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Plasma清洗与UV光清洗的区别对比

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发布时间：

2020-09-07

plasma清洗设备与UV光清洗设备的区别对比：

plasma清洗设备介绍及其原理：

等离子体：

等离子体是一种由自由电子和带电离子为主要成分的物质形态，广泛存在于宇宙中，常被视为是物质的第四态，被称为等离子态，或者“超气态”，也称“电浆体”。等离子体的自然存在包括闪电、北极光，是由电子、离子、自由基、中性粒子、及光子组成.。等离子体本身是含有物理和化学活泼粒子的电中性混合物。这些活泼自由基粒子能够做化学功, 而带电原子和分子通过溅射能够做物理功。通过物理轰击和化学反应, 等离子设备工艺能够完成各种材料表面改性, 包括表面活化、污染物去除、刻蚀等功效。

等离子技术：

去除金属、陶瓷、及塑料表面有机污染物以改善粘接性能，这是因为玻璃、陶瓷和塑料基本上是没有极性的，因此这些材料在进行粘合、油漆和涂覆之前要进行表面活化处理。通过表面活化、蚀刻、表面沉积，等离子技术可以改善绝大多数物质的性能：洁净度、亲水性、粘结性、润滑性、耐磨性等。

等离子清洗原理：

给一组电极施以射频电压（频率约为几十兆赫兹），电极之间形成高频交变电场，区域内气体在交变电场的激荡下，形成等离子体，活性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用，使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，而达到清洗目的。

plasma清洗设备与UV光清洗设备对比：


不同/类别	plasma清洗	UV光清洗
清洗方法	化学+物理	氧化反应
适应范围	可处理各种基材	不适用于氧化物
真空度要求	约为100Pa（仅真空设备）	常温、常压
能量	大	小
清洗后状态	不会受到损伤	不会受到损伤
清洗效果	较好	好
可靠性	高	高
表面清洗均匀度	较高	一致
表面改质	较好	较好