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诚峰智造等离子设备品牌成为芯片制造业中清洗设备服务商

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-18
  • 访问量:

【概要描述】        近几年半导体产业发展非常迅速,这对国产半导体设备既是机遇,也是挑战;无论是用于制造晶片的等离子刻蚀机,还是用于封装的等离子设备,国产化也是大势所趋!         等离子刻蚀技术的突破成为“中国心”的有力后盾,国产等离子设备品牌自然不会落后。刚开始的时候诚峰智造与国内晶圆封装企业合作,正式进军半导体产业。那时候我们国产设备只能提供基本的清洁服务,例如清除晶圆表面的有机污染物;听到更多的话就是不认可国产设备。确实如此,那时候的我们对这个行业也不够了解,没有一定的技术积累,中高芯片制造企业也不敢冒险。         选择进口等离子设备是芯片制造企业的无奈之举,毕竟国产等离子设备起步较晚,从业人员又缺乏半导体行业的经验,这些企业都要花大价钱去接受落后的技术服务。正当诚峰智造的小伙伴看到客户满堂进口等离子设备时,便暗下决心要提升芯片制造行业的技术能力,让企业不再受制于人。 由于对此深信不疑,诚峰智造一直致力于成为芯片制造业中的国产等离子清洗设备服务商。功夫不负有心人,前面提到的晶圆封装企业在扩产时再一次选择诚峰智造,让诚峰智造参与到更多的生产工艺中,从前段的硅片清洗到后段的光刻胶残留量的去除,整个芯片制造过程中,都选择了诚峰智造等离子设备,打破了进口设备的垄断。         此后,诚峰智造有幸与多家芯片厂商合作。诚峰智造的设备先后被国内多家知名半导体分立器件、电力电子元器件等半导体生产企业采用,用于去除4寸、6寸晶片上较厚的光刻胶底片,成功地替代了进口的等离子设备。谢谢广大客户的信任和支持,让我们在芯片制造行业中积累了丰富的经验,诚峰智造的等离子设备品牌也被越来越多的芯片企业所接受。         其中,RFMEMS是5G通信中的关键芯片之一,由于这种芯片结构的特殊性,在芯片制造完成后,不能采用湿法去除剩余的光刻胶,理想的去除方法是采用等离子清洗。因为光刻胶比较厚,去除的工艺条件非常苛刻,任意一个参数调整不当都会导致整片报废,诚峰智造是极少数能够解决这个工艺难题的国产等离子设备制造商。         诚峰智造对为中国5G事业作出贡献深感荣幸和自豪。希望以后有更多的等离子设备品牌进入“中国心”行业,弥补短板,摆脱国外的束缚。来吧!         如您对等离子清洗机感兴趣或想了解更多详情,请点击诚峰智造在线客服咨询,诚峰智造恭候您的来电!

诚峰智造等离子设备品牌成为芯片制造业中清洗设备服务商

【概要描述】        近几年半导体产业发展非常迅速,这对国产半导体设备既是机遇,也是挑战;无论是用于制造晶片的等离子刻蚀机,还是用于封装的等离子设备,国产化也是大势所趋!


