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真空式等离子处理系统设备主要配件等离子介绍大全

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-01-21
  • 访问量:

【概要描述】        诚峰智造真空式等离子处理系统设备是一种适用于大型化处理的等离子体处理系统,通过大量的研究和开发提供了独特的真空和气流技术。         利用脉冲RF来增强等离子体聚合膜的性能,是一种理想的设备,用于引导或生产加工基底材料。可靠的工艺质量,加上独特的搁架设计和等离子体中反应离子的优化应用,使处理均匀性得到改善,同时缩短了处理时间。适用于各种型号的零件和部件的成本及空间的等离子真空处理器。真空式等离子处理系统设备等离子腔体采用不锈钢与铝制固定装置,具有耐久性。设有可拆卸、可调架,可容纳多个部件,多达可容纳14个电极位置。         真空式等离子处理系统设备是一种高效的等离子体处理系统,它具有超大的空腔,可进行批量处理。主要配件是采用脉冲13.56MHz射频发生器,提高了等离子体聚合膜的性能。本机为处理清洗各种零件而设计的经济高效的真空等离子处理机。等离子清洗机系统具有水平滑架,便于装卸。它简洁,服务友好的设计占用空间很小,特别适合于系统前后的维护。多个真空等离子体处理系统可以并排放置,从而达到很大的占地面积利用率。可以在多个级别对控制系统进行密码保护,防止对配方的未经授权修改。这样可以保证系统从每一批的一致性能。等离子处理系统将系统的可靠性和过程质量结合起来。与普通真空等离子相比,具有体积大、基片处理能力强等特点。配备了四套质量流量控制器,实现了气体的控制。 真空式等离子处理系统设备的大型等离子体处理腔可以处理较大的基片,也许更小一些。采用单步法工艺,使工业上的等离子体质量均匀。这是一种独立的系统,有一个节省空间的小型箱体,有一个容易进入的前载门,并装有真空系统、等离子室、控制电子设备和13.56MHz电源。减压速度快,大大提高了工艺周期时间,进一步提高了系统产量和生产率。         大面积真空式等离子处理系统设备可提供多种大小各异的室内尺寸,可选择垂直或水平配置。定做的配置可以满足大面板和厚面板的要求。工业验证的等离子技术提供了优异的层压前表面处理均匀性,提高了粘附性和可靠性。高效率的设计,低耗气量,低占用面积,和吸引人的系统价格都有助于降低拥有成本。易于装入和多功能框架,具有很大的吞吐量,单级等离子体处理和容量选择,可以满足多种PCB生产要求,产量极高。         以上就是等离子处理系统主要配件介绍大全的讲解。

