等离子机清洗设备对OLED屏溅射后的表面影响机理

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• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
• 来源：微波等离子清洗设备生产厂家
• 发布时间：2023-02-09
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【概要描述】等离子机清洗设备对OLED屏溅射后的表面影响机理：        氧化铟锡(ITO)具有高透光率、导电性能好等特点，作为阳极材料广泛应用于有机电致发光器件(OLED)，但ITO的表面功函数与器件内的空穴传输层NPB的最高電子具有轨道(HOMO)之间产生较高的势垒，导致器件的驱动出现电压高、工作效率低、寿命短等问题。         经调查后发现ITO经氧plasma的处理可之后发现空穴的注人和器件的稳定性。使用有所不同功率的等离子体对ITO进行处理，促使ITO功函数大幅度提高，改善了器件的性能。         有机电致发光器件(OLED)，由于自发光，亮度高，可视角度大等诸多优势，在显示和照明领域备受青睐，具有极大的应用前景。 因为它是氧化的(ITO)导电膜具有良好的导电性能，在可见光范围内具有较高的透光率，因此在光电领域得到了广泛的应用，在有机电致发光领域也经常被用作OLED阳极材料。         在有机发光二极管中，由于ITO可以直接接触有机薄膜，表面有机污染物含量、表面电阻、表面粗糙度和功能函数等表面特性对整个设备的性能起着重要作用。改变ITO的表面特性可以影响有机发光二极管的性能。现阶段处理ITO的方法主要分为物理方法和化学方法2种。化学方法主要包括酸碱处理、氧化剂处理以及在ITO表面添加有机和无机化合物。        等离子机清洗设备工艺被认为是最有效的处理方式。ITO的表面功能函数和设备中空穴传输层NPB的最高电子有轨道(HOMO)两者之间的势垒较高，导致设备性能低下。TTO表面的氧含量会直接影响ITO的功能函数，氧含量的增加会导致ITO费米能级的降低和功能函数的增加。混合等离子体处理后，ITO的表面形状会发生显著变化。         没有进行处理的ITO表面形貌与等离子体处理后的ITO表面形貌分析发现，ITO表面的平均粗糙度和峰谷距离均有明显降低，其表面颗粒半径也降低不少。平均粗糙度和表面颗粒半径的减小促使ITO与有机层的接触面增大，有利于氧原子附着。 等离子机清洗设备处理能更好地改善ITO表面形貌，同时可以看到ITO表面氧空洞明显增多，表面富集了一层带负电的氧，形成界面偶极层，增加了ITO表面功函数，促使ITO的空穴注人能力大大增强。         此外，等离子机清洗设备处理以后ITO表面粗糙度减少，ITO膜与NPB之间的界面能减少，空穴注人变得容易，与由阴极注人的电子更好的复合产生激子，plasma处理后的阳极制备的器件亮度高，质量好。