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大型等离子清洗机金属硬掩膜层的蚀刻

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-11-14
  • 访问量:

【概要描述】使用金属作为大型等离子清洗机先沟槽工艺流程中沟槽蚀刻的硬掩膜层可以显著降低(超)低介电常数材料损伤,改善金属连线的扭曲和粗糙度以及控制双大马士革结构中通孔与沟槽间的平整圆滑过渡转换,已经从45nm技术节点开始被后段工艺整合广泛使用。          由于大型等离子清洗机蚀刻后的金属硬掩膜图形将作为沟槽蚀刻的掩膜层使用,金属硬掩膜层蚀刻后的图形完整度、关键尺寸都将被再次传递到(超)低介电常数材料,经过沟槽蚀刻形成金属连线。金属硬掩膜层蚀刻后图形对于设计图形传递的保真度、蚀刻后关键尺寸偏差的负载效应,都将被后续的沟槽蚀刻传承甚至由于沟槽蚀刻的负载效应会继续放大这些偏差,因此,大型等离子清洗机需要对金属硬掩膜层蚀刻进行严格控制。负载效应越小,设计的金属连线图形的保真度越高;图形可以严格地从光罩经过曝光、显影传递到金属硬掩膜层,以及近似垂直的金属硬掩膜的侧壁轮廓角度,是工艺整合对金属硬掩膜层蚀刻工艺的要求。          典型的大型等离子清洗机金属硬掩膜层蚀刻工艺一般为光阻和底部抗反射层有机材料作为单一蚀刻掩膜的结构。

大型等离子清洗机金属硬掩膜层的蚀刻

【概要描述】使用金属作为大型等离子清洗机先沟槽工艺流程中沟槽蚀刻的硬掩膜层可以显著降低(超)低介电常数材料损伤,改善金属连线的扭曲和粗糙度以及控制双大马士革结构中通孔与沟槽间的平整圆滑过渡转换,已经从45nm技术节点开始被后段工艺整合广泛使用。

 

       由于大型等离子清洗机蚀刻后的金属硬掩膜图形将作为沟槽蚀刻的掩膜层使用,金属硬掩膜层蚀刻后的图形完整度、关键尺寸都将被再次传递到(超)低介电常数材料,经过沟槽蚀刻形成金属连线。金属硬掩膜层蚀刻后图形对于设计图形传递的保真度、蚀刻后关键尺寸偏差的负载效应,都将被后续的沟槽蚀刻传承甚至由于沟槽蚀刻的负载效应会继续放大这些偏差,因此,大型等离子清洗机需要对金属硬掩膜层蚀刻进行严格控制。负载效应越小,设计的金属连线图形的保真度越高;图形可以严格地从光罩经过曝光、显影传递到金属硬掩膜层,以及近似垂直的金属硬掩膜的侧壁轮廓角度,是工艺整合对金属硬掩膜层蚀刻工艺的要求。

 

       典型的大型等离子清洗机金属硬掩膜层蚀刻工艺一般为光阻和底部抗反射层有机材料作为单一蚀刻掩膜的结构。


  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2020-11-14 08:49
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大型等离子清洗机金属硬掩膜层的蚀刻:

 

       使用金属作为大型等离子清洗机先沟槽工艺流程中沟槽蚀刻的硬掩膜层可以显著降低(超)低介电常数材料损伤,改善金属连线的扭曲和粗糙度以及控制双大马士革结构中通孔与沟槽间的平整圆滑过渡转换,已经从45nm技术节点开始被后段工艺整合广泛使用。

 

       由于大型等离子清洗机蚀刻后的金属硬掩膜图形将作为沟槽蚀刻的掩膜层使用,金属硬掩膜层蚀刻后的图形完整度、关键尺寸都将被再次传递到(超)低介电常数材料,经过沟槽蚀刻形成金属连线。金属硬掩膜层蚀刻后图形对于设计图形传递的保真度、蚀刻后关键尺寸偏差的负载效应,都将被后续的沟槽蚀刻传承甚至由于沟槽蚀刻的负载效应会继续放大这些偏差,因此,大型等离子清洗机需要对金属硬掩膜层蚀刻进行严格控制。负载效应越小,设计的金属连线图形的保真度越高;图形可以严格地从光罩经过曝光、显影传递到金属硬掩膜层,以及近似垂直的金属硬掩膜的侧壁轮廓角度,是工艺整合对金属硬掩膜层蚀刻工艺的要求。

 

       典型的大型等离子清洗机金属硬掩膜层蚀刻工艺一般为光阻和底部抗反射层有机材料作为单一蚀刻掩膜的结构。

大型等离子清洗机

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