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等离子清洗技术在阴极面板表面的作用

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-01-30
  • 访问量:

【概要描述】  以微光像增强器为代表的真空光电子器件在国防、科研等行业中有着广泛的应用,在国内受到普遍的重视。微光像增强器主要由阴极输入窗、多碱光电阴极、微通道板、荧光屏、阳极输出窗等零件组成。   其工作原理:在夜间低照度下,将人眼不能直接看见的景物图像,通过阴极输入窗上的多碱光电阴极转换成相应的光电子图像,光电子图像经过微通道板电子倍增器的放大、增强,再经阳极高压加速,由荧光屏转换成亮度足够的光学图像,经过阳极输出窗输出,供人眼观看。   多碱光电阴极采用真空蒸发的工艺制作。制作时,交替蒸发Sb、K、Na、Cs四种蒸发源,形成Na2KSb(Cs)膜层多碱光电阴极。微光像增强器的一个主要指标就是多碱光电阴极的灵敏度,其高低主要取决于Na2KSb(Cs)膜层的生长质量,而Na2KSb(Cs)膜层的生长质量又与其阴极面板的表面活性、清洁度等紧密相关。   同时,如果阴极表面不光滑、不纯净,还会造成由场致发射引起的真空击穿,破坏多碱光电阴极膜层。引起真空放电的主要因素有:不平整度和微观凸起,阴极面板表面自由状态的微粒子、电介质膜、半导体膜,阴极面板上的附加物,以及吸附气体。   一般认为玻璃表面分为两层:   亚表面层(Subsurface),即表面下面0~ 100 nm,该层存在大量的羟基,它对水的亲和力很强,因此玻璃表面吸附了大量的水分子(包括少量的CO2)。这部分气体与表面结合不牢,属于物理吸附和弱化学吸附。一般在真空中加热到150~200C 左右时,在几分钟内大部分可从玻璃上解吸。   近表面层(Nearsurface), 亦称风化表面层,含碱性氧化物越多的玻璃(如钠玻璃、铅玻璃)因其碱性氧化物化学稳定性差,易受水汽侵蚀,所以越容易风化。   风化表面层的厚度一般为几微米。在风化表面层中存在着大量的气体,特别是水。风化表面层可以用酒石酸溶液浸泡去除,也可以采用等离子轰击的方法去除。   酒石酸溶液浸泡是为了将不易冲洗掉的有机清洗溶剂清洗干净,同时还可以对阴极面板表面进行清洁。在这种传统的工艺中,除了需要使用大量的酒石酸溶液、去离子水和酒精外,同时还需要较长的处理时间。长期使用这种清洗方法不但效率低下、浪费资源,而且还会对环境造成影响,不利于环境保护。   等离子清洗的工作原理是利用真空泵将工作室进行抽真空达到30~ 50Pa的真空度,再在高频发生器交变电场的作用下将气体进行电离,形成等离子态,其显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。   活性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用,使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质,经过抽真空排出,从而达到清洗目的。   等离子清洗是一种“干式”的表面清洁技术,适用于各种不同类型的材料,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料。同时,被清洗物的几何形状不受限制,且清洗成本大大低于湿法清洗,仅仅几瓶气体就可以替代数千公斤清洗液。   采用等离子清洗技术对阴极面板表面进行处理,既可以清洁阴极面板的表面,又可以增加阴极面板的表面活性,满足多碱光电阴极的制作要求,使多碱光电阴极膜层的生长质量达到传统酒石酸溶液浸泡处理后的效果。   同时等离子清洗技术与传统的酒石酸溶液浸泡相比,效率更高,且减少了酒石酸溶液、去离子水及酒精等资源的使用,达到了降低成本和保护环境的目的。   等离子清洗技术只使用电和氩气,节约了大量的去离子水、洗涤剂、酒精和酒石酸。通过统计,不仅生产成本降低了大约50%, 具有较好的经济效益,而且还有利于保护环境,具有较好的社会效益。

