深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
服务案例

服务案例

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业

IC半导体领域

  • 分类:IC半导体领域
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2020-07-28
  • 访问量:

【概要描述】随着智能手机的飞速发展,人们对手机摄像头像素的要求越来越高,如今用传统的CSP封装工艺制造的手机摄像模组像素已达不到人们的需求,而用COB/COG/COF封装工艺制造的手机摄像模组己被大量的运用到了现在的千万像素的手机中,但其制造的良率因其工艺特性往往只有85%左右

IC半导体领域

【概要描述】随着智能手机的飞速发展,人们对手机摄像头像素的要求越来越高,如今用传统的CSP封装工艺制造的手机摄像模组像素已达不到人们的需求,而用COB/COG/COF封装工艺制造的手机摄像模组己被大量的运用到了现在的千万像素的手机中,但其制造的良率因其工艺特性往往只有85%左右

  • 分类:IC半导体领域
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2020-07-28 09:32
  • 访问量:
详情

1、COB/COF/COG

随着智能手机的飞速发展,人们对手机摄像头像素的要求越来越高,如今用传统的CSP封装工艺制造的手机摄像模组像素已达不到人们的需求,而用COB/COG/COF封装工艺制造的手机摄像模组己被大量的运用到了现在的千万像素的手机中,但其制造的良率因其工艺特性往往只有85%左右,而造成的手机良率不高的原因主要在于离心清洗机和超声波清洗做不到高洁净度的清洗holder及Pad表面污染物,致使holder与IR粘接力不高及bonding不良的问题,经plasma清洗机设备处理后能去除holder上的有机污染物和活化基材,使其与IR粘接力能提高2、3倍,等离子表面处理机也能去除Pad表面的氧化物并粗化表面,显著提升banding的一次成功率。

plasma清洗机设备-诚峰智造

2、半导体硅片( Wafer)

IC芯片制造领域中,等离子体处理技术已是一种不可替代的成熟工艺,等离子刻蚀机不论在芯片源离子的注入,还是晶元的镀膜,亦或是我们的低温等离子体表面处理设备所能达到的:在晶元表面去除氧化膜、有机物、去掩膜等净化处理及表面活化提高晶元表面浸润性。

等离子刻蚀机-诚峰智造

扫二维码用手机看

上一个:
下一个:
上一个:
下一个:

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区