plasma光催化的材质是由贵金属纳米颗粒和半导体材料构成的

分类：技术支持
作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
来源：plasma
发布时间：2022-10-26
访问量：

【概要描述】plasma光催化的材质是由贵金属纳米颗粒和半导体材料构成的：石墨材料相氮化碳(g-C3N4)作为一项无金属能见光催化剂，鉴于其独特的结构和性能，在太阳能转换和环境治理领域引起了广泛的关注。但单一的g-C3N4也存在着比表面积小、电子空穴复合率高等现象，因此提出了新型plasma通过金属表面，光催化材料的概念plasma效应对g-C3N进行表面修饰，进而提高光催化性能。石墨材料相氮化碳(g-C3N4)仅由C.N物质组成，原料制取划算，制备方法简单，能带位置合适，光学性能好，热稳定性好，化学稳定性好。殊不知，当光照射到氮化碳表面产生电子和空穴时，光生电子在满足半导体-电解质界面之前会复合，这将极大地影响光催化的效率。科学家们试图优化金属元素或非金属元素的混合g-C3N性能的目的g-C3N从而改变材料的电子结构，调整骨架中的新元素g-C3N光学等物理性质的作用。 plasma光催化材料，即鉴于贵金属纳米颗粒表面等离子体共振效应的金属纳米颗粒和半导体材料的光催化材料，当贵金属纳米颗粒（主要是Au和Ag，分散到半导体光催化剂中，扩张能见光吸收范围，增强光吸收能力。

plasma光催化的材质是由贵金属纳米颗粒和半导体材料构成的

【概要描述】plasma光催化的材质是由贵金属纳米颗粒和半导体材料构成的：
石墨材料相氮化碳(g-C3N4)作为一项无金属能见光催化剂，鉴于其独特的结构和性能，在太阳能转换和环境治理领域引起了广泛的关注。但单一的g-C3N4也存在着比表面积小、电子空穴复合率高等现象，因此提出了新型plasma通过金属表面，光催化材料的概念plasma效应对g-C3N进行表面修饰，进而提高光催化性能。
石墨材料相氮化碳(g-C3N4)仅由C.N物质组成，原料制取划算，制备方法简单，能带位置合适，光学性能好，热稳定性好，化学稳定性好。殊不知，当光照射到氮化碳表面产生电子和空穴时，光生电子在满足半导体-电解质界面之前会复合，这将极大地影响光催化的效率。
科学家们试图优化金属元素或非金属元素的混合g-C3N性能的目的g-C3N从而改变材料的电子结构，调整骨架中的新元素g-C3N光学等物理性质的作用。
plasma光催化材料，即鉴于贵金属纳米颗粒表面等离子体共振效应的金属纳米颗粒和半导体材料的光催化材料，当贵金属纳米颗粒（主要是Au和Ag，分散到半导体光催化剂中，扩张能见光吸收范围，增强光吸收能力。

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作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
来源：plasma
发布时间：2022-10-26 16:15
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plasma光催化的材质是由贵金属纳米颗粒和半导体材料构成的：
石墨材料相氮化碳(g-C3N4)作为一项无金属能见光催化剂，鉴于其独特的结构和性能，在太阳能转换和环境治理领域引起了广泛的关注。但单一的g-C3N4也存在着比表面积小、电子空穴复合率高等现象，因此提出了新型plasma通过金属表面，光催化材料的概念plasma效应对g-C3N进行表面修饰，进而提高光催化性能。
plasma 石墨材料相氮化碳(g-C3N4)仅由C.N物质组成，原料制取划算，制备方法简单，能带位置合适，光学性能好，热稳定性好，化学稳定性好。殊不知，当光照射到氮化碳表面产生电子和空穴时，光生电子在满足半导体-电解质界面之前会复合，这将极大地影响光催化的效率。
科学家们试图优化金属元素或非金属元素的混合g-C3N性能的目的g-C3N从而改变材料的电子结构，调整骨架中的新元素g-C3N光学等物理性质的作用。
plasma光催化材料，即鉴于贵金属纳米颗粒表面等离子体共振效应的金属纳米颗粒和半导体材料的光催化材料，当贵金属纳米颗粒（主要是Au和Ag，分散到半导体光催化剂中，扩张能见光吸收范围，增强光吸收能力。