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plasma等离子设备参数朗缪尔探针诊断中的作用是什么

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-11
  • 访问量:

【概要描述】        plasma等离子设备处理效果的影响因素有很多,等离子体参数是影响因素中的一个重要因素,因此能了解到,对plasma等离子设备的等离子体参数进行检测和诊断非常重要。测得、诊断等离子体参数的方法很多,朗缪尔探针法是沿用至今的一种常见的诊断方法,那么这种朗缪尔探针法又是什么?         朗缪尔探针法实质上是利用静电探针,将金属探针插入等离子体,并对其施加正向或负向的偏压来收集电子或离子电流。和其他电极一样,探针周围形成了一个鞘层,而且面积通常很小,所以在适当的条件下,探针只能对plasma等离子设备的等离子体产生局部干扰。         对于实际的参数诊断,朗缪尔探针相对于地的偏压电压为VB,等离子体电位为φp。探测电压Vb=φp时,探测处于和等离子体一样的电势,此时它从易动电子处收集的电流主要来自于易动式电子。随着Vb的增大和大于φp,电流就会饱和,达到电子饱和电流值,但是由于电压的增加,电流也会随着探针有效收集面积的增大而增大,这与探针的几何形状有关。然而,当探针的电压发生变化时,其有效收集面积也会发生变化,从而导致离子饱和电流发生变化。因为离子的质量比电子大得多,所以离子的饱和电流远远小于电子的饱和电流。         诚峰智造20年专注研发plasma等离子设备,如果想了解更多产品细节或在设备使用方面有疑问,请点击诚峰智造在线客服,恭候您的来电!

plasma等离子设备参数朗缪尔探针诊断中的作用是什么

【概要描述】        plasma等离子设备处理效果的影响因素有很多,等离子体参数是影响因素中的一个重要因素,因此能了解到,对plasma等离子设备的等离子体参数进行检测和诊断非常重要。测得、诊断等离子体参数的方法很多,朗缪尔探针法是沿用至今的一种常见的诊断方法,那么这种朗缪尔探针法又是什么?


        朗缪尔探针法实质上是利用静电探针,将金属探针插入等离子体,并对其施加正向或负向的偏压来收集电子或离子电流。和其他电极一样,探针周围形成了一个鞘层,而且面积通常很小,所以在适当的条件下,探针只能对plasma等离子设备的等离子体产生局部干扰。
        对于实际的参数诊断,朗缪尔探针相对于地的偏压电压为VB,等离子体电位为φp。探测电压Vb=φp时,探测处于和等离子体一样的电势,此时它从易动电子处收集的电流主要来自于易动式电子。随着Vb的增大和大于φp,电流就会饱和,达到电子饱和电流值,但是由于电压的增加,电流也会随着探针有效收集面积的增大而增大,这与探针的几何形状有关。然而,当探针的电压发生变化时,其有效收集面积也会发生变化,从而导致离子饱和电流发生变化。因为离子的质量比电子大得多,所以离子的饱和电流远远小于电子的饱和电流。
        诚峰智造20年专注研发plasma等离子设备,如果想了解更多产品细节或在设备使用方面有疑问,请点击诚峰智造在线客服,恭候您的来电!

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plasma等离子设备参数朗缪尔探针诊断中的作用是什么:
        plasma等离子设备处理效果的影响因素有很多,等离子体参数是影响因素中的一个重要因素,因此能了解到,对plasma等离子设备的等离子体参数进行检测和诊断非常重要。测得、诊断等离子体参数的方法很多,朗缪尔探针法是沿用至今的一种常见的诊断方法,那么这种朗缪尔探针法又是什么?

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        朗缪尔探针法实质上是利用静电探针,将金属探针插入等离子体,并对其施加正向或负向的偏压来收集电子或离子电流。和其他电极一样,探针周围形成了一个鞘层,而且面积通常很小,所以在适当的条件下,探针只能对plasma等离子设备的等离子体产生局部干扰。
        对于实际的参数诊断,朗缪尔探针相对于地的偏压电压为VB,等离子体电位为φp。探测电压Vb=φp时,探测处于和等离子体一样的电势,此时它从易动电子处收集的电流主要来自于易动式电子。随着Vb的增大和大于φp,电流就会饱和,达到电子饱和电流值,但是由于电压的增加,电流也会随着探针有效收集面积的增大而增大,这与探针的几何形状有关。然而,当探针的电压发生变化时,其有效收集面积也会发生变化,从而导致离子饱和电流发生变化。因为离子的质量比电子大得多,所以离子的饱和电流远远小于电子的饱和电流。
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