真空式等离子处理系统设备主要配件等离子介绍大全

【概要描述】        诚峰智造真空式等离子处理系统设备是一种适用于大型化处理的等离子体处理系统,通过大量的研究和开发提供了独特的真空和气流技术。


        利用脉冲RF来增强等离子体聚合膜的性能,是一种理想的设备,用于引导或生产加工基底材料。可靠的工艺质量,加上独特的搁架设计和等离子体中反应离子的优化应用,使处理均匀性得到改善,同时缩短了处理时间。适用于各种型号的零件和部件的成本及空间的等离子真空处理器。真空式等离子处理系统设备等离子腔体采用不锈钢与铝制固定装置,具有耐久性。设有可拆卸、可调架,可容纳多个部件,多达可容纳14个电极位置。
        真空式等离子处理系统设备是一种高效的等离子体处理系统,它具有超大的空腔,可进行批量处理。主要配件是采用脉冲13.56MHz射频发生器,提高了等离子体聚合膜的性能。本机为处理清洗各种零件而设计的经济高效的真空等离子处理机。等离子清洗机系统具有水平滑架,便于装卸。它简洁,服务友好的设计占用空间很小,特别适合于系统前后的维护。多个真空等离子体处理系统可以并排放置,从而达到很大的占地面积利用率。可以在多个级别对控制系统进行密码保护,防止对配方的未经授权修改。这样可以保证系统从每一批的一致性能。等离子处理系统将系统的可靠性和过程质量结合起来。与普通真空等离子相比,具有体积大、基片处理能力强等特点。配备了四套质量流量控制器,实现了气体的控制。
真空式等离子处理系统设备的大型等离子体处理腔可以处理较大的基片,也许更小一些。采用单步法工艺,使工业上的等离子体质量均匀。这是一种独立的系统,有一个节省空间的小型箱体,有一个容易进入的前载门,并装有真空系统、等离子室、控制电子设备和13.56MHz电源。减压速度快,大大提高了工艺周期时间,进一步提高了系统产量和生产率。
        大面积真空式等离子处理系统设备可提供多种大小各异的室内尺寸,可选择垂直或水平配置。定做的配置可以满足大面板和厚面板的要求。工业验证的等离子技术提供了优异的层压前表面处理均匀性,提高了粘附性和可靠性。高效率的设计,低耗气量,低占用面积,和吸引人的系统价格都有助于降低拥有成本。易于装入和多功能框架,具有很大的吞吐量,单级等离子体处理和容量选择,可以满足多种PCB生产要求,产量极高。
        以上就是等离子处理系统主要配件介绍大全的讲解。

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-01-21 10:41
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        诚峰智造真空式等离子处理系统设备是一种适用于大型化处理的等离子体处理系统,通过大量的研究和开发提供了独特的真空和气流技术。

真空式等离子处理系统设备
        利用脉冲RF来增强等离子体聚合膜的性能,是一种理想的设备,用于引导或生产加工基底材料。可靠的工艺质量,加上独特的搁架设计和等离子体中反应离子的优化应用,使处理均匀性得到改善,同时缩短了处理时间。适用于各种型号的零件和部件的成本及空间的等离子真空处理器。真空式等离子处理系统设备等离子腔体采用不锈钢与铝制固定装置,具有耐久性。设有可拆卸、可调架,可容纳多个部件,多达可容纳14个电极位置。
        真空式等离子处理系统设备是一种高效的等离子体处理系统,它具有超大的空腔,可进行批量处理。主要配件是采用脉冲13.56MHz射频发生器,提高了等离子体聚合膜的性能。本机为处理清洗各种零件而设计的经济高效的真空等离子处理机。等离子清洗机系统具有水平滑架,便于装卸。它简洁,服务友好的设计占用空间很小,特别适合于系统前后的维护。多个真空等离子体处理系统可以并排放置,从而达到很大的占地面积利用率。可以在多个级别对控制系统进行密码保护,防止对配方的未经授权修改。这样可以保证系统从每一批的一致性能。等离子处理系统将系统的可靠性和过程质量结合起来。与普通真空等离子相比,具有体积大、基片处理能力强等特点。配备了四套质量流量控制器,实现了气体的控制。
真空式等离子处理系统设备的大型等离子体处理腔可以处理较大的基片,也许更小一些。采用单步法工艺,使工业上的等离子体质量均匀。这是一种独立的系统,有一个节省空间的小型箱体,有一个容易进入的前载门,并装有真空系统、等离子室、控制电子设备和13.56MHz电源。减压速度快,大大提高了工艺周期时间,进一步提高了系统产量和生产率。
        大面积真空式等离子处理系统设备可提供多种大小各异的室内尺寸,可选择垂直或水平配置。定做的配置可以满足大面板和厚面板的要求。工业验证的等离子技术提供了优异的层压前表面处理均匀性,提高了粘附性和可靠性。高效率的设计,低耗气量,低占用面积,和吸引人的系统价格都有助于降低拥有成本。易于装入和多功能框架,具有很大的吞吐量,单级等离子体处理和容量选择,可以满足多种PCB生产要求,产量极高。
        以上就是等离子处理系统主要配件介绍大全的讲解。

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