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真空式等离子处理系统 CRF-VPO-MC-6L


设备介绍

设备参数

应用领域

产品特点

● 超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;
● 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;
● 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
 

应用范围

真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

 

真空等离子处理设备又被称为等离子表面处理器、等离子处理机,普遍用以精密的机器设备、印染、粉体材料、汽车工业、航天航空、污染治理等高新科技行业的活性、改性。等离子体清洗技术的是低温等离子体的运用,它是属于干式环保的处理设备。等离子体清洗机主要是依靠高温、高频率、高能等外界条件。


真空等离子处理设备的等离子处理是一个干躁的过程。运用电能催化反应,可提供低温工作环境,避免使用危险的湿式化学清洗物质。它是属于安全、靠谱、环保的,简易地说等离子体清洗技术融合了等离子体物理、化学和固态表面反应,能合理有效地消除材料表层的残留污染物,确保材料表层和本身特性不受影响。


真空等离子处理设备的等离子清理技术对半导体材料、金属材料及高分子大部分纤维材料具备优良的处理效果,不管待处理的材料形状如何,均可完成整体、指定的局部及繁杂构造的清洗。该加工工艺便于实现自动化和智能化,并装有高精密的操纵设备,能准确控制时间,记忆点等作用。由于其实际操作简易、高精度、可操控性好环保等优势,等离子体清洗技术的材料表层改性、活化蚀刻等功能在众多行业获得了好评。使用等离子清洗机清洗后,材料表层没有残余,根据挑选和配对不一样的等离子清洗方法,能够做到不一样清洗效果,可以满足后续制作工艺对材料加工的各种各样要求。因为等离子体的专一性不强,对具备繁杂构造的物件如凹陷、孔眼、皱褶等处理也能适应。

    • 商品名称: 真空式等离子处理系统 CRF-VPO-MC-6L
    • 商品编号: CRF-VPO-MC -6L

    产品特点

    ● 超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;
    ● 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;
    ● 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
     

    应用范围

    真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

     

    真空等离子处理设备又被称为等离子表面处理器、等离子处理机,普遍用以精密的机器设备、印染、粉体材料、汽车工业、航天航空、污染治理等高新科技行业的活性、改性。等离子体清洗技术的是低温等离子体的运用,它是属于干式环保的处理设备。等离子体清洗机主要是依靠高温、高频率、高能等外界条件。


    真空等离子处理设备的等离子处理是一个干躁的过程。运用电能催化反应,可提供低温工作环境,避免使用危险的湿式化学清洗物质。它是属于安全、靠谱、环保的,简易地说等离子体清洗技术融合了等离子体物理、化学和固态表面反应,能合理有效地消除材料表层的残留污染物,确保材料表层和本身特性不受影响。


    真空等离子处理设备的等离子清理技术对半导体材料、金属材料及高分子大部分纤维材料具备优良的处理效果,不管待处理的材料形状如何,均可完成整体、指定的局部及繁杂构造的清洗。该加工工艺便于实现自动化和智能化,并装有高精密的操纵设备,能准确控制时间,记忆点等作用。由于其实际操作简易、高精度、可操控性好环保等优势,等离子体清洗技术的材料表层改性、活化蚀刻等功能在众多行业获得了好评。使用等离子清洗机清洗后,材料表层没有残余,根据挑选和配对不一样的等离子清洗方法,能够做到不一样清洗效果,可以满足后续制作工艺对材料加工的各种各样要求。因为等离子体的专一性不强,对具备繁杂构造的物件如凹陷、孔眼、皱褶等处理也能适应。

  • 名称(Name)

    真空式等离子处理系统

    型号(Model)

    CRF-VPO-MC -6L

    控制系统(Control system)

    PLC+触摸屏

    电源(Power supply)

    380V/AC,50/60Hz, 3kw

    射频电源功率(RF Power)

    2000W/40kHz

    容量(Volume )

    235L(Option)

    层数(Electrode of plies )

    6(Option)

    有效处理面积(Area)

    500(L)*500(W)(Option)

    气体通道(Gas)

    两路工作气体可选:Ar、N2、H2、CF4、O2

    外形(Appearance )

    钣金结构

     

    • 商品名称: 真空式等离子处理系统 CRF-VPO-MC-6L
    • 商品编号: CRF-VPO-MC -6L

    产品特点

    ● 超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;
    ● 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;
    ● 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
     

    应用范围

    真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

     

    真空等离子处理设备又被称为等离子表面处理器、等离子处理机,普遍用以精密的机器设备、印染、粉体材料、汽车工业、航天航空、污染治理等高新科技行业的活性、改性。等离子体清洗技术的是低温等离子体的运用,它是属于干式环保的处理设备。等离子体清洗机主要是依靠高温、高频率、高能等外界条件。


    真空等离子处理设备的等离子处理是一个干躁的过程。运用电能催化反应,可提供低温工作环境,避免使用危险的湿式化学清洗物质。它是属于安全、靠谱、环保的,简易地说等离子体清洗技术融合了等离子体物理、化学和固态表面反应,能合理有效地消除材料表层的残留污染物,确保材料表层和本身特性不受影响。


    真空等离子处理设备的等离子清理技术对半导体材料、金属材料及高分子大部分纤维材料具备优良的处理效果,不管待处理的材料形状如何,均可完成整体、指定的局部及繁杂构造的清洗。该加工工艺便于实现自动化和智能化,并装有高精密的操纵设备,能准确控制时间,记忆点等作用。由于其实际操作简易、高精度、可操控性好环保等优势,等离子体清洗技术的材料表层改性、活化蚀刻等功能在众多行业获得了好评。使用等离子清洗机清洗后,材料表层没有残余,根据挑选和配对不一样的等离子清洗方法,能够做到不一样清洗效果,可以满足后续制作工艺对材料加工的各种各样要求。因为等离子体的专一性不强,对具备繁杂构造的物件如凹陷、孔眼、皱褶等处理也能适应。

  • 名称(Name)

    真空式等离子处理系统

    型号(Model)

    CRF-VPO-MC -6L

    控制系统(Control system)

    PLC+触摸屏

    电源(Power supply)

    380V/AC,50/60Hz, 3kw

    射频电源功率(RF Power)

    2000W/40kHz

    容量(Volume )

    235L(Option)

    层数(Electrode of plies )

    6(Option)

    有效处理面积(Area)

    500(L)*500(W)(Option)

    气体通道(Gas)

    两路工作气体可选:Ar、N2、H2、CF4、O2

    外形(Appearance )

    钣金结构

     


我们的合作伙伴

深圳市诚峰智造有限公司是一家专业致力于提供等离子设备及工艺流程解决方案的高新技术企业,作为一家等离子清洗机厂家,使用等离子体表面处理技术为客户解决产品表面处理问题。

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