深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

低温等离子技术主要用于热核聚变反应的研究

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-22
  • 访问量:

【概要描述】 低温等离子技术,以技术产业为基础的新经济时代将成为二十一世纪全球经济的主导的模式。科技与产业的搭配对经济增长模式的转变起着决定性的作用。这一种搭配在开放性的市场环境中,直接表现为科技创新成果转化为商品。这一种过程所涉开发、中试、生产、管理和营销等诸多科技领域,是科学创新、铸造工艺与投资决策高度集成的系统工程。系统的风险在投资介入时会达到很大的价值。因此,支持投资决策的经营方式是科技创新产业化成败的最为关键的。考虑到我国现阶段知识水平和资本水平普遍分离的现状,一般来说风险投资主体不能有完善的投资高技术分析知识。即便雇佣专家和学者等专业人士作为顾问,由于他们不一定有技术商品化方面的经验,因此也很难做出投资决定。在这种情况下,资本所.有者作为投资主体时,虽然投资决策有充分的资本支持和市场经验支持,但在技术支持上有明显的缺陷。反过来,以技术成果所有者为投资主体运作时,虽然投资决策有充分的技术支持,但在资本和市场两个方面明显地缺乏支持。因此,本文提出了科技创新成果产业化讨程中“谁为主体”的深层次问题。   有理由认为.成果与投资均不是材料本身的理化性能,还与基片表面的清洁和活化程度有关。经过清洗处理的玻璃基片在进入真空室进行镀膜之 以前,环境中的尘埃和气体分子仍然可能造成污染。为了获得“实时”洁净的表面,最好的办法是进行在线等离子清洗。   常规的等离子清洗装置,是在真空室中设置一对平板放电电极或若千只放电电极,这些装置的致命缺点是不仅放电清洗很不均匀,而且极易产生有害的放电而污染或损伤基片。另外,辉光放电也非常不稳定,尤其是当基片移动时,等离子体的阻抗经常会发生大的变化,因此这些设备很难应用于连续镀膜生产线。   近几年我们研制成功了一条年产4万吨的ITO玻璃自动生产线,在SiO2膜和ITO膜的镀复过程之前,安装了一套在线清洗装置,可产生大面积、均匀、稳定的多面体。该装置由屏蔽罩、栅极以及加速极等构成。用来限制放电区域的屏蔽罩是-一个呈托盘状不锈钢构件,它与真空腔壁同电位,在该屏蔽罩中布置了一个与它绝缘的、由板状底盘和网格状栅网组成的栅极;在该栅极.上方又设置了一个引出等离子体的并与屏蔽罩连接的网式加速极,屏蔽罩与栅极分别与射频电源的两个输出电极相连接,抽到一定真空度后向真空室中动态地充入氩气与水气的混合气体,于是在该放电器上方产生一个大面积、均匀、稳定的等离子体。等离子体在玻璃上方或上方移动时,能有效地轰击玻璃表面,从而达到在线清洗的目的。与其他等离子清洗装置相比,该装置的优点在于放电非常稳离子体。   当玻璃处在其上方或者在其上方运动时,等离子体有效地轰击了玻璃表面,从而达到在线清洗的目的。与其他等离子清洗装置相比,本装置的优点在于放电非常稳定,适用于连续生产场合;放电区仅局限于某一.方向,不会产生二次污染;放电相当均匀,有利于大面积基片的在线均匀清洗。经长时间的生产应用表明,经在线清洗后的SiO2膜与ITO膜的针孔率均有两个数量级的下降,薄膜与玻璃基片的结合力提高5倍以上。 通过人工合成,将其划分为高温和低温两种类型,并对其进行了分类。高温等离子技术主要用于热核聚变反应的研究。所述低温等离子体是指,在比环境温度稍高或稍高的温度下,等离子体中的离子与中性粒子的温度远低于电子的温度。低温等离子体可以在较低的温度下获得高活性的物质,因此特别适合于在各种材料科学和微电子工业中应用于在低温下的化学反应。可以毫不夸张地说,如果没有低温等离子体就没有现代的超大规模集成电路工艺(如:等离子体干法刻蚀,氧等离子体去光刻胶,等离子体化学气相沉积制备二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜,等等)等。

