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真空等离子清洗机相较于大气等离子清洗机有什么特点

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发布时间：

2021-07-12

真空等离子清洗机是一种释放等离子体来去除表面污垢的清洗设备。真空等离子清洗机属于电子工业干洗，是在真空泵生产过程中产生符合清洗要求的真空状态，等离子清洗可通过既定的气体分子进行真空、电离等特殊场合，如低压气体亮等。简而言之，等离子体清洗要求在真空中进行(通常约100pa)，所以要求真空泵。
真空等离子清洗机的通常工艺是：首先，将工件固定在真空室内，经由真空泵等设备启动真空电离到十pa左右；然后将等离子清洗体：O2、H2、Ar、N2的不同气体和清洗材料根据工艺要求导入真空室，并保持压力约为100pa；在真空室内的电极和接地装置之间加入高频电压，使气体渗进去，等离子体被辉光放电离化；当等离子体可以覆盖在真空室内后开始清洗工作，清洗过程将持续数十秒到数分钟。全过程依靠等离子体在电磁场中的运动，轰击处理物体表面，多数需要高能量、低电压进行物理清洗。在轰击表面之前，原子和离子的速度达到了。由于等离子体加速，所以要求很高的能量，所以等离子体中的原子和离子可以加速。在原子碰撞之前，要增加平均距离，即路径越长，离子轰击洁净产品表面的几率就越大，就要求低电压。这样就达到了表面处理、清洗、刻蚀的效果(清洗过程在一定程度上是一个轻微的刻蚀过程)；清洗之后，污垢和气体排放，空气回归正常大气压。
真空等离子清洗机清洁过程中，真空泵控制真空腔时，气体的流速决定了真空泵的发光颜色：如果颜色重，真空度低，气体流量大；若超长真空而气体流量太小，真空泵的真空度就是根据规定要求的处理效果来确定。
真空等离子清洗机适用于混合集成电路、单片集成电路套管、陶瓷衬底的清洗，可用于半导体、厚膜电路、封装前元件、硅蚀刻、真空电子、连接器、继电器等的清洗。也可用于塑料、橡胶、金属和陶瓷的表面（活）化以及科学试验。