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等离子清洗设备改变ITO的表面特性可影响OLED的性能

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-15
  • 访问量:

【概要描述】  氧化铟锡(ITO)具有高透光率、导电性能好等特点,作为阳极材料广泛应用于有机电致发光器件(OLED),但ITO的表面功函数与器件内的空穴传输层NPB的高电子占有轨道(HOMO)之间存在较高的势垒,导致器件的驱动出现电压高、工作效率低、寿命短等问题。   经研究后发现ITO经氧等离子清洗设备等离子体的处理可大大提高空穴的注人和器件的稳定性。利用不同功率的等离子体对ITO进行处理,使得ITO功函数大幅提升,优化了器件的性能。   有机电致发光器件(OLED) ,因其自发光,亮度高,可视角度大等诸多优势,在显示和照明领域备受青睐,具有极大的应用前景。   由于氧化铟锡(ITO)导电薄膜具有良好的导电性,以及在可见光范围内具有较高的透光率,使之广泛应用于光电领域,在有机电致发光领域也常常作为OLED的阳极材料。   在OLED中,由于ITO可直接与有机薄膜接触,所以使得TTO的表面特性如表面有机污染物含量、面电阻、表面粗糙度和功函数等对整个器件性能起着重要作用,改变ITO的表面特性便可影响OLED的性能。   目前处理ITO的方法主要分为物理方法和化学方法两种。主要是等离子处理和抛光处理,化学方法主要包括酸碱处理、氧化剂处理以及在ITO表面增加有机和无机化合物。   等离子清洗设备等离子体处理被认为是有效的处理方式。ITO的表面功函数与器件中的空穴传输层NPB的高电子占有轨道(HOMO)之间存在较高的势垒,导致器件的性能低。   TTO表面的氧含量将直接影响ITO的功函数,氧含量增加将导致ITO费米能级的降低,功函数的升高。ITO经混合等离子体处理后,表面形貌会发生显著改变。   没有进行处理的ITO表面形貌与等离子体处理后的ITO表面形貌分析发现,ITO表面的平均粗造度和峰谷距离均有明显降低,其表面颗粒半径也降低不少。平均粗糙度和表面颗粒半径的减小使得ITO与有机层的接触面增大,有利于氧原子附着。   等离子清洗设备等离子体处理能更好地改善ITO表面形貌,同时可以看到ITO表面氧空洞明显增多,表面富集了一层带负电的氧,形成界面偶极层,增加了ITO表面功函数,使得ITO的空穴注人能力大大增强。   此外,等离子清洗设备处理以后ITO表面粗糙度减少,ITO膜与NPB之间的界面能减少,空穴注人变得容易,与由阴极注人的电子更好的复合产生激子,等离子体处理后的阳极制备的器件亮度高,质量好。

等离子清洗设备改变ITO的表面特性可影响OLED的性能

【概要描述】  氧化铟锡(ITO)具有高透光率、导电性能好等特点,作为阳极材料广泛应用于有机电致发光器件(OLED),但ITO的表面功函数与器件内的空穴传输层NPB的高电子占有轨道(HOMO)之间存在较高的势垒,导致器件的驱动出现电压高、工作效率低、寿命短等问题。


