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等离子表面处理机电路板等离子化去胶

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-12-22
  • 访问量:

【概要描述】       等离子表面处理机胶去除法,除胶气体为氧气。该方法通过将电路板置于真空反应系统中,通入少量氧气,再加上高频高压,由高频信号发生器产生高频信号,在石英管中形成较强的电磁场,将氧离子化,形成氧离子、活化氧原子、氧分子和电子等混合物质的辉光柱。活性氧(活性原子态氧)能快速将残留的胶氧化为挥发性气体,并进行挥发带走。        电路板上面的残留物被抽走后,电路板就会清洗干净了。等离子表面处理机去胶的优点是去胶操作简单,去胶效率高,表面清洁光洁,无划痕,成本低,环保。等离子表面处理机去胶机加工是微细加工的重要环节,在电子束曝光、紫外曝光等微细纳米加工后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。去除了光刻胶的干净程度对样品是否存在损坏等问题,将直接影响后续工艺的顺利实施。        CRF诚峰智造等离子表面处理机采用性能优良的部件,可以精准控制工艺参数,其工艺监控和数据采集软件可以实现严格的质量控制。此项技术已成功地应用于功率晶体管,模拟器件,传感器,光学器件,光电,电子元器件,MOEMS,生物器件,LED等领域。采用CRF诚峰智造等离子去胶机对PCB板上的污染物进行了去除,效果十分明显。等离子体除胶机具有工艺简单、可靠、效率高、处理后的特点,无酸废水及其他残留物。

等离子表面处理机电路板等离子化去胶

【概要描述】       等离子表面处理机胶去除法,除胶气体为氧气。该方法通过将电路板置于真空反应系统中,通入少量氧气,再加上高频高压,由高频信号发生器产生高频信号,在石英管中形成较强的电磁场,将氧离子化,形成氧离子、活化氧原子、氧分子和电子等混合物质的辉光柱。活性氧(活性原子态氧)能快速将残留的胶氧化为挥发性气体,并进行挥发带走。



       电路板上面的残留物被抽走后,电路板就会清洗干净了。等离子表面处理机去胶的优点是去胶操作简单,去胶效率高,表面清洁光洁,无划痕,成本低,环保。等离子表面处理机去胶机加工是微细加工的重要环节,在电子束曝光、紫外曝光等微细纳米加工后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。去除了光刻胶的干净程度对样品是否存在损坏等问题,将直接影响后续工艺的顺利实施。

       CRF诚峰智造等离子表面处理机采用性能优良的部件,可以精准控制工艺参数,其工艺监控和数据采集软件可以实现严格的质量控制。此项技术已成功地应用于功率晶体管,模拟器件,传感器,光学器件,光电,电子元器件,MOEMS,生物器件,LED等领域。采用CRF诚峰智造等离子去胶机对PCB板上的污染物进行了去除,效果十分明显。等离子体除胶机具有工艺简单、可靠、效率高、处理后的特点,无酸废水及其他残留物。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2020-12-22 10:36
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       等离子表面处理机胶去除法,除胶气体为氧气。该方法通过将电路板置于真空反应系统中,通入少量氧气,再加上高频高压,由高频信号发生器产生高频信号,在石英管中形成较强的电磁场,将氧离子化,形成氧离子、活化氧原子、氧分子和电子等混合物质的辉光柱。活性氧(活性原子态氧)能快速将残留的胶氧化为挥发性气体,并进行挥发带走。

等离子表面处理机

       电路板上面的残留物被抽走后,电路板就会清洗干净了。等离子表面处理机去胶的优点是去胶操作简单,去胶效率高,表面清洁光洁,无划痕,成本低,环保。等离子表面处理机去胶机加工是微细加工的重要环节,在电子束曝光、紫外曝光等微细纳米加工后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。去除了光刻胶的干净程度对样品是否存在损坏等问题,将直接影响后续工艺的顺利实施。

       CRF诚峰智造等离子表面处理机采用性能优良的部件,可以精准控制工艺参数,其工艺监控和数据采集软件可以实现严格的质量控制。此项技术已成功地应用于功率晶体管,模拟器件,传感器,光学器件,光电,电子元器件,MOEMS,生物器件,LED等领域。采用CRF诚峰智造等离子去胶机对PCB板上的污染物进行了去除,效果十分明显。等离子体除胶机具有工艺简单、可靠、效率高、处理后的特点,无酸废水及其他残留物。

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