离子设备清洗已被广泛应用：
1)真空等离子设备处理温度低，处理温度低到80℃以下，50℃以下，保证样品外层不受热影响。
2)由于在真空中进行，不污染环境，保证清洁面不受二次污染，整个的过程无污染，配合原生产线实现全自动在线生产，节省人工成本。
真空等离子清洗设备可以防止用户受到有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了用湿法清洁时容易清洁对象的问题。
4)真空等离子设备清洗，可大幅提高清洁速率。在数分钟内就可以实现整个的清洁过程，有产率高的特点。
5)真空等离子设备清洗可不分处理对象，可处理多种材料，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)。尤其适用于不耐高温及不耐溶剂的材料。同时也可有选择性地部分清洁整个的、局部或复杂结构。
6)采用真空等离子设备进行清洁，避免了清洗液的运输、储存、排放等处理措施，使生产现场易于保持干净卫生。