低温等离子技术主要用于热核聚变反应的研究

【概要描述】 低温等离子技术,以技术产业为基础的新经济时代将成为二十一世纪全球经济的主导的模式。科技与产业的搭配对经济增长模式的转变起着决定性的作用。这一种搭配在开放性的市场环境中,直接表现为科技创新成果转化为商品。这一种过程所涉开发、中试、生产、管理和营销等诸多科技领域,是科学创新、铸造工艺与投资决策高度集成的系统工程。系统的风险在投资介入时会达到很大的价值。因此,支持投资决策的经营方式是科技创新产业化成败的最为关键的。考虑到我国现阶段知识水平和资本水平普遍分离的现状,一般来说风险投资主体不能有完善的投资高技术分析知识。即便雇佣专家和学者等专业人士作为顾问,由于他们不一定有技术商品化方面的经验,因此也很难做出投资决定。在这种情况下,资本所.有者作为投资主体时,虽然投资决策有充分的资本支持和市场经验支持,但在技术支持上有明显的缺陷。反过来,以技术成果所有者为投资主体运作时,虽然投资决策有充分的技术支持,但在资本和市场两个方面明显地缺乏支持。因此,本文提出了科技创新成果产业化讨程中“谁为主体”的深层次问题。

  有理由认为.成果与投资均不是材料本身的理化性能,还与基片表面的清洁和活化程度有关。经过清洗处理的玻璃基片在进入真空室进行镀膜之
以前,环境中的尘埃和气体分子仍然可能造成污染。为了获得“实时”洁净的表面,最好的办法是进行在线等离子清洗。
  常规的等离子清洗装置,是在真空室中设置一对平板放电电极或若千只放电电极,这些装置的致命缺点是不仅放电清洗很不均匀,而且极易产生有害的放电而污染或损伤基片。另外,辉光放电也非常不稳定,尤其是当基片移动时,等离子体的阻抗经常会发生大的变化,因此这些设备很难应用于连续镀膜生产线。
  近几年我们研制成功了一条年产4万吨的ITO玻璃自动生产线,在SiO2膜和ITO膜的镀复过程之前,安装了一套在线清洗装置,可产生大面积、均匀、稳定的多面体。该装置由屏蔽罩、栅极以及加速极等构成。用来限制放电区域的屏蔽罩是-一个呈托盘状不锈钢构件,它与真空腔壁同电位,在该屏蔽罩中布置了一个与它绝缘的、由板状底盘和网格状栅网组成的栅极;在该栅极.上方又设置了一个引出等离子体的并与屏蔽罩连接的网式加速极,屏蔽罩与栅极分别与射频电源的两个输出电极相连接,抽到一定真空度后向真空室中动态地充入氩气与水气的混合气体,于是在该放电器上方产生一个大面积、均匀、稳定的等离子体。等离子体在玻璃上方或上方移动时,能有效地轰击玻璃表面,从而达到在线清洗的目的。与其他等离子清洗装置相比,该装置的优点在于放电非常稳离子体。
  当玻璃处在其上方或者在其上方运动时,等离子体有效地轰击了玻璃表面,从而达到在线清洗的目的。与其他等离子清洗装置相比,本装置的优点在于放电非常稳定,适用于连续生产场合;放电区仅局限于某一.方向,不会产生二次污染;放电相当均匀,有利于大面积基片的在线均匀清洗。经长时间的生产应用表明,经在线清洗后的SiO2膜与ITO膜的针孔率均有两个数量级的下降,薄膜与玻璃基片的结合力提高5倍以上。
通过人工合成,将其划分为高温和低温两种类型,并对其进行了分类。高温等离子技术主要用于热核聚变反应的研究。所述低温等离子体是指,在比环境温度稍高或稍高的温度下,等离子体中的离子与中性粒子的温度远低于电子的温度。低温等离子体可以在较低的温度下获得高活性的物质,因此特别适合于在各种材料科学和微电子工业中应用于在低温下的化学反应。可以毫不夸张地说,如果没有低温等离子体就没有现代的超大规模集成电路工艺(如:等离子体干法刻蚀,氧等离子体去光刻胶,等离子体化学气相沉积制备二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜,等等)等。

