深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

低温等离子体技术厂家:等离子体化学气相沉积技术

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-01-05
  • 访问量:

【概要描述】       采用低温等离子体(非平衡等离子体)作为能量来源,将工件置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加加热体)将工件加热至预定温度,然后将其通入适量反应气体中,再通过一系列化学反应和等离子体反应,在工件表面形成固体薄膜。包含了化学气相沉积和辉光放电强化等通用技术。        粒子之间的碰撞,会产生强烈的气体离子化,从而激活反应气体。阴极溅射作用同时发生,为沉积薄膜提供了一个具有良好活性的清洁表面。因此,整个沉积过程与仅热活化过程有明显的区别。二者的相互作用,为提高涂层的结合力、降低沉积温度、加快反应速度创造了有利条件。        根据等离子体量源的类型,等离子体化学气相沉积技术分为直流辉光放电、射频放电和微波等离子体放电。当CVD反应频率增加时,等离子体对CVD反应的增强作用越明显,化合物形成的温度降低。        PCVD工艺装置包括沉积室,反应物输送系统,放电电源,真空系统和检测系统。气源用气体净化器去除水份和其他杂质,通过调节装置获得所需的流量,然后与气源同时送入沉积室,在一定温度和等离子体活化等条件下,得到所需的产品,并沉积在工件或基片表面。因此,PCVD的生产过程包含了等离子体物理过程和等离子体化学反应过程。        以上便是诚峰智造低温等离子体技术厂家带来的介绍,希望能帮到您。

低温等离子体技术厂家:等离子体化学气相沉积技术

【概要描述】       采用低温等离子体(非平衡等离子体)作为能量来源,将工件置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加加热体)将工件加热至预定温度,然后将其通入适量反应气体中,再通过一系列化学反应和等离子体反应,在工件表面形成固体薄膜。包含了化学气相沉积和辉光放电强化等通用技术。


       粒子之间的碰撞,会产生强烈的气体离子化,从而激活反应气体。阴极溅射作用同时发生,为沉积薄膜提供了一个具有良好活性的清洁表面。因此,整个沉积过程与仅热活化过程有明显的区别。二者的相互作用,为提高涂层的结合力、降低沉积温度、加快反应速度创造了有利条件。
       根据等离子体量源的类型,等离子体化学气相沉积技术分为直流辉光放电、射频放电和微波等离子体放电。当CVD反应频率增加时,等离子体对CVD反应的增强作用越明显,化合物形成的温度降低。
       PCVD工艺装置包括沉积室,反应物输送系统,放电电源,真空系统和检测系统。气源用气体净化器去除水份和其他杂质,通过调节装置获得所需的流量,然后与气源同时送入沉积室,在一定温度和等离子体活化等条件下,得到所需的产品,并沉积在工件或基片表面。因此,PCVD的生产过程包含了等离子体物理过程和等离子体化学反应过程。
       以上便是诚峰智造低温等离子体技术厂家带来的介绍,希望能帮到您。

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-01-05 09:25
  • 访问量:
详情

       采用低温等离子体(非平衡等离子体)作为能量来源,将工件置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加加热体)将工件加热至预定温度,然后将其通入适量反应气体中,再通过一系列化学反应和等离子体反应,在工件表面形成固体薄膜。包含了化学气相沉积和辉光放电强化等通用技术。

低温等离子体技术厂家
       粒子之间的碰撞,会产生强烈的气体离子化,从而激活反应气体。阴极溅射作用同时发生,为沉积薄膜提供了一个具有良好活性的清洁表面。因此,整个沉积过程与仅热活化过程有明显的区别。二者的相互作用,为提高涂层的结合力、降低沉积温度、加快反应速度创造了有利条件。
       根据等离子体量源的类型,等离子体化学气相沉积技术分为直流辉光放电、射频放电和微波等离子体放电。当CVD反应频率增加时,等离子体对CVD反应的增强作用越明显,化合物形成的温度降低。
       PCVD工艺装置包括沉积室,反应物输送系统,放电电源,真空系统和检测系统。气源用气体净化器去除水份和其他杂质,通过调节装置获得所需的流量,然后与气源同时送入沉积室,在一定温度和等离子体活化等条件下,得到所需的产品,并沉积在工件或基片表面。因此,PCVD的生产过程包含了等离子体物理过程和等离子体化学反应过程。
       以上便是诚峰智造低温等离子体技术厂家带来的介绍,希望能帮到您。

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区