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CRF等离子火焰处理机涂覆针对不同的材料有何区别

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发布时间：

2023-02-24

CRF等离子火焰处理机涂覆针对不同的材料有何区别:
CRF等离子火焰处理机涂覆，其工艺要求高，比前面3种工艺技术都需要更加复杂，等离子体涂覆分成低压和常压。
低压等离子体涂覆：要在真空环境密闭式腔室里边导入单体（其实就是涂层，不论是气态或液态都能够），随后单体会在等离子体的影响下发生聚合反应。根据等离子体聚合所获得层厚度在这个微米区域之内。
现阶段绝大多数材料都可以使用等离子体去进行涂覆，在涂覆的情况下，不一样原材料的涂覆工艺业稍有区别：对金属进行涂覆的情况下，先向金属表面进行活化处理，随后根据需要的表面功能进行涂覆，需要持久性亲水涂层，我们可以把HMDSO与O2按照1:4的比例去混合，随后涂覆到金属表面，就可以获得亲水的性能，相反我们可以把HMDSO与O2按照4:1的比例去混合，一样涂覆到金属的表面，就可以获得疏水的性能。
虽然给塑料制品进行表面涂覆的情况下并不复杂，但是为了得到较好的表面涂层，通常在涂覆的情况下，我们会交叉使用活化、刻蚀工艺，通常做法：
（1）5分钟O2活化；
（2）5分钟HMDSO涂覆、
（3）12秒钟O2刻蚀；
（4）5分钟HMDSO涂覆；
（5）12秒钟O2刻蚀；
（6）5分钟HMDSO涂覆。
接着再通入几秒钟的O2等离子体，涂层会出现固化，与此同时涂层在此步骤会变为亲水性。在前面工艺中，我们已经讲到玻璃和陶瓷类材料都比较难处理，如果要对玻璃和陶瓷类材料进行，需要进行预处理其实就是活化和刻蚀，然后按照既定要求进行涂覆即可。
CRF等离子火焰处理机涂覆分成低压等离子体涂覆和常压等离子体涂覆，在常压等离子体涂覆中，需要注意的是有一些单体是不允许被使用的；主要是因为由于毒性作用较强，故此不得将任何含卤素的气体和单体与常压等离子体一同使用(F2,CL2,Br2,I)。同时在常压等离子体涂覆中，我们会选用He、Ar、N2来作为载气使用。