低温等离子体技术厂家：等离子体化学气相沉积技术

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• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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• 发布时间：2021-01-05
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【概要描述】       采用低温等离子体(非平衡等离子体)作为能量来源，将工件置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电(或另加加热体)将工件加热至预定温度，然后将其通入适量反应气体中，再通过一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固体薄膜。包含了化学气相沉积和辉光放电强化等通用技术。        粒子之间的碰撞，会产生强烈的气体离子化，从而激活反应气体。阴极溅射作用同时发生，为沉积薄膜提供了一个具有良好活性的清洁表面。因此，整个沉积过程与仅热活化过程有明显的区别。二者的相互作用，为提高涂层的结合力、降低沉积温度、加快反应速度创造了有利条件。        根据等离子体量源的类型，等离子体化学气相沉积技术分为直流辉光放电、射频放电和微波等离子体放电。当CVD反应频率增加时，等离子体对CVD反应的增强作用越明显，化合物形成的温度降低。        PCVD工艺装置包括沉积室，反应物输送系统，放电电源，真空系统和检测系统。气源用气体净化器去除水份和其他杂质，通过调节装置获得所需的流量，然后与气源同时送入沉积室，在一定温度和等离子体活化等条件下，得到所需的产品，并沉积在工件或基片表面。因此，PCVD的生产过程包含了等离子体物理过程和等离子体化学反应过程。        以上便是诚峰智造低温等离子体技术厂家带来的介绍，希望能帮到您。