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低温等离子表面处理机气体放电等离子体及应用的研究

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-25
  • 访问量:

【概要描述】  低温等离子表面处理机等离子体特性与放电特性密切相关,而放电特性与激励电源、放电模式及产生的条件有关,产生低温等离子体的气体放电形式多种多样,根据所加的频率主要有:辉光放电、荣容性耦合射频放电、感性耦合射频放电、微波放电、大气压辉光放电、螺旋波等离子体等。   获取等离子体的方法有很多种,根据所加的频率不同,可以分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等多种类型。在低温等离子体发展的初期,低气压等离子表面处理机放电得到了广泛而深入的研究。低气压具有比较低的击穿电压,容易实现稳定放电,还可以在较大尺度内实现均匀放电且其活性粒子浓度较高。   空气中通常采用平板电极和圆柱电极两种结构。为实现大气压介质阻挡放电,需在两侧金属电极之间的气隙空间至少插入一块绝缘介质(通常采用玻璃、石英、陶瓷等材料),且在两侧电极施加交流电压源。   当外施电压增加时,介质阻挡放电的击穿与其他放电类似,电子在外电场作用下加速并获得能量,通过与周围原子分子的碰撞发生能量转移,致使原子分子激发电离产生电子雪崩。当放电气隙电压大于气体击穿电压时,气隙被击穿,放电发生。   由于电极间介质板的存在,在放电发生时,大量电荷将在电场的作用下运动并累积到介质板上从而形成一个与外加电场方向相反的自建电场,使放电熄灭,并阻止了放电向火花或者弧光放电的过渡。圆柱电极介质阻挡放电过程与平板电极介质阻挡放电相似。   低温等离子表面处理机等离子体中的粒子能量一般为几个至几十个电子伏特,大于聚合物材料的结合能,完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键,但远低于高能放射性射线,只设计材料表面,不影响基体的性能。   处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。   通过低温低温等离子表面处理机等离子体表面处理,材料表面发生多种的物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团,使亲水性、黏结性、可染色性、生物相容性能分别得到改善。   气体放电及其等离子体技术发展比较迅速,气体放电产生的低温等离子体在材料改性、亲水性处理、附着力提升、薄膜生长、纳米粉末制备、等离子体显示和生物技术等领域有许多重要的应用,并逐渐显示出很好的经济效益,具有重大的价值和深远的前景。  

低温等离子表面处理机气体放电等离子体及应用的研究

【概要描述】  低温等离子表面处理机等离子体特性与放电特性密切相关,而放电特性与激励电源、放电模式及产生的条件有关,产生低温等离子体的气体放电形式多种多样,根据所加的频率主要有:辉光放电、荣容性耦合射频放电、感性耦合射频放电、微波放电、大气压辉光放电、螺旋波等离子体等。


  获取等离子体的方法有很多种,根据所加的频率不同,可以分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等多种类型。在低温等离子体发展的初期,低气压等离子表面处理机放电得到了广泛而深入的研究。低气压具有比较低的击穿电压,容易实现稳定放电,还可以在较大尺度内实现均匀放电且其活性粒子浓度较高。
  空气中通常采用平板电极和圆柱电极两种结构。为实现大气压介质阻挡放电,需在两侧金属电极之间的气隙空间至少插入一块绝缘介质(通常采用玻璃、石英、陶瓷等材料),且在两侧电极施加交流电压源。
  当外施电压增加时,介质阻挡放电的击穿与其他放电类似,电子在外电场作用下加速并获得能量,通过与周围原子分子的碰撞发生能量转移,致使原子分子激发电离产生电子雪崩。当放电气隙电压大于气体击穿电压时,气隙被击穿,放电发生。
  由于电极间介质板的存在,在放电发生时,大量电荷将在电场的作用下运动并累积到介质板上从而形成一个与外加电场方向相反的自建电场,使放电熄灭,并阻止了放电向火花或者弧光放电的过渡。圆柱电极介质阻挡放电过程与平板电极介质阻挡放电相似。
  低温等离子表面处理机等离子体中的粒子能量一般为几个至几十个电子伏特,大于聚合物材料的结合能,完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键,但远低于高能放射性射线,只设计材料表面,不影响基体的性能。
  处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。
  通过低温低温等离子表面处理机等离子体表面处理,材料表面发生多种的物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团,使亲水性、黏结性、可染色性、生物相容性能分别得到改善。
  气体放电及其等离子体技术发展比较迅速,气体放电产生的低温等离子体在材料改性、亲水性处理、附着力提升、薄膜生长、纳米粉末制备、等离子体显示和生物技术等领域有许多重要的应用,并逐渐显示出很好的经济效益,具有重大的价值和深远的前景。
 

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-03-25 10:17
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低温等离子表面处理机气体放电等离子体及应用的研究:
  低温等离子表面处理机等离子体特性与放电特性密切相关,而放电特性与激励电源、放电模式及产生的条件有关,产生低温等离子体的气体放电形式多种多样,根据所加的频率主要有:辉光放电、荣容性耦合射频放电、感性耦合射频放电、微波放电、大气压辉光放电、螺旋波等离子体等。

诚峰智造低温等离子表面处理机
  获取等离子体的方法有很多种,根据所加的频率不同,可以分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等多种类型。在低温等离子体发展的初期,低气压等离子表面处理机放电得到了广泛而深入的研究。低气压具有比较低的击穿电压,容易实现稳定放电,还可以在较大尺度内实现均匀放电且其活性粒子浓度较高。
  空气中通常采用平板电极和圆柱电极两种结构。为实现大气压介质阻挡放电,需在两侧金属电极之间的气隙空间至少插入一块绝缘介质(通常采用玻璃、石英、陶瓷等材料),且在两侧电极施加交流电压源。
  当外施电压增加时,介质阻挡放电的击穿与其他放电类似,电子在外电场作用下加速并获得能量,通过与周围原子分子的碰撞发生能量转移,致使原子分子激发电离产生电子雪崩。当放电气隙电压大于气体击穿电压时,气隙被击穿,放电发生。
  由于电极间介质板的存在,在放电发生时,大量电荷将在电场的作用下运动并累积到介质板上从而形成一个与外加电场方向相反的自建电场,使放电熄灭,并阻止了放电向火花或者弧光放电的过渡。圆柱电极介质阻挡放电过程与平板电极介质阻挡放电相似。
  低温等离子表面处理机等离子体中的粒子能量一般为几个至几十个电子伏特,大于聚合物材料的结合能,完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键,但远低于高能放射性射线,只设计材料表面,不影响基体的性能。
  处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。
  通过低温低温等离子表面处理机等离子体表面处理,材料表面发生多种的物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团,使亲水性、黏结性、可染色性、生物相容性能分别得到改善。
  气体放电及其等离子体技术发展比较迅速,气体放电产生的低温等离子体在材料改性、亲水性处理、附着力提升、薄膜生长、纳米粉末制备、等离子体显示和生物技术等领域有许多重要的应用,并逐渐显示出很好的经济效益,具有重大的价值和深远的前景。

 

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