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低温等离子设备等离子电源清洗技术在LCD中的应用

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-03
  • 访问量:

【概要描述】        LCD的COG组装过程是在ITO玻璃上贴装IC裸片,利用金球的变形与压缩来使ITO玻璃上的引脚与IC芯片上的引脚导通。由于精细线路不断发展的技术目前已经发展到生产Pitch为20μm、线条为10μm的产品。         这些精细线路电子产品的生产与组装对TTO玻璃的表面清洁度要求非常高。要求产品的可焊接性能好、焊接牢固、不能有任何有机与无机的物质残留在ITO玻璃上,阻止TTO电极端子与ICBUMP的导通性,因此对ITO玻璃的清洁显得非常重要。         在目前的ITO玻璃清洁工艺中大家都在尝试利用各种清洗剂(酒精清洗、棉签+柠檬水清洗、超声波清洗)进行清洗,但由于清洗剂的引入会导致因清洗剂的引入而带来其他的相关问题,因此探索新的清洗方法成为各厂家的努力方向。通过逐步的试验利用低温等离子设备等离子电源来对ITO玻璃进行表面清洁是比较有效的清洁方法。         等离子体是由带正、负电荷的离子和电子也可能还有一些中性的原子和分子所组成的集合体,在宏观上一般呈电中性。等离子体可以是固态、液态和气态。电离气体就是一种气态等离子体。 等离子体中的基本过程是在电场和磁场的作用下各种带电粒子间相互作用引起多种效应。         在对液晶玻璃进行的低温等离子设备等离子电源等离子清洗中,使用的活化气体是氧等离子体,它能除去油性污垢和有机污染物粒子,因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。增强偏光板粘贴的成品率并且电极端与导电膜间的粘附性也大大改善,从而改善了产品的质量及其稳定性。         低温等离子设备等离子电源清洗技术实际是高精度的干法清洗设备,它的清洗范围为纳米级别的有机和无机污染物。         在等离子清洗应用中主要是利用低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体( Ar、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发,产生含有离子、激发态分子,自由基等多种活性粒子。一般在等离子清洗中,可把活化气体分为两类:一类为惰性气体的等离子体(如Ar、N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2、H2等)。这些活性粒子能与表面材料发生反应,激发态分子清洗活化表面。         低温等离子设备等离子电源等离子产生的原理如下:给一组电极施加射频电压(频率约为几十兆赫兹) ,电极之间形成高频交变电场区域内气体在交变电场的激荡下,产生等离子体。活性等离子对被清洗物进行表面物理轰击与化学反应双重作用使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质经过抽真空排出而达到清洗目的。         LCD工艺水平飞速发展,LCD制造技术极限不断受到挑战并发展已成为代表先进制造技术的前沿技术。在清洗行业对清洗的要求也越来越高,常规清洗已经不能满足要求,等离子体清洗比较理想地解决了这些精密清洗的要求又符合当今环保的形势。

低温等离子设备等离子电源清洗技术在LCD中的应用

【概要描述】        LCD的COG组装过程是在ITO玻璃上贴装IC裸片,利用金球的变形与压缩来使ITO玻璃上的引脚与IC芯片上的引脚导通。由于精细线路不断发展的技术目前已经发展到生产Pitch为20μm、线条为10μm的产品。


