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CRF-VPO-8L-M

超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;
高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。

设备介绍

设备参数

应用领域

真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板等离子表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

 

真空等离子清洗机采用激起等离子体方式作为清洗的介质,可有效防止液体清洗物质对被清洗目标的造成的二次污染。该机器设备配置了真空泵,在维持真空设备内腔真空的状况下,能将等离子体中反应的污染物排出,那样可在短时间内快速彻底消除污染物。

 

真空等离子清洗机设计方案合理有效,需针对不同材料搭配组合。抗静电支撑架可避免静电对产品导致的影响。等离子清洗机可根据等离子轰击或产生化学反应完成对产品表层的离子注入、活化和清洗。对表层开展粘接,可明显增强粘接抗压强度。

 

等离子清洗机具备过电流漏电保护器电源开关,自诊电源电路,异常现象蜂鸣器警报等安全作用。现阶段用于液晶显示屏、LED、集成电路芯片、印刷线路板、贴片式、BGA、导线框、触控平板等的清洗和蚀刻工艺。等离子清洗集成电路芯片能明显增强键合强度,降低电路无效的概率。触碰到等离子体后,残余的光刻胶、环氧树脂、有机溶剂残余物以及它有机污染物可在短时间内被除去。

    • 商品名称: CRF-VPO-8L-M
    • 商品编号: CRF-VPO-8L-M

    超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;<br> 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;<br> 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。

    真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板等离子表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

     

    真空等离子清洗机采用激起等离子体方式作为清洗的介质,可有效防止液体清洗物质对被清洗目标的造成的二次污染。该机器设备配置了真空泵,在维持真空设备内腔真空的状况下,能将等离子体中反应的污染物排出,那样可在短时间内快速彻底消除污染物。

     

    真空等离子清洗机设计方案合理有效,需针对不同材料搭配组合。抗静电支撑架可避免静电对产品导致的影响。等离子清洗机可根据等离子轰击或产生化学反应完成对产品表层的离子注入、活化和清洗。对表层开展粘接,可明显增强粘接抗压强度。

     

    等离子清洗机具备过电流漏电保护器电源开关,自诊电源电路,异常现象蜂鸣器警报等安全作用。现阶段用于液晶显示屏、LED、集成电路芯片、印刷线路板、贴片式、BGA、导线框、触控平板等的清洗和蚀刻工艺。等离子清洗集成电路芯片能明显增强键合强度,降低电路无效的概率。触碰到等离子体后,残余的光刻胶、环氧树脂、有机溶剂残余物以及它有机污染物可在短时间内被除去。

    关键词:
    • CRF-VPO-8L-M
  • 真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板等离子表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

    真空等离子清洗机采用激起等离子体方式作为清洗的介质,可有效防止液体清洗物质对被清洗目标的造成的二次污染。该机器设备配置了真空泵,在维持真空设备内腔真空的状况下,能将等离子体中反应的污染物排出,那样可在短时间内快速彻底消除污染物。

    真空等离子清洗机设计方案合理有效,需针对不同材料搭配组合。抗静电支撑架可避免静电对产品导致的影响。等离子清洗机可根据等离子轰击或产生化学反应完成对产品表层的离子注入、活化和清洗。对表层开展粘接,可明显增强粘接抗压强度。

    等离子清洗机具备过电流漏电保护器电源开关,自诊电源电路,异常现象蜂鸣器警报等安全作用。现阶段用于液晶显示屏、LED、集成电路芯片、印刷线路板、贴片式、BGA、导线框、触控平板等的清洗和蚀刻工艺。等离子清洗集成电路芯片能明显增强键合强度,降低电路无效的概率。触碰到等离子体后,残余的光刻胶、环氧树脂、有机溶剂残余物以及它有机污染物可在短时间内被除去。

  • 名称

    (Name)

    真空式等离子处理系统

    型号

    (Model)

    CRF-VPO-8L-M

    控制系统

    (Control system)

