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H2对等离子体plasma作用下甲烷转化反应影响

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-10-29
  • 访问量:

【概要描述】H2添加量在大气压直流放电等离子体plasma转化甲烷的反应中,对甲烷转化率、C2烃选择性及C2烃收率都是有影响的。随着H2添加量的增加,XCH4、SC2和YC2均呈上升的趋势。当氢气添加量为80%时,XCH4,为55.1%,YC2 为42.4%,SC2为82.7%。光谱分析结果显示,随着H2添加量的增加,H和C2物种的谱峰强度有所增加,分析原因可能是H2裂解生成了大量的等离子体plasma活性氢原子,活性氢原子易与甲烷发生非弹性碰撞,促使甲烷解离生成CHx (x=1~3),因此甲烷的转化率是逐渐增加的。           同时,CH的谱峰强度也逐渐增强,说明随H2添加量的增加,甲烷解离生成CH的量增多,自由基偶联生成C2烃,因此C2烃收率是逐渐增加的。此外,C的谱线强度基本没变,同时反应的C2烃选择性升高,分析原因是由于等离子体plasma活性氢原子的大量存在抑制了C2烃分解脱氢,并且还能将反应体系中生成的C还原成CH自由基,自由基偶联生成了C2烃,从而减少积碳。在实验过程中也观察到反应器壁及电极上的积碳减少的现象。

H2对等离子体plasma作用下甲烷转化反应影响

【概要描述】H2添加量在大气压直流放电等离子体plasma转化甲烷的反应中,对甲烷转化率、C2烃选择性及C2烃收率都是有影响的。随着H2添加量的增加,XCH4、SC2和YC2均呈上升的趋势。当氢气添加量为80%时,XCH4,为55.1%,YC2 为42.4%,SC2为82.7%。光谱分析结果显示,随着H2添加量的增加,H和C2物种的谱峰强度有所增加,分析原因可能是H2裂解生成了大量的等离子体plasma活性氢原子,活性氢原子易与甲烷发生非弹性碰撞,促使甲烷解离生成CHx (x=1~3),因此甲烷的转化率是逐渐增加的。

 

        同时,CH的谱峰强度也逐渐增强,说明随H2添加量的增加,甲烷解离生成CH的量增多,自由基偶联生成C2烃,因此C2烃收率是逐渐增加的。此外,C的谱线强度基本没变,同时反应的C2烃选择性升高,分析原因是由于等离子体plasma活性氢原子的大量存在抑制了C2烃分解脱氢,并且还能将反应体系中生成的C还原成CH自由基,自由基偶联生成了C2烃,从而减少积碳。在实验过程中也观察到反应器壁及电极上的积碳减少的现象。


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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2020-10-29 08:52
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H2对等离子体plasma作用下甲烷转化反应影响:

 

        H2添加量在大气压直流放电等离子体plasma转化甲烷的反应中,对甲烷转化率、C2烃选择性及C2烃收率都是有影响的。随着H2添加量的增加,XCH4、SC2和YC2均呈上升的趋势。当氢气添加量为80%时,XCH4,为55.1%,YC2 为42.4%,SC2为82.7%。光谱分析结果显示,随着H2添加量的增加,H和C2物种的谱峰强度有所增加,分析原因可能是H2裂解生成了大量的等离子体plasma活性氢原子,活性氢原子易与甲烷发生非弹性碰撞,促使甲烷解离生成CHx (x=1~3),因此甲烷的转化率是逐渐增加的。

 

        同时,CH的谱峰强度也逐渐增强,说明随H2添加量的增加,甲烷解离生成CH的量增多,自由基偶联生成C2烃,因此C2烃收率是逐渐增加的。此外,C的谱线强度基本没变,同时反应的C2烃选择性升高,分析原因是由于等离子体plasma活性氢原子的大量存在抑制了C2烃分解脱氢,并且还能将反应体系中生成的C还原成CH自由基,自由基偶联生成了C2烃,从而减少积碳。在实验过程中也观察到反应器壁及电极上的积碳减少的现象。

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