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低温等离子表面处理直流辉光等离子体的边缘效应

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-20
  • 访问量:

【概要描述】        低温低温等离子表面处理等离子体在材料处理方面应用非常广泛,现有处理技术有等离子清洗、辉光渗氮、磁控溅射、多弧离子镀、等离子体刻蚀、离子注人等,相关的放电形式分有直流辉光放电、射频等离子体放电、高压脉冲直流放电等。         但是由于处理的工件材料形状各异,不少都有明显的边角,从而出现了“边缘效应”,对材料性能产生了不同程度的影响,特别是均匀性、厚度、力学性能等方面。辉光渗氮又称离子渗氮,它利用辉光放电产生等离子体,在低温等离子表面处理等离子体强电场作用下,高速的氮、氢正离子对工件表面进行轰击,氮将渗人工件表面。渗人材料中的氮可以形成氦化物,其具有很高的硬度、热稳定性、弥散度,因而材料的力学性能将得到较大提高。         它是一种高性能渗氮方法,渗氮周期短、渗氮层脆性小、渗层厚度和组织可以控制,并具有净化表面的作用。低温等离子体工艺的中心问题是等离子体和基片之间存在鞘层,离子经过鞘层被加速,从而对材料产生轰击、溅射及注人等作用,实现改性。         渗氮属于直流辉光放电,设在尺寸一定的真空腔中进行低气压、无磁场的直流辉光放电,并产生等离子体。由于整个等离子体处于电中性状态,所以等离子体边界处电势相同,同时被加工的工件视为等势体,两者间电势差为鞘层电势差。         如果工件边角没有功能性或形状要求,可对边角进行弧面化处理,由于不存在异常的电场分布,鞘层电压、厚度一定,作用的离子密度也一样,所以渗氮层硬度均匀。在离低温等离子表面处理直流辉光边缘处范围内,离边角处越近,电场强度、离子密度值越大,鞘层厚度值越小。边角弧面化处理后,由于不存在边角,未出现边缘效应;可降低主等离子体密度,边缘效应都得到了抑制,且渗氮效果较好。  

低温等离子表面处理直流辉光等离子体的边缘效应

【概要描述】        低温低温等离子表面处理等离子体在材料处理方面应用非常广泛,现有处理技术有等离子清洗、辉光渗氮、磁控溅射、多弧离子镀、等离子体刻蚀、离子注人等,相关的放电形式分有直流辉光放电、射频等离子体放电、高压脉冲直流放电等。


        但是由于处理的工件材料形状各异,不少都有明显的边角,从而出现了“边缘效应”,对材料性能产生了不同程度的影响,特别是均匀性、厚度、力学性能等方面。辉光渗氮又称离子渗氮,它利用辉光放电产生等离子体,在低温等离子表面处理等离子体强电场作用下,高速的氮、氢正离子对工件表面进行轰击,氮将渗人工件表面。渗人材料中的氮可以形成氦化物,其具有很高的硬度、热稳定性、弥散度,因而材料的力学性能将得到较大提高。
        它是一种高性能渗氮方法,渗氮周期短、渗氮层脆性小、渗层厚度和组织可以控制,并具有净化表面的作用。低温等离子体工艺的中心问题是等离子体和基片之间存在鞘层,离子经过鞘层被加速,从而对材料产生轰击、溅射及注人等作用,实现改性。
        渗氮属于直流辉光放电,设在尺寸一定的真空腔中进行低气压、无磁场的直流辉光放电,并产生等离子体。由于整个等离子体处于电中性状态,所以等离子体边界处电势相同,同时被加工的工件视为等势体,两者间电势差为鞘层电势差。
        如果工件边角没有功能性或形状要求,可对边角进行弧面化处理,由于不存在异常的电场分布,鞘层电压、厚度一定,作用的离子密度也一样,所以渗氮层硬度均匀。在离低温等离子表面处理直流辉光边缘处范围内,离边角处越近,电场强度、离子密度值越大,鞘层厚度值越小。边角弧面化处理后,由于不存在边角,未出现边缘效应;可降低主等离子体密度,边缘效应都得到了抑制,且渗氮效果较好。
 

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-03-20 13:41
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低温等离子表面处理直流辉光等离子体的边缘效应:
        低温低温等离子表面处理等离子体在材料处理方面应用非常广泛,现有处理技术有等离子清洗、辉光渗氮、磁控溅射、多弧离子镀、等离子体刻蚀、离子注人等,相关的放电形式分有直流辉光放电、射频等离子体放电、高压脉冲直流放电等。

低温等离子表面处理
        但是由于处理的工件材料形状各异,不少都有明显的边角,从而出现了“边缘效应”,对材料性能产生了不同程度的影响,特别是均匀性、厚度、力学性能等方面。辉光渗氮又称离子渗氮,它利用辉光放电产生等离子体,在低温等离子表面处理等离子体强电场作用下,高速的氮、氢正离子对工件表面进行轰击,氮将渗人工件表面。渗人材料中的氮可以形成氦化物,其具有很高的硬度、热稳定性、弥散度,因而材料的力学性能将得到较大提高。
        它是一种高性能渗氮方法,渗氮周期短、渗氮层脆性小、渗层厚度和组织可以控制,并具有净化表面的作用。低温等离子体工艺的中心问题是等离子体和基片之间存在鞘层,离子经过鞘层被加速,从而对材料产生轰击、溅射及注人等作用,实现改性。
        渗氮属于直流辉光放电,设在尺寸一定的真空腔中进行低气压、无磁场的直流辉光放电,并产生等离子体。由于整个等离子体处于电中性状态,所以等离子体边界处电势相同,同时被加工的工件视为等势体,两者间电势差为鞘层电势差。
        如果工件边角没有功能性或形状要求,可对边角进行弧面化处理,由于不存在异常的电场分布,鞘层电压、厚度一定,作用的离子密度也一样,所以渗氮层硬度均匀。在离低温等离子表面处理直流辉光边缘处范围内,离边角处越近,电场强度、离子密度值越大,鞘层厚度值越小。边角弧面化处理后,由于不存在边角,未出现边缘效应;可降低主等离子体密度,边缘效应都得到了抑制,且渗氮效果较好。

 

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