等离子处理机不同频率激发等离子的区别

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• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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• 发布时间：2020-12-31
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【概要描述】       等离子体的密度与激发频率如下：        nc=1.2425×108v2        其中nc为等离子体密度(cm-3)，v为激发频率(Hz)。常见的等离子体激发频率有三种：超声波等离子体激发频率为40kHz，射频等离子处理机等离子体激发频率为13.56MHz，微波等离子体激发频率为2.45GHz。        各种等离子体产生不同的自偏压。超声波等离子体的自偏压约为1000V，射频等离子处理机等离子体的自偏压约为250V，微波等离子体的自偏压非常低，只有几十伏，且三种等离子体的作用机理不同。        超声波等离子体的反应是物理反应，射频等离子处理机等离子体的反应是物理和化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。由于超声波等离子体对被清洗表面产生的影响大，所以在实际的半导体清洗活化粘接生产应用中多采用射频等离子处理机等离子体清洗和微波等离子体清洗。