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等离子体清洗机设备_清洗技术优于传统湿法清洗工艺

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发布时间：

2021-07-15

等离子体清洗设备选用汽体用作清洁物质，不会出现液体清洁物质对被清洁物质造成的二次污染。等离子体清洗机设备工作时，真空清洁腔内的等离子体轻轻清洁被清洁物质的表面，短时间清洁可以彻底清洁污染物，同时污染物被真空泵抽走，清洁程度可以达到分子级。
SirWilliamCrokes于1879年发现了等离子体。等离子体清洗设备起源于20世纪初，用于工业。随着等离子体物理研究的深入，其应用越来越广泛，在许多高科技领域占据着关键技术的地位。等离子体清洗机设备清洗技术对工业发展和现代文明影响很大，是电子信息产业，尤其是半导体产业和光电产业的发展有着长足的发展。
现阶段，物理化学清洗方法大致可包含湿式清洗和干式清洗。等离子体清洗机设备在干式清洁中发展迅速，优势显著。等离子体清洗机设备逐渐广泛应用于半导体制造、微电子封装、精密机械等行业。湿式清洁应大量使用酸碱等化学物质，清洁后产生大量废气和废液。当然，湿式清洁在清洁过程中仍然占据主导地位。但从对自然环境的危害和材料的损耗来看，干式清洁显著优于湿式清洁，应该是未来清洁方法的发展方向。
CRF从事等离子体清洗机设备行业10年，是国内较早从事R&D真空和大气低温等离子体工艺、射频和微波等离子体工艺产品研发和销售的高新技术企业之一。在这环节，企业产品研发的等离子清洗设备有常压、真空、在线和大气常压等离子清洗机。产品广泛应用于微波印刷电路、FPC、触摸屏、LED、医疗行业、培养皿处理、材料表面改性和（活）化等领域。