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为啥说CRF等离子清洗设备溅射工件表面不会影响其性能
- 分类:技术支持
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2022-11-21
- 访问量:
【概要描述】为啥说CRF等离子清洗设备溅射工件表面不会影响其性能: CRF等离子清洗设备选用高频电源能够提高工件表面的粘合力,亲水性,通过去除有机污染物,在表面介入极性有机官能团,提高表面亲水性及表面润湿性能,是彻底地剥离式干式清洗,真空等离子表面处理设备处理后不会在工件表面产生损伤层,材料表面质量得到保证。 CRF等离子清洗设备清洗采用O2和AR,产生能量,当有足够的能量就可以打开PTFE的碳氟键,同时又有活性基团替代掉氟原子时,PTFE聚四氟乙烯也就变成了极性高聚物,表面能得到提升,亲水性得以改善。 根据所处理的PTFE产品不同的形状、处理目的和要求会有所区别。例如薄膜类材料适用采用卷对卷的等离子设备;板材类材料适用采用水平或者是垂直的电极结构的等离子清洗机。对CRF真空等离子清洗设备控制参数的把控,对处理PTFE聚四氟乙烯材料有重要影响。 CRF等离子清洗设备包括低压真空设备和常压设备,前者可以通入不同的工艺气体,调配多项控制参数,相对适用处理PTFE聚四氧乙烯。 CRF等离子清洗设备也叫清洁机,或者是plasma,是种崭新的先进科技,使用等离子体来达到普通清洗方法不能达到的实际效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。如果在真空等离子表面处理设备放电气体中引入反应性气体,那么在活化的工件表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。一般材料经NH3.O2.CO.Ar.N2.H处理后接触空气的2等气体等离子体将在表面引入—COOH等基团,增加其亲水性。
为啥说CRF等离子清洗设备溅射工件表面不会影响其性能
【概要描述】为啥说CRF等离子清洗设备溅射工件表面不会影响其性能:
CRF等离子清洗设备选用高频电源能够提高工件表面的粘合力,亲水性,通过去除有机污染物,在表面介入极性有机官能团,提高表面亲水性及表面润湿性能,是彻底地剥离式干式清洗,真空等离子表面处理设备处理后不会在工件表面产生损伤层,材料表面质量得到保证。
CRF等离子清洗设备清洗采用O2和AR,产生能量,当有足够的能量就可以打开PTFE的碳氟键,同时又有活性基团替代掉氟原子时,PTFE聚四氟乙烯也就变成了极性高聚物,表面能得到提升,亲水性得以改善。
根据所处理的PTFE产品不同的形状、处理目的和要求会有所区别。例如薄膜类材料适用采用卷对卷的等离子设备;板材类材料适用采用水平或者是垂直的电极结构的等离子清洗机。对CRF真空等离子清洗设备控制参数的把控,对处理PTFE聚四氟乙烯材料有重要影响。
CRF等离子清洗设备包括低压真空设备和常压设备,前者可以通入不同的工艺气体,调配多项控制参数,相对适用处理PTFE聚四氧乙烯。
CRF等离子清洗设备也叫清洁机,或者是plasma,是种崭新的先进科技,使用等离子体来达到普通清洗方法不能达到的实际效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。如果在真空等离子表面处理设备放电气体中引入反应性气体,那么在活化的工件表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。一般材料经NH3.O2.CO.Ar.N2.H处理后接触空气的2等气体等离子体将在表面引入—COOH等基团,增加其亲水性。
- 分类:技术支持
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2022-11-21 10:29
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为啥说CRF等离子清洗设备溅射工件表面不会影响其性能:
CRF等离子清洗设备溅选用高频电源能够提高工件表面的粘合力,亲水性,通过去除有机污染物,在表面介入极性有机官能团,提高表面亲水性及表面润湿性能,是彻底地剥离式干式清洗,真空等离子表面处理设备处理后不会在工件表面产生损伤层,材料表面质量得到保证。
CRF等离子清洗设备清洗采用O2和AR,产生能量,当有足够的能量就可以打开PTFE的碳氟键,同时又有活性基团替代掉氟原子时,PTFE聚四氟乙烯也就变成了极性高聚物,表面能得到提升,亲水性得以改善。
根据所处理的PTFE产品不同的形状、处理目的和要求会有所区别。例如薄膜类材料适用采用卷对卷的等离子设备;板材类材料适用采用水平或者是垂直的电极结构的等离子清洗机。对CRF真空等离子清洗设备控制参数的把控,对处理PTFE聚四氟乙烯材料有重要影响。
CRF等离子清洗设备溅包括低压真空设备和常压设备,前者可以通入不同的工艺气体,调配多项控制参数,相对适用处理PTFE聚四氧乙烯。
CRF等离子清洗设备溅也叫清洁机,或者是plasma,是种崭新的先进科技,使用等离子体来达到普通清洗方法不能达到的实际效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。如果在真空等离子表面处理设备放电气体中引入反应性气体,那么在活化的工件表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。一般材料经NH3.O2.CO.Ar.N2.H处理后接触空气的2等气体等离子体将在表面引入—COOH等基团,增加其亲水性。
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