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H2、N2、O2、CF4和Ar是常见的几种等离子设备的气源

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发布时间：

2022-10-15

H2、N2、O2、CF4和Ar是常见的几种等离子设备的气源：
我们常用的工作气体有氢气（H2），氮气（N2），氧气（O2），氩气（Ar），甲烷（CF4)等等。金属、半导体、氧化物和大多数聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧树脂，甚至聚四氟乙烯，在等离子设备的过程中都很容易处理。当然，我们很容易想到：去除零件上的油，去除手表上的抛光膏，去除电路板上的胶渣，去除DVD上面的水。不过，超声波清洗机往往用作去除油污和除锈。超声波清洗机波清洗机使用清洗设备。水中将添加不同的清洗剂油污以去除不同油污。这需要取决于实际情况。如果去除电路板上的胶渣，则需要使用等离子蚀刻机。该设备具有一定的技术含量，一般小工厂无法制造。
实际上等离子设备的作用不是清洗油污，而是对物体表面进行改性，增强物体表面的附着力。玻璃、硅胶、塑料等多种材料的聚合物材料，如果直接喷涂电镀，粘接效果很差。如果用等离子设备清洗物体表面，对物体表面进行改性，其附着力会有很大的提升。
“清洗表面”是等离子体清洗机技术的核心，这也是许多企业选择等离子体清洗机的重点。“清洗表面”它与电浆机和等离子设备表面处理设备密不可分。简单地说，清洁表面是在被处理材料的表面产生无数肉眼看不到的孔，并在表面产生一个新的氧化层膜。这大大增加了被处理材料的表面积，间接增加了材料表面的附着力、相容性、渗透性、扩散性等。这些性能适当应用于手机、电视、微电子、半导体、医疗、航空、汽车等行业，为许多企业解决多年未解决的问题。