等离子清洗技术在阴极面板表面的作用

【概要描述】  以微光像增强器为代表的真空光电子器件在国防、科研等行业中有着广泛的应用,在国内受到普遍的重视。微光像增强器主要由阴极输入窗、多碱光电阴极、微通道板、荧光屏、阳极输出窗等零件组成。


  其工作原理:在夜间低照度下,将人眼不能直接看见的景物图像,通过阴极输入窗上的多碱光电阴极转换成相应的光电子图像,光电子图像经过微通道板电子倍增器的放大、增强,再经阳极高压加速,由荧光屏转换成亮度足够的光学图像,经过阳极输出窗输出,供人眼观看。
  多碱光电阴极采用真空蒸发的工艺制作。制作时,交替蒸发Sb、K、Na、Cs四种蒸发源,形成Na2KSb(Cs)膜层多碱光电阴极。微光像增强器的一个主要指标就是多碱光电阴极的灵敏度,其高低主要取决于Na2KSb(Cs)膜层的生长质量,而Na2KSb(Cs)膜层的生长质量又与其阴极面板的表面活性、清洁度等紧密相关。
  同时,如果阴极表面不光滑、不纯净,还会造成由场致发射引起的真空击穿,破坏多碱光电阴极膜层。引起真空放电的主要因素有:不平整度和微观凸起,阴极面板表面自由状态的微粒子、电介质膜、半导体膜,阴极面板上的附加物,以及吸附气体。
  一般认为玻璃表面分为两层:
  亚表面层(Subsurface),即表面下面0~ 100 nm,该层存在大量的羟基,它对水的亲和力很强,因此玻璃表面吸附了大量的水分子(包括少量的CO2)。这部分气体与表面结合不牢,属于物理吸附和弱化学吸附。一般在真空中加热到150~200C 左右时,在几分钟内大部分可从玻璃上解吸。
  近表面层(Nearsurface), 亦称风化表面层,含碱性氧化物越多的玻璃(如钠玻璃、铅玻璃)因其碱性氧化物化学稳定性差,易受水汽侵蚀,所以越容易风化。
  风化表面层的厚度一般为几微米。在风化表面层中存在着大量的气体,特别是水。风化表面层可以用酒石酸溶液浸泡去除,也可以采用等离子轰击的方法去除。
  酒石酸溶液浸泡是为了将不易冲洗掉的有机清洗溶剂清洗干净,同时还可以对阴极面板表面进行清洁。在这种传统的工艺中,除了需要使用大量的酒石酸溶液、去离子水和酒精外,同时还需要较长的处理时间。长期使用这种清洗方法不但效率低下、浪费资源,而且还会对环境造成影响,不利于环境保护。
  等离子清洗的工作原理是利用真空泵将工作室进行抽真空达到30~ 50Pa的真空度,再在高频发生器交变电场的作用下将气体进行电离,形成等离子态,其显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。
  活性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用,使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质,经过抽真空排出,从而达到清洗目的。
  等离子清洗是一种“干式”的表面清洁技术,适用于各种不同类型的材料,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料。同时,被清洗物的几何形状不受限制,且清洗成本大大低于湿法清洗,仅仅几瓶气体就可以替代数千公斤清洗液。
  采用等离子清洗技术对阴极面板表面进行处理,既可以清洁阴极面板的表面,又可以增加阴极面板的表面活性,满足多碱光电阴极的制作要求,使多碱光电阴极膜层的生长质量达到传统酒石酸溶液浸泡处理后的效果。
  同时等离子清洗技术与传统的酒石酸溶液浸泡相比,效率更高,且减少了酒石酸溶液、去离子水及酒精等资源的使用,达到了降低成本和保护环境的目的。
  等离子清洗技术只使用电和氩气,节约了大量的去离子水、洗涤剂、酒精和酒石酸。通过统计,不仅生产成本降低了大约50%, 具有较好的经济效益,而且还有利于保护环境,具有较好的社会效益。

