深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

plasma等离子体清洗机表面处理除胶的基本原理及应用

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-11-28
  • 访问量:

【概要描述】1)去除胶反应原理: 在干法除胶中,氧是腐蚀气体的主要成分。plasma等离子体清洗机表面处理除胶用高频和微波能量弱电解质,使氧离子、游离氧分子O、氧原子和电子混合物在高频工作电压下与光刻技术薄膜发生反应:O2→O*+O*,CxHy+O*→CO2↑+H2O↑,反应完成后去除CO2和H2O。 2)plasma等离子技术去除胶: 以真空等离子体清洗机处理为例。将需要去除胶的材料放置在真空系统插入两个电极之间,并在1.3-13pa的声室工作压力下,增加高压输出功率,在电极中间辉光充放电,通过调节输出功率、总流量等性能参数,可获得不同的去胶速度,当去除胶膜后,辉光消失。   等离子体清洗机表面处理去胶的影响因:   选频:频率越高,氧气就越容易离子化产生等离子体,电子的振幅小于平均范畴,电子与气体分子结构的碰撞几率降低,使弱电解速度降低。频率选择通常为13.56MHz和2.45GHz。   功效输出:对于一定量的气体,输出功率大,活性微粒密度大,去胶速度快,但当输出功率提高到一定值时,耗能的活性离子到达饱和,再增加输出功率,去胶速度也是不明显。功率的大小,需要根据实际应用的标准进行调整。   真空值的选取:真空值的适度升高,能使电子平均自由运动变大,从静电场中获得的动能变大,有利于弱电解质。氧气流动性保持时,真空值越高,氧的相对份额越大,特定粒子浓度越大。如果真空度过高,则活性粒子的浓度值就会降低。   氧流量对plasma等离子体清洗机表面处理除胶的影响:氧流量大,活化颗粒密度大,除胶速度快,但速度过快,正离子合成的几率增大,降低了电子平均自由程,降低了弱电解质的抗压强度。假设反映室工作压力稳定,总流量上升,则抽出气量也会上升,未参与反应的活性颗粒量抽量也会上升,因而流量对去胶效果不明显。

plasma等离子体清洗机表面处理除胶的基本原理及应用

【概要描述】1)去除胶反应原理:
在干法除胶中,氧是腐蚀气体的主要成分。plasma等离子体清洗机表面处理除胶用高频和微波能量弱电解质,使氧离子、游离氧分子O、氧原子和电子混合物在高频工作电压下与光刻技术薄膜发生反应:O2→O*+O*,CxHy+O*→CO2↑+H2O↑,反应完成后去除CO2和H2O。
2)plasma等离子技术去除胶:
以真空等离子体清洗机处理为例。将需要去除胶的材料放置在真空系统插入两个电极之间,并在1.3-13pa的声室工作压力下,增加高压输出功率,在电极中间辉光充放电,通过调节输出功率、总流量等性能参数,可获得不同的去胶速度,当去除胶膜后,辉光消失。

 

等离子体清洗机表面处理去胶的影响因:

 

选频:频率越高,氧气就越容易离子化产生等离子体,电子的振幅小于平均范畴,电子与气体分子结构的碰撞几率降低,使弱电解速度降低。频率选择通常为13.56MHz和2.45GHz。

 

功效输出:对于一定量的气体,输出功率大,活性微粒密度大,去胶速度快,但当输出功率提高到一定值时,耗能的活性离子到达饱和,再增加输出功率,去胶速度也是不明显。功率的大小,需要根据实际应用的标准进行调整。

 

真空值的选取:真空值的适度升高,能使电子平均自由运动变大,从静电场中获得的动能变大,有利于弱电解质。氧气流动性保持时,真空值越高,氧的相对份额越大,特定粒子浓度越大。如果真空度过高,则活性粒子的浓度值就会降低。

 

氧流量对plasma等离子体清洗机表面处理除胶的影响:氧流量大,活化颗粒密度大,除胶速度快,但速度过快,正离子合成的几率增大,降低了电子平均自由程,降低了弱电解质的抗压强度。假设反映室工作压力稳定,总流量上升,则抽出气量也会上升,未参与反应的活性颗粒量抽量也会上升,因而流量对去胶效果不明显。


  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-11-28 08:56
  • 访问量:
详情

plasma等离子体清洗机表面处理除胶的基本原理及应用:

 

1)去除胶反应原理:


在干法除胶中,氧是腐蚀气体的主要成分。plasma等离子体清洗机表面处理除胶用高频和微波能量弱电解质,使氧离子、游离氧分子O、氧原子和电子混合物在高频工作电压下与光刻技术薄膜发生反应:O2→O*+O*,CxHy+O*→CO2↑+H2O↑,反应完成后去除CO2和H2O。

 

2)plasma等离子技术去除胶:


以真空等离子体清洗机处理为例。将需要去除胶的材料放置在真空系统插入两个电极之间,并在1.3-13pa的声室工作压力下,增加高压输出功率,在电极中间辉光充放电,通过调节输出功率、总流量等性能参数,可获得不同的去胶速度,当去除胶膜后,辉光消失。

 

等离子体清洗机表面处理去胶的影响因:

 

选频:频率越高,氧气就越容易离子化产生等离子体,电子的振幅小于平均范畴,电子与气体分子结构的碰撞几率降低,使弱电解速度降低。频率选择通常为13.56MHz和2.45GHz。

 

功效输出:对于一定量的气体,输出功率大,活性微粒密度大,去胶速度快,但当输出功率提高到一定值时,耗能的活性离子到达饱和,再增加输出功率,去胶速度也是不明显。功率的大小,需要根据实际应用的标准进行调整。

 

真空值的选取:真空值的适度升高,能使电子平均自由运动变大,从静电场中获得的动能变大,有利于弱电解质。氧气流动性保持时,真空值越高,氧的相对份额越大,特定粒子浓度越大。如果真空度过高,则活性粒子的浓度值就会降低。

 

氧流量对plasma等离子体清洗机表面处理除胶的影响:氧流量大,活化颗粒密度大,除胶速度快,但速度过快,正离子合成的几率增大,降低了电子平均自由程,降低了弱电解质的抗压强度。假设反映室工作压力稳定,总流量上升,则抽出气量也会上升,未参与反应的活性颗粒量抽量也会上升,因而流量对去胶效果不明显。

等离子清洗机-等离子表面处理机

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区