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-22 18:26
  • 访问量:
详情
    低温等离子技术,以技术产业为基础的新经济时代将成为二十一世纪全球经济的主导的模式。科技与产业的搭配对经济增长模式的转变起着决定性的作用。这一种搭配在开放性的市场环境中,直接表现为科技创新成果转化为商品。这一种过程所涉开发、中试、生产、管理和营销等诸多科技领域,是科学创新、铸造工艺与投资决策高度集成的系统工程。系统的风险在投资介入时会达到很大的价值。因此,支持投资决策的经营方式是科技创新产业化成败的最为关键的。考虑到我国现阶段知识水平和资本水平普遍分离的现状,一般来说风险投资主体不能有完善的投资高技术分析知识。即便雇佣专家和学者等专业人士作为顾问,由于他们不一定有技术商品化方面的经验,因此也很难做出投资决定。在这种情况下,资本所.有者作为投资主体时,虽然投资决策有充分的资本支持和市场经验支持,但在技术支持上有明显的缺陷。反过来,以技术成果所有者为投资主体运作时,虽然投资决策有充分的技术支持,但在资本和市场两个方面明显地缺乏支持。因此,本文提出了科技创新成果产业化讨程中“谁为主体”的深层次问题。

  有理由认为.成果与投资均不是材料本身的理化性能,还与基片表面的清洁和活化程度有关。经过清洗处理的玻璃基片在进入真空室进行镀膜之
以前,环境中的尘埃和气体分子仍然可能造成污染。为了获得“实时”洁净的表面,最好的办法是进行在线等离子清洗。
  常规的等离子清洗装置,是在真空室中设置一对平板放电电极或若千只放电电极,这些装置的致命缺点是不仅放电清洗很不均匀,而且极易产生有害的放电而污染或损伤基片。另外,辉光放电也非常不稳定,尤其是当基片移动时,等离子体的阻抗经常会发生大的变化,因此这些设备很难应用于连续镀膜生产线。
  近几年我们研制成功了一条年产4万吨的ITO玻璃自动生产线,在SiO2膜和ITO膜的镀复过程之前,安装了一套在线清洗装置,可产生大面积、均匀、稳定的多面体。该装置由屏蔽罩、栅极以及加速极等构成。用来限制放电区域的屏蔽罩是-一个呈托盘状不锈钢构件,它与真空腔壁同电位,在该屏蔽罩中布置了一个与它绝缘的、由板状底盘和网格状栅网组成的栅极;在该栅极.上方又设置了一个引出等离子体的并与屏蔽罩连接的网式加速极,屏蔽罩与栅极分别与射频电源的两个输出电极相连接,抽到一定真空度后向真空室中动态地充入氩气与水气的混合气体,于是在该放电器上方产生一个大面积、均匀、稳定的等离子体。等离子体在玻璃上方或上方移动时,能有效地轰击玻璃表面,从而达到在线清洗的目的。与其他等离子清洗装置相比,该装置的优点在于放电非常稳离子体。
  当玻璃处在其上方或者在其上方运动时,等离子体有效地轰击了玻璃表面,从而达到在线清洗的目的。与其他等离子清洗装置相比,本装置的优点在于放电非常稳定,适用于连续生产场合;放电区仅局限于某一.方向,不会产生二次污染;放电相当均匀,有利于大面积基片的在线均匀清洗。经长时间的生产应用表明,经在线清洗后的SiO2膜与ITO膜的针孔率均有两个数量级的下降,薄膜与玻璃基片的结合力提高5倍以上。
       通过人工合成,将其划分为高温和低温两种类型,并对其进行了分类。高温等离子技术主要用于热核聚变反应的研究。所述低温等离子体是指,在比环境温度稍高或稍高的温度下,等离子体中的离子与中性粒子的温度远低于电子的温度。低温等离子体可以在较低的温度下获得高活性的物质,因此特别适合于在各种材料科学和微电子工业中应用于在低温下的化学反应。可以毫不夸张地说,如果没有低温等离子体就没有现代的超大规模集成电路工艺(如:等离子体干法刻蚀,氧等离子体去光刻胶,等离子体化学气相沉积制备二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜,等等)等。
关键词:

扫二维码用手机看

相关资讯

暂时没有内容信息显示
请先在网站后台添加数据记录。

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区