        这些精细线路电子产品的生产与组装对TTO玻璃的表面清洁度要求非常高。要求产品的可焊接性能好、焊接牢固、不能有任何有机与无机的物质残留在ITO玻璃上,阻止TTO电极端子与ICBUMP的导通性,因此对ITO玻璃的清洁显得非常重要。
        在目前的ITO玻璃清洁工艺中大家都在尝试利用各种清洗剂(酒精清洗、棉签+柠檬水清洗、超声波清洗)进行清洗,但由于清洗剂的引入会导致因清洗剂的引入而带来其他的相关问题,因此探索新的清洗方法成为各厂家的努力方向。通过逐步的试验利用低温等离子设备等离子电源来对ITO玻璃进行表面清洁是比较有效的清洁方法。
        等离子体是由带正、负电荷的离子和电子也可能还有一些中性的原子和分子所组成的集合体,在宏观上一般呈电中性。等离子体可以是固态、液态和气态。电离气体就是一种气态等离子体。 等离子体中的基本过程是在电场和磁场的作用下各种带电粒子间相互作用引起多种效应。
        在对液晶玻璃进行的低温等离子设备等离子电源等离子清洗中,使用的活化气体是氧等离子体,它能除去油性污垢和有机污染物粒子,因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。增强偏光板粘贴的成品率并且电极端与导电膜间的粘附性也大大改善,从而改善了产品的质量及其稳定性。
        低温等离子设备等离子电源清洗技术实际是高精度的干法清洗设备,它的清洗范围为纳米级别的有机和无机污染物。
        在等离子清洗应用中主要是利用低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体( Ar、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发,产生含有离子、激发态分子,自由基等多种活性粒子。一般在等离子清洗中,可把活化气体分为两类:一类为惰性气体的等离子体(如Ar、N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2、H2等)。这些活性粒子能与表面材料发生反应,激发态分子清洗活化表面。
        低温等离子设备等离子电源等离子产生的原理如下:给一组电极施加射频电压(频率约为几十兆赫兹) ,电极之间形成高频交变电场区域内气体在交变电场的激荡下,产生等离子体。活性等离子对被清洗物进行表面物理轰击与化学反应双重作用使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质经过抽真空排出而达到清洗目的。
        LCD工艺水平飞速发展,LCD制造技术极限不断受到挑战并发展已成为代表先进制造技术的前沿技术。在清洗行业对清洗的要求也越来越高,常规清洗已经不能满足要求,等离子体清洗比较理想地解决了这些精密清洗的要求又符合当今环保的形势。

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  • 发布时间:2021-03-03 09:42
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低温等离子设备等离子电源清洗技术在LCD中的应用:
        LCD的COG组装过程是在ITO玻璃上贴装IC裸片,利用金球的变形与压缩来使ITO玻璃上的引脚与IC芯片上的引脚导通。由于精细线路不断发展的技术目前已经发展到生产Pitch为20μm、线条为10μm的产品。

诚峰智造低温等离子设备
        这些精细线路电子产品的生产与组装对TTO玻璃的表面清洁度要求非常高。要求产品的可焊接性能好、焊接牢固、不能有任何有机与无机的物质残留在ITO玻璃上,阻止TTO电极端子与ICBUMP的导通性,因此对ITO玻璃的清洁显得非常重要。
        在目前的ITO玻璃清洁工艺中大家都在尝试利用各种清洗剂(酒精清洗、棉签+柠檬水清洗、超声波清洗)进行清洗,但由于清洗剂的引入会导致因清洗剂的引入而带来其他的相关问题,因此探索新的清洗方法成为各厂家的努力方向。通过逐步的试验利用低温等离子设备等离子电源来对ITO玻璃进行表面清洁是比较有效的清洁方法。
        等离子体是由带正、负电荷的离子和电子也可能还有一些中性的原子和分子所组成的集合体,在宏观上一般呈电中性。等离子体可以是固态、液态和气态。电离气体就是一种气态等离子体。 等离子体中的基本过程是在电场和磁场的作用下各种带电粒子间相互作用引起多种效应。
        在对液晶玻璃进行的低温等离子设备等离子电源等离子清洗中,使用的活化气体是氧等离子体,它能除去油性污垢和有机污染物粒子,因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。增强偏光板粘贴的成品率并且电极端与导电膜间的粘附性也大大改善,从而改善了产品的质量及其稳定性。
        低温等离子设备等离子电源清洗技术实际是高精度的干法清洗设备,它的清洗范围为纳米级别的有机和无机污染物。
        在等离子清洗应用中主要是利用低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体( Ar、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发,产生含有离子、激发态分子,自由基等多种活性粒子。一般在等离子清洗中,可把活化气体分为两类:一类为惰性气体的等离子体(如Ar、N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2、H2等)。这些活性粒子能与表面材料发生反应,激发态分子清洗活化表面。
        低温等离子设备等离子电源等离子产生的原理如下:给一组电极施加射频电压(频率约为几十兆赫兹) ,电极之间形成高频交变电场区域内气体在交变电场的激荡下,产生等离子体。活性等离子对被清洗物进行表面物理轰击与化学反应双重作用使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质经过抽真空排出而达到清洗目的。
        LCD工艺水平飞速发展,LCD制造技术极限不断受到挑战并发展已成为代表先进制造技术的前沿技术。在清洗行业对清洗的要求也越来越高,常规清洗已经不能满足要求,等离子体清洗比较理想地解决了这些精密清洗的要求又符合当今环保的形势。

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