    PLC+触摸屏

    电源

    (Power supply)

    380V/AC,50/60Hz, 3kw

    射频电源功率

    (RF Power)

    600W/13.56MHz

    容量

    (Volume )

    80L(Option)

    层数

    (Electrode of plies )

    8(Option)

    有效处理面积

    (Area)

    400(L)*300(W)(Option)

    气体通道

    (Gas)

    两路工作气体可选:Ar、N2、H2、CF4、O2

    外形

    (Appearance )

    钣金结构

    • 商品名称: CRF-VPO-8L-M
    • 商品编号: CRF-VPO-8L-M

    超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;<br> 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;<br> 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。

    真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板等离子表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

     

    真空等离子清洗机采用激起等离子体方式作为清洗的介质,可有效防止液体清洗物质对被清洗目标的造成的二次污染。该机器设备配置了真空泵,在维持真空设备内腔真空的状况下,能将等离子体中反应的污染物排出,那样可在短时间内快速彻底消除污染物。

     

    真空等离子清洗机设计方案合理有效,需针对不同材料搭配组合。抗静电支撑架可避免静电对产品导致的影响。等离子清洗机可根据等离子轰击或产生化学反应完成对产品表层的离子注入、活化和清洗。对表层开展粘接,可明显增强粘接抗压强度。

     

    等离子清洗机具备过电流漏电保护器电源开关,自诊电源电路,异常现象蜂鸣器警报等安全作用。现阶段用于液晶显示屏、LED、集成电路芯片、印刷线路板、贴片式、BGA、导线框、触控平板等的清洗和蚀刻工艺。等离子清洗集成电路芯片能明显增强键合强度,降低电路无效的概率。触碰到等离子体后,残余的光刻胶、环氧树脂、有机溶剂残余物以及它有机污染物可在短时间内被除去。

    关键词:
    • CRF-VPO-8L-M
  • 真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板等离子表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

    真空等离子清洗机采用激起等离子体方式作为清洗的介质,可有效防止液体清洗物质对被清洗目标的造成的二次污染。该机器设备配置了真空泵,在维持真空设备内腔真空的状况下,能将等离子体中反应的污染物排出,那样可在短时间内快速彻底消除污染物。

    真空等离子清洗机设计方案合理有效,需针对不同材料搭配组合。抗静电支撑架可避免静电对产品导致的影响。等离子清洗机可根据等离子轰击或产生化学反应完成对产品表层的离子注入、活化和清洗。对表层开展粘接,可明显增强粘接抗压强度。

    等离子清洗机具备过电流漏电保护器电源开关,自诊电源电路,异常现象蜂鸣器警报等安全作用。现阶段用于液晶显示屏、LED、集成电路芯片、印刷线路板、贴片式、BGA、导线框、触控平板等的清洗和蚀刻工艺。等离子清洗集成电路芯片能明显增强键合强度,降低电路无效的概率。触碰到等离子体后,残余的光刻胶、环氧树脂、有机溶剂残余物以及它有机污染物可在短时间内被除去。

  • 名称

    (Name)

    真空式等离子处理系统

    型号

    (Model)

    CRF-VPO-8L-M

    控制系统

    (Control system)

    PLC+触摸屏

    电源

    (Power supply)

    380V/AC,50/60Hz, 3kw

    射频电源功率

    (RF Power)

    600W/13.56MHz

    容量

    (Volume )

    80L(Option)

    层数

    (Electrode of plies )

    8(Option)

    有效处理面积

    (Area)

    400(L)*300(W)(Option)

    气体通道

    (Gas)

    两路工作气体可选:Ar、N2、H2、CF4、O2

    外形

    (Appearance )

    钣金结构


我们的合作伙伴

深圳市诚峰智造有限公司是一家专业致力于提供等离子设备及工艺流程解决方案的高新技术企业,作为一家等离子清洗机厂家,使用等离子体表面处理技术为客户解决产品表面处理问题。

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