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plasma低温等离子体历史发展进程

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-04-08
  • 访问量:

【概要描述】        等离子体于1879年被发现,1928年被称为“plasma”,是一个微观系统,由大量相互作用但仍然处于非束缚状态的带电粒子组成,它们是除气态、液态和固态以外的物质第四态。利用电子温度和离子温度可以分别表示等离子体温度,plasma低温等离子体的电离率较低,离子温度甚至可以与室温相相差无几,因此,日常生活中有很多场景可以运用低温等离子体技术。在plasma低温等离子体发生的过程中也可以产生大量的活性粒子,这些粒子比一般化学反应产生的反应种类更多,活性更强,与材料表面接触时反应更简单。与传统的物理化学方法相比,等离子体表面处理成本低,不会产生废料,对环境无污染,因此低温等离子体材料的表面改性处理非常合适,此外,低温等离子体还可用于制备有机和无机纳米颗粒,用于杀菌等领域。         plasma低温等离子体的产生,能够通过紫外辐射、电磁场激发、高温加热以及应用X射线等方法,其间,电磁场激发方法,也就是技术较为简单的操纵气体释放方法,在实验室研究和工业生产中使用得多。弧光放电是各种气体放电产生的等离子体中的一种;电晕放电产生的低温等离子体中难以产生足量的活性粒子;直流辉光放电需要低压环境,因此需要使用价格昂贵的真空系统,从而难以实现连续生产;低频交流放电等离子体的电极暴露在外,只对简单污染产生的等离子体进行污染,因此这些气体放电方法都不适合用于大型流水线工业。 介质阻挠放电(DielectricBarrierDischarge,简称DBD)是指将绝缘介质置于两个金属电极之间,以阻挠横穿极板间空气间隙的放电通道,使空气间隙通道内的放电不会产生电弧,而是以细丝放电的方式存在,plasma低温等离子体便分散在其中,这种方式在实验室很容易实现,并且在工业生产中得到了广泛应用;而在大气压放电模式下,发生这种情况的等离子体可以均匀分布在整个放电空间,因此,大气压辉放电也被称为均匀模式下的介质阻挠放电,但在实验室更难实现,而在细丝放电模式下,只要操作不当,就会变成介质阻挠放电。因此介质阻挠放电是目前适合工业生产的等离子体产生方法。         介质阻挠放电的底子在于增加绝缘介质,如果没有绝缘介质阻碍放电,位于极板气隙中的带电粒子将会以极高的迁移速度趋附在两个极板上,从而使气流难以吹出,而带电粒子则会在两个极板均覆盖一层绝缘层后,到达绝缘介质表面,而不是极板表面。在两极板上加高频交流电源反向电压后,由于两板间隙中的空气由于强电场的作用plasma低温等离子体再次发生雪崩电离,尔后的电流立即被切断,电流曲线显示出尖脉冲。此时,空气中仍然存在带电粒子,它们将继续向两个极板移动,并继续移动。这种带电粒子就是发生在被电离之后的plasma低温等离子体离子,因为它们以悬浮状态存在于极板之间的空气间隙中,所以可以很简单地把电离区吹出去。

plasma低温等离子体历史发展进程

【概要描述】        等离子体于1879年被发现,1928年被称为“plasma”,是一个微观系统,由大量相互作用但仍然处于非束缚状态的带电粒子组成,它们是除气态、液态和固态以外的物质第四态。利用电子温度和离子温度可以分别表示等离子体温度,plasma低温等离子体的电离率较低,离子温度甚至可以与室温相相差无几,因此,日常生活中有很多场景可以运用低温等离子体技术。在plasma低温等离子体发生的过程中也可以产生大量的活性粒子,这些粒子比一般化学反应产生的反应种类更多,活性更强,与材料表面接触时反应更简单。与传统的物理化学方法相比,等离子体表面处理成本低,不会产生废料,对环境无污染,因此低温等离子体材料的表面改性处理非常合适,此外,低温等离子体还可用于制备有机和无机纳米颗粒,用于杀菌等领域。