        等离子刻蚀技术的突破成为“中国心”的有力后盾,国产等离子设备品牌自然不会落后。刚开始的时候诚峰智造与国内晶圆封装企业合作,正式进军半导体产业。那时候我们国产设备只能提供基本的清洁服务,例如清除晶圆表面的有机污染物;听到更多的话就是不认可国产设备。确实如此,那时候的我们对这个行业也不够了解,没有一定的技术积累,中高芯片制造企业也不敢冒险。
        选择进口等离子设备是芯片制造企业的无奈之举,毕竟国产等离子设备起步较晚,从业人员又缺乏半导体行业的经验,这些企业都要花大价钱去接受落后的技术服务。正当诚峰智造的小伙伴看到客户满堂进口等离子设备时,便暗下决心要提升芯片制造行业的技术能力,让企业不再受制于人。
由于对此深信不疑,诚峰智造一直致力于成为芯片制造业中的国产等离子清洗设备服务商。功夫不负有心人,前面提到的晶圆封装企业在扩产时再一次选择诚峰智造,让诚峰智造参与到更多的生产工艺中,从前段的硅片清洗到后段的光刻胶残留量的去除,整个芯片制造过程中,都选择了诚峰智造等离子设备,打破了进口设备的垄断。
        此后,诚峰智造有幸与多家芯片厂商合作。诚峰智造的设备先后被国内多家知名半导体分立器件、电力电子元器件等半导体生产企业采用,用于去除4寸、6寸晶片上较厚的光刻胶底片,成功地替代了进口的等离子设备。谢谢广大客户的信任和支持,让我们在芯片制造行业中积累了丰富的经验,诚峰智造的等离子设备品牌也被越来越多的芯片企业所接受。
        其中,RFMEMS是5G通信中的关键芯片之一,由于这种芯片结构的特殊性,在芯片制造完成后,不能采用湿法去除剩余的光刻胶,理想的去除方法是采用等离子清洗。因为光刻胶比较厚,去除的工艺条件非常苛刻,任意一个参数调整不当都会导致整片报废,诚峰智造是极少数能够解决这个工艺难题的国产等离子设备制造商。
        诚峰智造对为中国5G事业作出贡献深感荣幸和自豪。希望以后有更多的等离子设备品牌进入“中国心”行业,弥补短板,摆脱国外的束缚。来吧!
        如您对等离子清洗机感兴趣或想了解更多详情,请点击诚峰智造在线客服咨询,诚峰智造恭候您的来电!

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-03-18 09:02
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诚峰智造等离子设备品牌成为芯片制造业中清洗设备服务商:
        近几年半导体产业发展非常迅速,这对国产半导体设备既是机遇,也是挑战;无论是用于制造晶片的等离子刻蚀机,还是用于封装的等离子设备,国产化也是大势所趋!

诚峰智造等离子设备品牌
        等离子刻蚀技术的突破成为“中国心”的有力后盾,国产等离子设备品牌自然不会落后。刚开始的时候诚峰智造与国内晶圆封装企业合作,正式进军半导体产业。那时候我们国产设备只能提供基本的清洁服务,例如清除晶圆表面的有机污染物;听到更多的话就是不认可国产设备。确实如此,那时候的我们对这个行业也不够了解,没有一定的技术积累,中高芯片制造企业也不敢冒险。
        选择进口等离子设备是芯片制造企业的无奈之举,毕竟国产等离子设备起步较晚,从业人员又缺乏半导体行业的经验,这些企业都要花大价钱去接受落后的技术服务。正当诚峰智造的小伙伴看到客户满堂进口等离子设备时,便暗下决心要提升芯片制造行业的技术能力,让企业不再受制于人。
由于对此深信不疑,诚峰智造一直致力于成为芯片制造业中的国产等离子清洗设备服务商。功夫不负有心人,前面提到的晶圆封装企业在扩产时再一次选择诚峰智造,让诚峰智造参与到更多的生产工艺中,从前段的硅片清洗到后段的光刻胶残留量的去除,整个芯片制造过程中,都选择了诚峰智造等离子设备,打破了进口设备的垄断。
        此后,诚峰智造有幸与多家芯片厂商合作。诚峰智造的设备先后被国内多家知名半导体分立器件、电力电子元器件等半导体生产企业采用,用于去除4寸、6寸晶片上较厚的光刻胶底片,成功地替代了进口的等离子设备。谢谢广大客户的信任和支持,让我们在芯片制造行业中积累了丰富的经验,诚峰智造的等离子设备品牌也被越来越多的芯片企业所接受。
        其中,RFMEMS是5G通信中的关键芯片之一,由于这种芯片结构的特殊性,在芯片制造完成后,不能采用湿法去除剩余的光刻胶,理想的去除方法是采用等离子清洗。因为光刻胶比较厚,去除的工艺条件非常苛刻,任意一个参数调整不当都会导致整片报废,诚峰智造是极少数能够解决这个工艺难题的国产等离子设备制造商。
        诚峰智造对为中国5G事业作出贡献深感荣幸和自豪。希望以后有更多的等离子设备品牌进入“中国心”行业,弥补短板,摆脱国外的束缚。来吧!
        如您对等离子清洗机感兴趣或想了解更多详情,请点击诚峰智造在线客服咨询,诚峰智造恭候您的来电!

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