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等离子清洗

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2017-04-16
  • 访问量:

【概要描述】在工业生产过程中对电子元件、光学部件、机械零件、高分子材料 等表面的纯度清洗,以去除极微小污垢颗粒,常常是一道非常关键的工艺。传统的清洗方式大多为湿法清洗,随着现代高科技的不断发展这种清洗方法已暴露出其很多的缺陷,即清洗干燥以后的清洗剂残余和微小颗粒会附着在表面,已经不能满足现代高科技工艺的要求。低温等离子清洗工艺实际上是把污染物从被处理工件上移开,并在等离子体反应的冲击下被带走,处理循环一般只需要几分钟就能很好除去表面的脏污,真正做到无残留,零污染。由于气体对于微小缝隙的渗透力远远大于液体,对于复杂形态的物体同样可以得到清洗的效果。等离子清洗过程中起决定性的因素是无论常压状态,还是真空状态,即使在温室的条件下,等离子体都会和有机污染物产生反应,分解成水和二氧化碳等分子,并具有良好的挥发性。

等离子清洗

【概要描述】在工业生产过程中对电子元件、光学部件、机械零件、高分子材料 等表面的纯度清洗,以去除极微小污垢颗粒,常常是一道非常关键的工艺。传统的清洗方式大多为湿法清洗,随着现代高科技的不断发展这种清洗方法已暴露出其很多的缺陷,即清洗干燥以后的清洗剂残余和微小颗粒会附着在表面,已经不能满足现代高科技工艺的要求。低温等离子清洗工艺实际上是把污染物从被处理工件上移开,并在等离子体反应的冲击下被带走,处理循环一般只需要几分钟就能很好除去表面的脏污,真正做到无残留,零污染。由于气体对于微小缝隙的渗透力远远大于液体,对于复杂形态的物体同样可以得到清洗的效果。等离子清洗过程中起决定性的因素是无论常压状态,还是真空状态,即使在温室的条件下,等离子体都会和有机污染物产生反应,分解成水和二氧化碳等分子,并具有良好的挥发性。

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2017-04-16 14:46
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等离子清洗:

        在工业生产过程中对电子元件、光学部件、机械零件、高分子材料 等表面的纯度清洗,以去除极微小污垢颗粒,常常是一道非常关键的工艺。传统的清洗方式大多为湿法清洗,随着现代高科技的不断发展这种清洗方法已暴露出其很多的缺陷,即清洗干燥以后的清洗剂残余和微小颗粒会附着在表面,已经不能满足现代高科技工艺的要求。低温等离子清洗工艺实际上是把污染物从被处理工件上移开,并在等离子体反应的冲击下被带走,处理循环一般只需要几分钟就能很好除去表面的脏污,真正做到无残留,零污染。由于气体对于微小缝隙的渗透力远远大于液体,对于复杂形态的物体同样可以得到清洗的效果。等离子清洗过程中起决定性的因素是无论常压状态,还是真空状态,即使在温室的条件下,等离子体都会和有机污染物产生反应,分解成水和二氧化碳等分子,并具有良好的挥发性。


CRF plasma等离子清洗的优势:

处理温度低, 具有广适性,清洗彻底,没有残留,工艺可控,一致性好支持下游的干燥工艺,使用成本、废物处置成本低,环保工艺,对操作人员身体无伤害


 等离子体应用行业:

光学软件、半导体、微电子、印制电路板、精密机械、医用高分子、五金加工、钟表制造、光纤电缆、光伏新能源、玻璃器皿等。

CRF plasma等离子清洗机-诚峰智造

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