        plasma低温等离子体的产生,能够通过紫外辐射、电磁场激发、高温加热以及应用X射线等方法,其间,电磁场激发方法,也就是技术较为简单的操纵气体释放方法,在实验室研究和工业生产中使用得多。弧光放电是各种气体放电产生的等离子体中的一种;电晕放电产生的低温等离子体中难以产生足量的活性粒子;直流辉光放电需要低压环境,因此需要使用价格昂贵的真空系统,从而难以实现连续生产;低频交流放电等离子体的电极暴露在外,只对简单污染产生的等离子体进行污染,因此这些气体放电方法都不适合用于大型流水线工业。
介质阻挠放电(DielectricBarrierDischarge,简称DBD)是指将绝缘介质置于两个金属电极之间,以阻挠横穿极板间空气间隙的放电通道,使空气间隙通道内的放电不会产生电弧,而是以细丝放电的方式存在,plasma低温等离子体便分散在其中,这种方式在实验室很容易实现,并且在工业生产中得到了广泛应用;而在大气压放电模式下,发生这种情况的等离子体可以均匀分布在整个放电空间,因此,大气压辉放电也被称为均匀模式下的介质阻挠放电,但在实验室更难实现,而在细丝放电模式下,只要操作不当,就会变成介质阻挠放电。因此介质阻挠放电是目前适合工业生产的等离子体产生方法。
        介质阻挠放电的底子在于增加绝缘介质,如果没有绝缘介质阻碍放电,位于极板气隙中的带电粒子将会以极高的迁移速度趋附在两个极板上,从而使气流难以吹出,而带电粒子则会在两个极板均覆盖一层绝缘层后,到达绝缘介质表面,而不是极板表面。在两极板上加高频交流电源反向电压后,由于两板间隙中的空气由于强电场的作用plasma低温等离子体再次发生雪崩电离,尔后的电流立即被切断,电流曲线显示出尖脉冲。此时,空气中仍然存在带电粒子,它们将继续向两个极板移动,并继续移动。这种带电粒子就是发生在被电离之后的plasma低温等离子体离子,因为它们以悬浮状态存在于极板之间的空气间隙中,所以可以很简单地把电离区吹出去。

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plasma低温等离子体历史发展进程:
        等离子体于1879年被发现,1928年被称为“plasma”,是一个微观系统,由大量相互作用但仍然处于非束缚状态的带电粒子组成,它们是除气态、液态和固态以外的物质第四态。利用电子温度和离子温度可以分别表示等离子体温度,plasma低温等离子体的电离率较低,离子温度甚至可以与室温相相差无几,因此,日常生活中有很多场景可以运用低温等离子体技术。在plasma低温等离子体发生的过程中也可以产生大量的活性粒子,这些粒子比一般化学反应产生的反应种类更多,活性更强,与材料表面接触时反应更简单。与传统的物理化学方法相比,等离子体表面处理成本低,不会产生废料,对环境无污染,因此低温等离子体材料的表面改性处理非常合适,此外,低温等离子体还可用于制备有机和无机纳米颗粒,用于杀菌等领域。

诚峰智造plasma低温等离子体
        plasma低温等离子体的产生,能够通过紫外辐射、电磁场激发、高温加热以及应用X射线等方法,其间,电磁场激发方法,也就是技术较为简单的操纵气体释放方法,在实验室研究和工业生产中使用得多。弧光放电是各种气体放电产生的等离子体中的一种;电晕放电产生的低温等离子体中难以产生足量的活性粒子;直流辉光放电需要低压环境,因此需要使用价格昂贵的真空系统,从而难以实现连续生产;低频交流放电等离子体的电极暴露在外,只对简单污染产生的等离子体进行污染,因此这些气体放电方法都不适合用于大型流水线工业。
介质阻挠放电(DielectricBarrierDischarge,简称DBD)是指将绝缘介质置于两个金属电极之间,以阻挠横穿极板间空气间隙的放电通道,使空气间隙通道内的放电不会产生电弧,而是以细丝放电的方式存在,plasma低温等离子体便分散在其中,这种方式在实验室很容易实现,并且在工业生产中得到了广泛应用;而在大气压放电模式下,发生这种情况的等离子体可以均匀分布在整个放电空间,因此,大气压辉放电也被称为均匀模式下的介质阻挠放电,但在实验室更难实现,而在细丝放电模式下,只要操作不当,就会变成介质阻挠放电。因此介质阻挠放电是目前适合工业生产的等离子体产生方法。
        介质阻挠放电的底子在于增加绝缘介质,如果没有绝缘介质阻碍放电,位于极板气隙中的带电粒子将会以极高的迁移速度趋附在两个极板上,从而使气流难以吹出,而带电粒子则会在两个极板均覆盖一层绝缘层后,到达绝缘介质表面,而不是极板表面。在两极板上加高频交流电源反向电压后,由于两板间隙中的空气由于强电场的作用plasma低温等离子体再次发生雪崩电离,尔后的电流立即被切断,电流曲线显示出尖脉冲。此时,空气中仍然存在带电粒子,它们将继续向两个极板移动,并继续移动。这种带电粒子就是发生在被电离之后的plasma低温等离子体离子,因为它们以悬浮状态存在于极板之间的空气间隙中,所以可以很简单地把电离区吹出去。

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