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射流低温等离子电源等离子体处理增强环氧表面憎水性研究

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-08
  • 访问量:

【概要描述】        绝缘材料的表面状况是决定电力设备尺寸、性能及稳定性的重要因素之一。处于高压电场中的绝缘材料易发生沿面闪络放电,且闪络电压远低于击穿电压。如何提高绝缘材料的沿面闪络电压,进而有效抑制闪络现象的发生,是一直在努力解决的问题。         提高绝缘材料表面憎水性是提高湿闪和污闪电压的有效途径。目前应用中主要采用硅油、硅脂(RTV)、硅橡胶涂覆以及纳米材料填充等措施来提高绝缘材料表面的憎水性,但这些措施存在涂层附着力差、均匀性差时效性差以及维护成本高等缺点。         因此在不影响基体绝缘性能的基础上,通过新手段在其表面形成均匀致密长效的憎水层可以有效克服这些缺点,更好地提高绝缘材料的表面性能。         射流低温等离子电源等离子体处理是改变材料表面性能的新手段之一,近年来受到广泛重视。低温等离子电源等离子体表面改性属于干式工艺,高效节能且无污染,改性只涉及表面纳米级别范围,而基体性能不受影响。         在众多产生大气压低温等离子体的放电形式中,近年来发展起来的等离子体射流是材料表面处理的理想等离子源,这种放电形式通过气流将放电产生和处理区域分离,具有更强的处理灵活性和可控性,非常适合用于处理大尺寸及复杂形状的绝缘材料表面。         但目前采用射流低温等离子电源提高憎水性的研究主要是针对典型聚合物和金属表面,针对绝缘材料表面的较少涉及。         射流低温等离子电源导致憎水性增加的原因,随处理时间增加,表面能色散分量略有增加,而极性分量则随处理时间增加急剧减小,说明处理后环氧表面能减小主要是因为其极性分量减小造成的。         未处理的环氧表面无明显的样貌特征,表面相对粗糙。而处理后的环氧表面呈现出特定的形貌,在表面生成了均匀分布的致密网状结构,说明射流低温等离子电源等离子体处理在表面形成了新的具有固定形貌结构的材料。         射流低温等离子电源等离子体处理能有效地提高环氧表面的憎水性。随处理时间增加,处理后环氧表面水接触角增加,表面能减小。射流中含有的Ar,OH,O以及Si等粒子和环氧表面作用,在表面形成一层致密的网状结构,同时在表面引入含硅基团,有效地降低了表面极性,使环氧表面的憎水性提高。  

射流低温等离子电源等离子体处理增强环氧表面憎水性研究

【概要描述】        绝缘材料的表面状况是决定电力设备尺寸、性能及稳定性的重要因素之一。处于高压电场中的绝缘材料易发生沿面闪络放电,且闪络电压远低于击穿电压。如何提高绝缘材料的沿面闪络电压,进而有效抑制闪络现象的发生,是一直在努力解决的问题。


        提高绝缘材料表面憎水性是提高湿闪和污闪电压的有效途径。目前应用中主要采用硅油、硅脂(RTV)、硅橡胶涂覆以及纳米材料填充等措施来提高绝缘材料表面的憎水性,但这些措施存在涂层附着力差、均匀性差时效性差以及维护成本高等缺点。
        因此在不影响基体绝缘性能的基础上,通过新手段在其表面形成均匀致密长效的憎水层可以有效克服这些缺点,更好地提高绝缘材料的表面性能。
        射流低温等离子电源等离子体处理是改变材料表面性能的新手段之一,近年来受到广泛重视。低温等离子电源等离子体表面改性属于干式工艺,高效节能且无污染,改性只涉及表面纳米级别范围,而基体性能不受影响。
        在众多产生大气压低温等离子体的放电形式中,近年来发展起来的等离子体射流是材料表面处理的理想等离子源,这种放电形式通过气流将放电产生和处理区域分离,具有更强的处理灵活性和可控性,非常适合用于处理大尺寸及复杂形状的绝缘材料表面。
        但目前采用射流低温等离子电源提高憎水性的研究主要是针对典型聚合物和金属表面,针对绝缘材料表面的较少涉及。
        射流低温等离子电源导致憎水性增加的原因,随处理时间增加,表面能色散分量略有增加,而极性分量则随处理时间增加急剧减小,说明处理后环氧表面能减小主要是因为其极性分量减小造成的。
        未处理的环氧表面无明显的样貌特征,表面相对粗糙。而处理后的环氧表面呈现出特定的形貌,在表面生成了均匀分布的致密网状结构,说明射流低温等离子电源等离子体处理在表面形成了新的具有固定形貌结构的材料。
        射流低温等离子电源等离子体处理能有效地提高环氧表面的憎水性。随处理时间增加,处理后环氧表面水接触角增加,表面能减小。射流中含有的Ar,OH,O以及Si等粒子和环氧表面作用,在表面形成一层致密的网状结构,同时在表面引入含硅基团,有效地降低了表面极性,使环氧表面的憎水性提高。
 

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-03-08 10:54
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射流低温等离子电源等离子体处理增强环氧表面憎水性研究:
        绝缘材料的表面状况是决定电力设备尺寸、性能及稳定性的重要因素之一。处于高压电场中的绝缘材料易发生沿面闪络放电,且闪络电压远低于击穿电压。如何提高绝缘材料的沿面闪络电压,进而有效抑制闪络现象的发生,是一直在努力解决的问题。

诚峰智造射流低温等离子电源
        提高绝缘材料表面憎水性是提高湿闪和污闪电压的有效途径。目前应用中主要采用硅油、硅脂(RTV)、硅橡胶涂覆以及纳米材料填充等措施来提高绝缘材料表面的憎水性,但这些措施存在涂层附着力差、均匀性差时效性差以及维护成本高等缺点。
        因此在不影响基体绝缘性能的基础上,通过新手段在其表面形成均匀致密长效的憎水层可以有效克服这些缺点,更好地提高绝缘材料的表面性能。
        射流低温等离子电源等离子体处理是改变材料表面性能的新手段之一,近年来受到广泛重视。低温等离子电源等离子体表面改性属于干式工艺,高效节能且无污染,改性只涉及表面纳米级别范围,而基体性能不受影响。
        在众多产生大气压低温等离子体的放电形式中,近年来发展起来的等离子体射流是材料表面处理的理想等离子源,这种放电形式通过气流将放电产生和处理区域分离,具有更强的处理灵活性和可控性,非常适合用于处理大尺寸及复杂形状的绝缘材料表面。
        但目前采用射流低温等离子电源提高憎水性的研究主要是针对典型聚合物和金属表面,针对绝缘材料表面的较少涉及。
        射流低温等离子电源导致憎水性增加的原因,随处理时间增加,表面能色散分量略有增加,而极性分量则随处理时间增加急剧减小,说明处理后环氧表面能减小主要是因为其极性分量减小造成的。
        未处理的环氧表面无明显的样貌特征,表面相对粗糙。而处理后的环氧表面呈现出特定的形貌,在表面生成了均匀分布的致密网状结构,说明射流低温等离子电源等离子体处理在表面形成了新的具有固定形貌结构的材料。
        射流低温等离子电源等离子体处理能有效地提高环氧表面的憎水性。随处理时间增加,处理后环氧表面水接触角增加,表面能减小。射流中含有的Ar,OH,O以及Si等粒子和环氧表面作用,在表面形成一层致密的网状结构,同时在表面引入含硅基团,有效地降低了表面极性,使环氧表面的憎水性提高。

 

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