H2或AR等离子体发生器对石墨烯的机理

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• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
• 来源：等离子体发生器生产厂家
• 发布时间：2022-11-03
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【概要描述】H2或AR等离子体发生器对石墨烯的机理：         这一现象说明经H2或AR等离子体处理后，氧化石墨烯悬浮液由液体变为固体，颜色变化表明氧化石墨烯一部分还原。H2或AR等离子体处理后样品的低倍和高倍扫描电镜，都可以显著地观察到相互交联、多孔的网络结构。 在crf等离子体发生器处理方式中试样一直处在低气压状况，结成的冰直接升华为水蒸气，从而维持了试样三维多孔的形貌。对H2和Ar等离子体处理前后的试样进行拉曼光谱的测定。H2或AR等离子体发生器都可以还原氧化石墨烯，且H2(还原性气体)等离子体对氧化石墨烯的还原水平尤为明显。         H2或AR等离子体发生器能够对氧化石墨烯进行还原的原因，主要是因为H2和Ar等离子体能量可以有效地切断氧化石墨烯片层表面及边缘的含氧键，使得氧化石墨烯的含氧官能团减少，一部分还原。用同种气体等离子体处理氧化石墨烯溶液，等离子体放电输出功率，能量越大，氧化石墨烯的还原水平就越大。        射频等离子体发生器清洗方法一步快速、有效地还原了氧化石墨烯。通过改变放电气体的类型及放电功率，经拉曼光谱的测试表明，气体的还原性越强，放电输出功率，对氧化石墨烯的还原水平就越高。射频等离子体方法还原处理后得到的三维多孔石墨烯材料，可进一步应用于电容器、储能等领域。