plasma清洗释放的粒子和加上氧气有什么不同

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• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
• 来源：plasma设备
• 发布时间：2023-02-05
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【概要描述】plasma清洗释放的粒子和加上氧气有什么不同：        在零件进行生产加工前，需要清除零件表面的污染物。很多具有复杂几何形状的材料表面，都可以使用等离子体清洗。等离子体清洗系统可以有效地清洗表面，而不会对表面的其他特性产生不良影响。在过去的几十年里，等离子体清洗的效率得到了认可，因而广泛用于各类材料的前处理清洗。下文详细介绍等离子体清洗的概念及其用途。 一、什么是plasma清洗？        等离子体被认为是第四种物质状态。作为一种独特的工艺介质，它可以用于表面处理和表面改性。等离子体是由离子、电子和中性原子组成的电离气体。存在于等离子体中的电子的温度要高于中性气体，但是等离子体始终处于接近环境温度的状态，其电子密度约为1010cm-3。等离子清洗能够通过化学反应（空气等离子体）或物理烧蚀（氩气等离子体/氩气等离子体）的过程，有效去除表面的所有有机污染物。等离子清洗系统还与表面的化学官能团（如羧基、羰基和羟基）共同作用，使大多数表面具有亲水性。表面不仅要清洁，还要具有亲水性，这就需要增加表面的润湿性，同时减少与水的接触角，从而增强生产过程中与其他表面的粘合或附着力。除此之外，plasma清洗还可以用来去除表面的微生物污染物，很适合生物材料研究应用中的灭菌操作。 二、什么是氧plasma清洗？        氧plasma清洗是指在等离子腔体内使用氧气进行等离子体清洗的工艺。氧气可以用于粘接前的清洗过程，还可以用氧气与其他气体配合来蚀刻表面。可以说，氧气是等离子体清洗中最常用的气体，因为它的用途广，成本低。利用plasma清洗系统中的氧源可以产生氧等离子体。凡是用于等离子体蚀刻的系统都可以使用氧气，因为氧气常用于清洗玻璃、特氟龙、塑料等非金属表面，可以增加非金属表面的润湿性。