  经研究后发现ITO经氧等离子清洗设备等离子体的处理可大大提高空穴的注人和器件的稳定性。利用不同功率的等离子体对ITO进行处理,使得ITO功函数大幅提升,优化了器件的性能。
  有机电致发光器件(OLED) ,因其自发光,亮度高,可视角度大等诸多优势,在显示和照明领域备受青睐,具有极大的应用前景。
  由于氧化铟锡(ITO)导电薄膜具有良好的导电性,以及在可见光范围内具有较高的透光率,使之广泛应用于光电领域,在有机电致发光领域也常常作为OLED的阳极材料。
  在OLED中,由于ITO可直接与有机薄膜接触,所以使得TTO的表面特性如表面有机污染物含量、面电阻、表面粗糙度和功函数等对整个器件性能起着重要作用,改变ITO的表面特性便可影响OLED的性能。
  目前处理ITO的方法主要分为物理方法和化学方法两种。主要是等离子处理和抛光处理,化学方法主要包括酸碱处理、氧化剂处理以及在ITO表面增加有机和无机化合物。
  等离子清洗设备等离子体处理被认为是有效的处理方式。ITO的表面功函数与器件中的空穴传输层NPB的高电子占有轨道(HOMO)之间存在较高的势垒,导致器件的性能低。
  TTO表面的氧含量将直接影响ITO的功函数,氧含量增加将导致ITO费米能级的降低,功函数的升高。ITO经混合等离子体处理后,表面形貌会发生显著改变。
  没有进行处理的ITO表面形貌与等离子体处理后的ITO表面形貌分析发现,ITO表面的平均粗造度和峰谷距离均有明显降低,其表面颗粒半径也降低不少。平均粗糙度和表面颗粒半径的减小使得ITO与有机层的接触面增大,有利于氧原子附着。
  等离子清洗设备等离子体处理能更好地改善ITO表面形貌,同时可以看到ITO表面氧空洞明显增多,表面富集了一层带负电的氧,形成界面偶极层,增加了ITO表面功函数,使得ITO的空穴注人能力大大增强。
  此外,等离子清洗设备处理以后ITO表面粗糙度减少,ITO膜与NPB之间的界面能减少,空穴注人变得容易,与由阴极注人的电子更好的复合产生激子,等离子体处理后的阳极制备的器件亮度高,质量好。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-03-15 10:13
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等离子清洗设备改变ITO的表面特性可影响OLED的性能:
  氧化铟锡(ITO)具有高透光率、导电性能好等特点,作为阳极材料广泛应用于有机电致发光器件(OLED),但ITO的表面功函数与器件内的空穴传输层NPB的高电子占有轨道(HOMO)之间存在较高的势垒,导致器件的驱动出现电压高、工作效率低、寿命短等问题。

诚峰智造等离子清洗设备
  经研究后发现ITO经氧等离子清洗设备等离子体的处理可大大提高空穴的注人和器件的稳定性。利用不同功率的等离子体对ITO进行处理,使得ITO功函数大幅提升,优化了器件的性能。
  有机电致发光器件(OLED) ,因其自发光,亮度高,可视角度大等诸多优势,在显示和照明领域备受青睐,具有极大的应用前景。
  由于氧化铟锡(ITO)导电薄膜具有良好的导电性,以及在可见光范围内具有较高的透光率,使之广泛应用于光电领域,在有机电致发光领域也常常作为OLED的阳极材料。
  在OLED中,由于ITO可直接与有机薄膜接触,所以使得TTO的表面特性如表面有机污染物含量、面电阻、表面粗糙度和功函数等对整个器件性能起着重要作用,改变ITO的表面特性便可影响OLED的性能。
  目前处理ITO的方法主要分为物理方法和化学方法两种。主要是等离子处理和抛光处理,化学方法主要包括酸碱处理、氧化剂处理以及在ITO表面增加有机和无机化合物。
  等离子清洗设备等离子体处理被认为是有效的处理方式。ITO的表面功函数与器件中的空穴传输层NPB的高电子占有轨道(HOMO)之间存在较高的势垒,导致器件的性能低。
  TTO表面的氧含量将直接影响ITO的功函数,氧含量增加将导致ITO费米能级的降低,功函数的升高。ITO经混合等离子体处理后,表面形貌会发生显著改变。
  没有进行处理的ITO表面形貌与等离子体处理后的ITO表面形貌分析发现,ITO表面的平均粗造度和峰谷距离均有明显降低,其表面颗粒半径也降低不少。平均粗糙度和表面颗粒半径的减小使得ITO与有机层的接触面增大,有利于氧原子附着。
  等离子清洗设备等离子体处理能更好地改善ITO表面形貌,同时可以看到ITO表面氧空洞明显增多,表面富集了一层带负电的氧,形成界面偶极层,增加了ITO表面功函数,使得ITO的空穴注人能力大大增强。
  此外,等离子清洗设备处理以后ITO表面粗糙度减少,ITO膜与NPB之间的界面能减少,空穴注人变得容易,与由阴极注人的电子更好的复合产生激子,等离子体处理后的阳极制备的器件亮度高,质量好。

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