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IC生产集成电路制造等离子清洗设备工艺

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-12-29
  • 访问量:

【概要描述】       在IC生产集成电路制造过程中,有机物与无机物相结合是实现IC生产的必要条件,因此,如何将等离子清洗设备工艺应用于IC生产过程中呢?先介绍一下IC的制作流程。集成电路的生产工艺是在有限的环境中,人工参与,即净化室内进行的,由于它的环境所面临的问题到了这里,各种不良环境对硅片造成的污染程度是无法预料的。        一般情况下,常见的是微粒,以及有机物质,以及金属的残余污染物和氧化物等。采用等离子清洗设备对硅片表面进行处理,可使其粘合力发生变化,以物理化学反应为主,减少硅片与微粒表面的接触,达到表面清洗处理的效果。一般情况下,有机物中的杂质以多种形式产生并存在,因此建议在生产过程中用等离子清洗设备先对其进行表面清洗处理,以避免大量的问题。

IC生产集成电路制造等离子清洗设备工艺

【概要描述】       在IC生产集成电路制造过程中,有机物与无机物相结合是实现IC生产的必要条件,因此,如何将等离子清洗设备工艺应用于IC生产过程中呢?先介绍一下IC的制作流程。集成电路的生产工艺是在有限的环境中,人工参与,即净化室内进行的,由于它的环境所面临的问题到了这里,各种不良环境对硅片造成的污染程度是无法预料的。


       一般情况下,常见的是微粒,以及有机物质,以及金属的残余污染物和氧化物等。采用等离子清洗设备对硅片表面进行处理,可使其粘合力发生变化,以物理化学反应为主,减少硅片与微粒表面的接触,达到表面清洗处理的效果。一般情况下,有机物中的杂质以多种形式产生并存在,因此建议在生产过程中用等离子清洗设备先对其进行表面清洗处理,以避免大量的问题。

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2020-12-29 09:18
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       在IC生产集成电路制造过程中,有机物与无机物相结合是实现IC生产的必要条件,因此,如何将等离子清洗设备工艺应用于IC生产过程中呢?先介绍一下IC的制作流程。集成电路的生产工艺是在有限的环境中,人工参与,即净化室内进行的,由于它的环境所面临的问题到了这里,各种不良环境对硅片造成的污染程度是无法预料的。

等离子清洗设备工艺
       一般情况下,常见的是微粒,以及有机物质,以及金属的残余污染物和氧化物等。采用等离子清洗设备对硅片表面进行处理,可使其粘合力发生变化,以物理化学反应为主,减少硅片与微粒表面的接触,达到表面清洗处理的效果。一般情况下,有机物中的杂质以多种形式产生并存在,因此建议在生产过程中用等离子清洗设备先对其进行表面清洗处理,以避免大量的问题。

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