深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

plasma清洗设备固体材料表面处理中化学过程展现总结

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-10
  • 访问量:

【概要描述】        利用plasma清洗设备对固体材料进行表面处理时,等离子体中的微粒能够将其自身能量转移到固体表面,因此,由于自身能量的增加,因此可以使固体表面的原子或分子产生新的化学键,或使原化学键断裂。化学过程主要有氧化、还原、分解裂化、聚合等几个方面。         之前的部分内容中主要介绍了plasma清洗设备与固体材料表面的物理作用,与固体材料表面的化学过程是一个与物理作用相对应的处理过程,下面对plasma清洗设备与固体材料表面处理的化学过程进行总结介绍。         1、氧化过程         氧气是一种强氧化剂,当plasma清洗设备以氧气为过程气体时,它所产生的等离子体内也有氧,它能与固体表面发生氧化反应,从而在表面形成氧化物或过氧化物。         2、还原过程         氢原子具有很高的反应能力,它是强还原剂的一种,在plasma清洗设备的处理中,既能将被反应固体材料表面的氧化物还原,又能渗透到材料的深层,将更深层的氧化物还原,将金属氧化物中的金属还原,就是氢原子的应用之一。         3、分解裂化过程         利用等离子体在等离子清洗机中的作用,可使固体材料表面的分子分解,断裂大分子与分子键,还可降低分子质量。         4、聚合工艺         将plasma清洗设备引入单体后,可在材料表面进行聚合,可在固体表面生成聚合物,也可通过等离子体诱导在固体表面生成自由基,从而通过分子键交联、侧键上接枝、官能团转换或嵌断聚合等方法与跟单体结合。         诚峰智造专注研发等离子清洗机20年,如果您想了解更多产品细节或者对设备使用有疑问,请点击“在线客服”,诚峰智造恭候您的来电!

plasma清洗设备固体材料表面处理中化学过程展现总结

【概要描述】        利用plasma清洗设备对固体材料进行表面处理时,等离子体中的微粒能够将其自身能量转移到固体表面,因此,由于自身能量的增加,因此可以使固体表面的原子或分子产生新的化学键,或使原化学键断裂。化学过程主要有氧化、还原、分解裂化、聚合等几个方面。


        之前的部分内容中主要介绍了plasma清洗设备与固体材料表面的物理作用,与固体材料表面的化学过程是一个与物理作用相对应的处理过程,下面对plasma清洗设备与固体材料表面处理的化学过程进行总结介绍。
        1、氧化过程
        氧气是一种强氧化剂,当plasma清洗设备以氧气为过程气体时,它所产生的等离子体内也有氧,它能与固体表面发生氧化反应,从而在表面形成氧化物或过氧化物。
        2、还原过程
        氢原子具有很高的反应能力,它是强还原剂的一种,在plasma清洗设备的处理中,既能将被反应固体材料表面的氧化物还原,又能渗透到材料的深层,将更深层的氧化物还原,将金属氧化物中的金属还原,就是氢原子的应用之一。
        3、分解裂化过程
        利用等离子体在等离子清洗机中的作用,可使固体材料表面的分子分解,断裂大分子与分子键,还可降低分子质量。
        4、聚合工艺
        将plasma清洗设备引入单体后,可在材料表面进行聚合,可在固体表面生成聚合物,也可通过等离子体诱导在固体表面生成自由基,从而通过分子键交联、侧键上接枝、官能团转换或嵌断聚合等方法与跟单体结合。
        诚峰智造专注研发等离子清洗机20年,如果您想了解更多产品细节或者对设备使用有疑问,请点击“在线客服”,诚峰智造恭候您的来电!

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-10 08:41
  • 访问量:
详情

plasma清洗设备固体材料表面处理中化学过程展现总结:
        利用plasma清洗设备对固体材料进行表面处理时,等离子体中的微粒能够将其自身能量转移到固体表面,因此,由于自身能量的增加,因此可以使固体表面的原子或分子产生新的化学键,或使原化学键断裂。化学过程主要有氧化、还原、分解裂化、聚合等几个方面。

诚峰智造plasma清洗设备
        之前的部分内容中主要介绍了plasma清洗设备与固体材料表面的物理作用,与固体材料表面的化学过程是一个与物理作用相对应的处理过程,下面对plasma清洗设备与固体材料表面处理的化学过程进行总结介绍。
        1、氧化过程
        氧气是一种强氧化剂,当plasma清洗设备以氧气为过程气体时,它所产生的等离子体内也有氧,它能与固体表面发生氧化反应,从而在表面形成氧化物或过氧化物。
        2、还原过程
        氢原子具有很高的反应能力,它是强还原剂的一种,在plasma清洗设备的处理中,既能将被反应固体材料表面的氧化物还原,又能渗透到材料的深层,将更深层的氧化物还原,将金属氧化物中的金属还原,就是氢原子的应用之一。
        3、分解裂化过程
        利用等离子体在等离子清洗机中的作用,可使固体材料表面的分子分解,断裂大分子与分子键,还可降低分子质量。
        4、聚合工艺
        将plasma清洗设备引入单体后,可在材料表面进行聚合,可在固体表面生成聚合物,也可通过等离子体诱导在固体表面生成自由基,从而通过分子键交联、侧键上接枝、官能团转换或嵌断聚合等方法与跟单体结合。
        诚峰智造专注研发等离子清洗机20年,如果您想了解更多产品细节或者对设备使用有疑问,请点击“在线客服”,诚峰智造恭候您的来电!

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区