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等离子清洗机plasma各气体作用

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-12-09
  • 访问量:

【概要描述】plasma等离子清洗机设备常用的气体有压缩空气、氧、氩气、氢气、氩氢混合气体CF4等。用plasma等离子清洗设备清洗物体之前,需要对清洁对象和污染物进行分析,然后选择合适的气体。根据设备基本原理,选择性气体可分为氢气、氧气等特殊气体,氢气主要用于金属表面化合物的清理。等离子清洗装置中氧被用来清洗物体表面的有机物,产生氧化作用去除。等离子清洗机设备中的非反应气体,如氩、氦、氮等。氮气处理后可以提高硬度和耐磨性。氩气和氦气特性平稳,分子充放电的工作电压低,很容易产生亚稳态分子,一方面利用其高能粒子物理效应清理容易氧化或还原的物体。   Ar气轰击污染物会产生挥发性化学物,这些化学污染物通过真空泵排出,阻止了表面化学物质的反应。氩极易产生亚稳态分子,与氧原子碰撞时,会产生正电荷变换和重组。纯氢气应用于plasma等离子设备是非常有效的,但是考虑到充放电的可靠性和安全性,氩氢化合物也可应用于等离子清洗机中。另外,还可以采用反向氧气和氩氧气的清洗顺序,这种清洗方法具有易氧化、易还原的特点。   1、氩气:氩气清理的原理是物理轰击表面。氩气在物理上很有效,因为它有很大的原子尺寸,能够以很大的能量穿透产品表面层。正氩离子被负极板所吸引,撞击力使表面的所有污渍都消失,然后气体污染物将随泵一起排放。   2、氧:与产品表面的化学物质发生有机化学反应。例如,氧可以合理去除有机化学污染物,与污染物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水。一般而言,化学反应易于去除有机污染物。   3、氢:氢可以用来去除金属表面的氧化物。常与氩混合,提高清除污垢的能力。人们普遍关注氢的可燃性和氢的储氢用途问题,我们可以用氢气产生器从水中造氢,排除潜在安全隐患。   4、cf4/sf6:氟化气体一般用于半导体材料和pwb(印刷线路板)等工业生产中,pads工艺流程中使用的氟化气体将氧化物转化成氯化物,从而实现了无流动焊接。

等离子清洗机plasma各气体作用

【概要描述】plasma等离子清洗机设备常用的气体有压缩空气、氧、氩气、氢气、氩氢混合气体CF4等。用plasma等离子清洗设备清洗物体之前,需要对清洁对象和污染物进行分析,然后选择合适的气体。根据设备基本原理,选择性气体可分为氢气、氧气等特殊气体,氢气主要用于金属表面化合物的清理。等离子清洗装置中氧被用来清洗物体表面的有机物,产生氧化作用去除。等离子清洗机设备中的非反应气体,如氩、氦、氮等。氮气处理后可以提高硬度和耐磨性。氩气和氦气特性平稳,分子充放电的工作电压低,很容易产生亚稳态分子,一方面利用其高能粒子物理效应清理容易氧化或还原的物体。

 

Ar气轰击污染物会产生挥发性化学物,这些化学污染物通过真空泵排出,阻止了表面化学物质的反应。氩极易产生亚稳态分子,与氧原子碰撞时,会产生正电荷变换和重组。纯氢气应用于plasma等离子设备是非常有效的,但是考虑到充放电的可靠性和安全性,氩氢化合物也可应用于等离子清洗机中。另外,还可以采用反向氧气和氩氧气的清洗顺序,这种清洗方法具有易氧化、易还原的特点。

 

1、氩气:氩气清理的原理是物理轰击表面。氩气在物理上很有效,因为它有很大的原子尺寸,能够以很大的能量穿透产品表面层。正氩离子被负极板所吸引,撞击力使表面的所有污渍都消失,然后气体污染物将随泵一起排放。

 

2、氧:与产品表面的化学物质发生有机化学反应。例如,氧可以合理去除有机化学污染物,与污染物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水。一般而言,化学反应易于去除有机污染物。

 

3、氢:氢可以用来去除金属表面的氧化物。常与氩混合,提高清除污垢的能力。人们普遍关注氢的可燃性和氢的储氢用途问题,我们可以用氢气产生器从水中造氢,排除潜在安全隐患。

 

4、cf4/sf6:氟化气体一般用于半导体材料和pwb(印刷线路板)等工业生产中,pads工艺流程中使用的氟化气体将氧化物转化成氯化物,从而实现了无流动焊接。


  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2020-12-09 10:23
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等离子清洗机plasma各气体作用:

 

plasma等离子清洗机设备常用的气体有压缩空气、氧、氩气、氢气、氩氢混合气体CF4等。用plasma等离子清洗设备清洗物体之前,需要对清洁对象和污染物进行分析,然后选择合适的气体。根据设备基本原理,选择性气体可分为氢气、氧气等特殊气体,氢气主要用于金属表面化合物的清理。等离子清洗装置中氧被用来清洗物体表面的有机物,产生氧化作用去除。等离子清洗机设备中的非反应气体,如氩、氦、氮等。氮气处理后可以提高硬度和耐磨性。氩气和氦气特性平稳,分子充放电的工作电压低,很容易产生亚稳态分子,一方面利用其高能粒子物理效应清理容易氧化或还原的物体。

 

Ar气轰击污染物会产生挥发性化学物,这些化学污染物通过真空泵排出,阻止了表面化学物质的反应。氩极易产生亚稳态分子,与氧原子碰撞时,会产生正电荷变换和重组。纯氢气应用于plasma等离子设备是非常有效的,但是考虑到充放电的可靠性和安全性,氩氢化合物也可应用于等离子清洗机中。另外,还可以采用反向氧气和氩氧气的清洗顺序,这种清洗方法具有易氧化、易还原的特点。

 

1、氩气:氩气清理的原理是物理轰击表面。氩气在物理上很有效,因为它有很大的原子尺寸,能够以很大的能量穿透产品表面层。正氩离子被负极板所吸引,撞击力使表面的所有污渍都消失,然后气体污染物将随泵一起排放。

 

2、氧:与产品表面的化学物质发生有机化学反应。例如,氧可以合理去除有机化学污染物,与污染物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水。一般而言,化学反应易于去除有机污染物。

 

3、氢:氢可以用来去除金属表面的氧化物。常与氩混合,提高清除污垢的能力。人们普遍关注氢的可燃性和氢的储氢用途问题,我们可以用氢气产生器从水中造氢,排除潜在安全隐患。

 

4、cf4/sf6:氟化气体一般用于半导体材料和pwb(印刷线路板)等工业生产中,pads工艺流程中使用的氟化气体将氧化物转化成氯化物,从而实现了无流动焊接。

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