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  • 发布时间:2021-01-30 09:34
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等离子清洗技术在阴极面板表面的作用:
  以微光像增强器为代表的真空光电子器件在国防、科研等行业中有着广泛的应用,在国内受到普遍的重视。微光像增强器主要由阴极输入窗、多碱光电阴极、微通道板、荧光屏、阳极输出窗等零件组成。

等离子清洗技术
  其工作原理:在夜间低照度下,将人眼不能直接看见的景物图像,通过阴极输入窗上的多碱光电阴极转换成相应的光电子图像,光电子图像经过微通道板电子倍增器的放大、增强,再经阳极高压加速,由荧光屏转换成亮度足够的光学图像,经过阳极输出窗输出,供人眼观看。
  多碱光电阴极采用真空蒸发的工艺制作。制作时,交替蒸发Sb、K、Na、Cs四种蒸发源,形成Na2KSb(Cs)膜层多碱光电阴极。微光像增强器的一个主要指标就是多碱光电阴极的灵敏度,其高低主要取决于Na2KSb(Cs)膜层的生长质量,而Na2KSb(Cs)膜层的生长质量又与其阴极面板的表面活性、清洁度等紧密相关。
  同时,如果阴极表面不光滑、不纯净,还会造成由场致发射引起的真空击穿,破坏多碱光电阴极膜层。引起真空放电的主要因素有:不平整度和微观凸起,阴极面板表面自由状态的微粒子、电介质膜、半导体膜,阴极面板上的附加物,以及吸附气体。
  一般认为玻璃表面分为两层:
  亚表面层(Subsurface),即表面下面0~ 100 nm,该层存在大量的羟基,它对水的亲和力很强,因此玻璃表面吸附了大量的水分子(包括少量的CO2)。这部分气体与表面结合不牢,属于物理吸附和弱化学吸附。一般在真空中加热到150~200C 左右时,在几分钟内大部分可从玻璃上解吸。
  近表面层(Nearsurface), 亦称风化表面层,含碱性氧化物越多的玻璃(如钠玻璃、铅玻璃)因其碱性氧化物化学稳定性差,易受水汽侵蚀,所以越容易风化。
  风化表面层的厚度一般为几微米。在风化表面层中存在着大量的气体,特别是水。风化表面层可以用酒石酸溶液浸泡去除,也可以采用等离子轰击的方法去除。
  酒石酸溶液浸泡是为了将不易冲洗掉的有机清洗溶剂清洗干净,同时还可以对阴极面板表面进行清洁。在这种传统的工艺中,除了需要使用大量的酒石酸溶液、去离子水和酒精外,同时还需要较长的处理时间。长期使用这种清洗方法不但效率低下、浪费资源,而且还会对环境造成影响,不利于环境保护。
  等离子清洗的工作原理是利用真空泵将工作室进行抽真空达到30~ 50Pa的真空度,再在高频发生器交变电场的作用下将气体进行电离,形成等离子态,其显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。
  活性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用,使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质,经过抽真空排出,从而达到清洗目的。
  等离子清洗是一种“干式”的表面清洁技术,适用于各种不同类型的材料,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料。同时,被清洗物的几何形状不受限制,且清洗成本大大低于湿法清洗,仅仅几瓶气体就可以替代数千公斤清洗液。
  采用等离子清洗技术对阴极面板表面进行处理,既可以清洁阴极面板的表面,又可以增加阴极面板的表面活性,满足多碱光电阴极的制作要求,使多碱光电阴极膜层的生长质量达到传统酒石酸溶液浸泡处理后的效果。
  同时等离子清洗技术与传统的酒石酸溶液浸泡相比,效率更高,且减少了酒石酸溶液、去离子水及酒精等资源的使用,达到了降低成本和保护环境的目的。
  等离子清洗技术只使用电和氩气,节约了大量的去离子水、洗涤剂、酒精和酒石酸。通过统计,不仅生产成本降低了大约50%, 具有较好的经济效益,而且还有利于保护环境,具有较好的社会效益。

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